[發(fā)明專利]光學(xué)測(cè)試裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711482344.0
• 申請(qǐng)日: 2017-12-29
• 公開（公告）號(hào): CN108562540A
• 公開（公告）日: 2018-09-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張維維
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G01N21/01
• 分類號(hào): G01N21/01
• 代理公司: 深圳市銘粵知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304
• 代理人: 孫偉峰;武岑飛

提供了一種光學(xué)測(cè)試裝置。所述光學(xué)測(cè)試裝置包括樣品光路和位于樣品光路上并用于放置樣品的透光孔，所述樣品比所述透光孔小，所述光學(xué)測(cè)試裝置還包括設(shè)置在所述樣品光路上的聚光機(jī)構(gòu)，以使所述樣品光路上的光經(jīng)所述聚光機(jī)構(gòu)匯聚在所述樣品上。本發(fā)明的光學(xué)測(cè)試裝置通過匯聚樣品光路上的光，縮小光斑的尺寸，從而能夠準(zhǔn)確聚焦在樣品上，在解決樣品過小的問題的同時(shí)，不降低光源強(qiáng)度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，更具體地講，涉及一種光學(xué)測(cè)試的裝置。

背景技術(shù)

在材料分析測(cè)試和半成品分析領(lǐng)域，光學(xué)性能為必不可少的一項(xiàng)，紫外可見分光光度計(jì)常用來表征紫外區(qū)和可見區(qū)的光學(xué)參數(shù)。圖1示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的紫外可見分光光度計(jì)的簡(jiǎn)要光路。如圖1所示，由光源1發(fā)射紫外光或可見光并分為樣品光路2和參比光路3。其中，參比光路3進(jìn)入檢測(cè)器4，樣品光路2穿過樣品5到達(dá)檢測(cè)器4，可以通過與參比光路3光強(qiáng)的對(duì)比得到樣品5的透過率等光學(xué)信息。由材料的光學(xué)性能結(jié)果進(jìn)行性能改善或者問題解決。

圖2示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的圖1中的樣品放置部分的左視圖，圖3示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的在圖2的樣品放置部分上放置正常樣品后的示意圖，圖4示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的在圖2的樣品放置部分上放置小樣品后的示意圖。

如圖2所示，樣品5放置在透光孔(或稱為光圈)6上，在紫外可見分光光度計(jì)中，透光孔6為直徑約2cm的圓形孔，采用夾片7固定。

參照?qǐng)D3，當(dāng)樣品5比透光孔6大時(shí)，可以直接將樣品5放置在透光孔6上。然而，如圖4所示，在實(shí)際測(cè)試過程中，樣品的大小往往難以達(dá)到2cm。當(dāng)樣品5的大小不能完全覆蓋透光孔6時(shí)，樣品5與透光孔6之間形成空白區(qū)61，因此，如圖1所示的樣品光路2上的光在穿過樣品5的同時(shí)也穿過空白區(qū)，從而會(huì)影響測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性。目前解決的方式有以下兩種。

圖5示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的一種改進(jìn)的紫外可見分光光度計(jì)的示意圖。參照?qǐng)D5，一種解決方式是在光源1處放置遮光板(或稱為光源罩、光罩)8，用于縮小光源光圈至樣品大小，使樣品光路2上的光僅僅可以穿過樣品5，而不會(huì)穿過樣品5和透光孔6之間的空白區(qū)61(參見圖4)。此種方式可以解決樣品過小的問題，但是涉及打開設(shè)備主機(jī)內(nèi)部光路，多次取放光罩8會(huì)對(duì)設(shè)備的光路產(chǎn)生不良影響。而且，部分儀器設(shè)備廠家的內(nèi)部光路不能由設(shè)備操作員打開，只能由設(shè)備維修工程師開啟，因此部分設(shè)備不適用在內(nèi)部光源處安放光罩8的方法。

圖6示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的另一種改進(jìn)的紫外可見分光光度計(jì)的示意圖。參照?qǐng)D6，另外一種解決方式是在樣品光路2和參比光路3的出光口處分別放置光罩8，用于遮擋出光口處的光源直徑，使出光口處的光圈直徑減小至樣品大小，從而使樣品光路2上的光不透過樣品5和透光孔6之間的空白區(qū)61(又稱為透光區(qū))。對(duì)于這種方式，由于光學(xué)數(shù)據(jù)的計(jì)算時(shí)依照樣品光路2的測(cè)試值與參比光路3比較得出，為了保證遮光程度一致，需要保證樣品光路2和參比光路3的光罩8的透光區(qū)的尺寸和放置位置完全相同，以避免出現(xiàn)光罩尺寸透光區(qū)尺寸大小偏差或者位置偏差，造成數(shù)據(jù)錯(cuò)誤。因此，這種解決方式對(duì)光罩的制作精度和人員操作均有極高的要求。

上述兩種方式雖然可以解決樣品5過小的問題，但是均存在一些弊端，并且，無論是在光源處還是出光口處加遮光罩8，都會(huì)降低光源的強(qiáng)度，對(duì)于某些樣品(比如透光率低的樣品)，光源強(qiáng)度低，數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性會(huì)降低。

因此，亟需開發(fā)一種新的解決方案，在解決樣品過小的問題的同時(shí)，不降低光源強(qiáng)度，提升數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的示例性實(shí)施例在于提供一種新的光學(xué)測(cè)試裝置，以克服現(xiàn)有技術(shù)中的問題。

本發(fā)明提供了一種光學(xué)測(cè)試裝置，包括樣品光路和位于樣品光路上并用于放置樣品的透光孔，所述樣品比所述透光孔小，所述光學(xué)測(cè)試裝置還包括設(shè)置在所述樣品光路上的聚光機(jī)構(gòu)，以使所述樣品光路上的光經(jīng)所述聚光機(jī)構(gòu)匯聚在所述樣品上。

可選地，所述聚光機(jī)構(gòu)可以包括一個(gè)或多個(gè)凸透鏡。