[發(fā)明專利]光波導(dǎo)元件及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711480957.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109975924B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-09-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊智仁;黃莉婷;陳東森;呂奇明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院 |
| 主分類號(hào): | G02B6/122 | 分類號(hào): | G02B6/122;G02B6/12;G02B6/136 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 秦劍 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 波導(dǎo) 元件 及其 制造 方法 | ||
一種光波導(dǎo)元件,包括下包覆層、核心層及上包覆層,核心層置于下包覆層及上包覆層之間。下包覆層的組成物包括不可被蝕刻的已閉環(huán)的聚酰亞胺及片狀粘土,其中下包覆層之片狀粘土的重量百分比介于20%至60%之間。核心層的組成物包括可被蝕刻的已閉環(huán)的聚酰亞胺及片狀粘土,其中核心層的片狀粘土的重量百分比介于20%至60%之間。上包覆層的組成物包括聚合物及片狀粘土,其中上包覆層的片狀粘土的重量百分比介于20%至60%之間。核心層的折射率大于上包覆層及下包覆層的折射率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是有關(guān)于一種光波導(dǎo)元件及其制造方法,且特別是有關(guān)于一種包括片狀粘土的光波導(dǎo)元件。
背景技術(shù)
近年來(lái),資訊通訊領(lǐng)域技術(shù)快速發(fā)展,高速且高密度數(shù)據(jù)通訊的光通訊技術(shù)進(jìn)步顯著,高速、高容量的訊號(hào)傳輸元件的開(kāi)發(fā)扮演重要角色,而其中光學(xué)訊號(hào)的處理及傳輸是極為重要的一環(huán),而光波導(dǎo)(Optical waveguide)是指用來(lái)引導(dǎo)光波傳遞的介質(zhì),為了使光的行進(jìn)依照所需要的方向傳遞,光波導(dǎo)元件通過(guò)其中不同的材料、形狀及結(jié)構(gòu)等不同折射率達(dá)到傳遞光訊號(hào)的效果。
光波導(dǎo)元件系通過(guò)核心層及包覆層形成折射界面,通過(guò)該界面反射而傳送光,因應(yīng)現(xiàn)今輕巧的通訊產(chǎn)品需求,輕薄且光傳輸品質(zhì)優(yōu)異的光波導(dǎo)元件開(kāi)發(fā)乃是當(dāng)務(wù)之急。
發(fā)明內(nèi)容
本揭露是有關(guān)于一種光波導(dǎo)元件及其制造方法。根據(jù)本揭露一實(shí)施例,提供一種光波導(dǎo)元件。光波導(dǎo)元件包括下包覆層、核心層及上包覆層。核心層設(shè)置于下包覆層與上包覆層之間。下包覆層的組成物包括不可被蝕刻的已閉環(huán)的聚酰亞胺(polyimide)及片狀粘土(clay),其中下包覆層的片狀粘土的重量百分比介于20%至60%之間。核心層的組成物包括可被蝕刻的已閉環(huán)的聚酰亞胺及片狀粘土,其中核心層的片狀粘土的重量百分比介于20%至60%之間。上包覆層的組成物包括聚合物及片狀粘土,其中上包覆層的片狀粘土的重量百分比介于20%至60%之間。核心層的折射率大于上包覆層及下包覆層的折射率。
根據(jù)本揭露的一方面,提供一種光波導(dǎo)元件的制造方法。該方法包括下列步驟:提供下包覆層、涂布核心層于下包覆層上,蝕刻核心層,以及涂布上包覆層于下包覆層上且覆蓋核心層。下包覆層的組成物系由包括不可被蝕刻的已閉環(huán)的聚酰亞胺及片狀粘土的材料所制成,其中下包覆層的片狀粘土的重量百分比介于20%至60%之間。核心層的組成物系由包括可被蝕刻的已閉環(huán)的聚酰亞胺及片狀粘土的材料所制成,其中核心層的片狀粘土的重量百分比介于20%至60%之間。上包覆層的組成物包括聚合物及片狀粘土,其中上包覆層的片狀粘土的重量百分比介于20%至60%之間。核心層的折射率大于上包覆層及下包覆層的折射率。
為了對(duì)本發(fā)明的上述及其他方面有更佳的了解,下文特舉實(shí)施例,并配合所附圖式詳細(xì)說(shuō)明如下:
附圖說(shuō)明
圖1A至圖1F繪示根據(jù)本揭露的一實(shí)施例的光波導(dǎo)元件的制造方法的剖面圖。
圖2繪示根據(jù)本揭露的一實(shí)施例的光波導(dǎo)材料層中片狀粘土的量與折射率的關(guān)系圖。
圖3A至圖3G繪示根據(jù)本揭露的又一實(shí)施例的光波導(dǎo)材料層的制造方法的剖面圖。
符號(hào)說(shuō)明
10:光波導(dǎo)元件
110、210:基板
120:下包覆層
130、131:核心層
140:上包覆層
212:離型層
230、321:光波導(dǎo)的材料層
240:保護(hù)層
250:第一溶劑
260:第二溶劑
實(shí)施方式
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