[發(fā)明專(zhuān)利]一種對(duì)置靶座磁控濺射裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711477439.3
• 申請(qǐng)日: 2017-12-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108018535A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 顧駿;顧為民;任高潮;金浩;王德苗;馮斌
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 蘇州求是真空電子有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/35;C23C14/50
• 代理公司: 南京縱橫知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林;俞翠華

1.一種對(duì)置靶座磁控濺射裝置，其特征在于：包括磁控濺射靶座、磁控濺射基臺(tái)座、夾持壓片和擋板組件；

所述磁控濺射靶座安裝在真空室上方；

所述磁控濺射基臺(tái)座安裝在真空室下方，其與所述磁控濺射靶座之間的具有夾角，所述夾角為銳角；

所述夾持壓片設(shè)于磁控濺射基臺(tái)座的頂表面，用于夾持固定待濺射基片；

所述擋板組件包括多個(gè)擋板，其中一個(gè)擋板設(shè)于磁控濺射基臺(tái)座的上方，其余的擋板分別設(shè)于對(duì)應(yīng)的磁控濺射靶座下方，用于隔開(kāi)磁控濺射靶座和磁控濺射基臺(tái)座。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種對(duì)置靶座磁控濺射裝置，其特征在于：所述對(duì)置靶座磁控濺射裝置包括至少一個(gè)磁控濺射靶座，各磁控濺射靶座沿著圓周方向均勻排布。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種對(duì)置靶座磁控濺射裝置，其特征在于：所述擋板組件中的各個(gè)擋板的結(jié)構(gòu)和尺寸均相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種對(duì)置靶座磁控濺射裝置，其特征在于：所述擋板組件中設(shè)于磁控濺射基臺(tái)座的上方的擋板的結(jié)構(gòu)和尺寸與設(shè)于磁控濺射靶座下方的擋板的尺寸不同。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種對(duì)置靶座磁控濺射裝置，其特征在于：所述擋板包括相互垂直的第一段和第二段，所述第一段的長(zhǎng)度大于第二段的長(zhǎng)度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種對(duì)置靶座磁控濺射裝置，其特征在于：所述夾持壓片由石墨材料制成。