[發明專利]硅片輸送系統在審
| 申請號: | 201711475890.1 | 申請日: | 2017-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN107993970A | 公開(公告)日: | 2018-05-04 |
| 發明(設計)人: | 邱其偉;董曉清 | 申請(專利權)人: | 無錫市江松科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/677 | 分類號: | H01L21/677 |
| 代理公司: | 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙)32260 | 代理人: | 張歡勇 |
| 地址: | 214028 江蘇省無錫市無*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硅片 輸送 系統 | ||
1.一種硅片輸送系統,其特征在于:包括花籃上下料機構、用于固定花籃且帶動花籃上下移動的升降機構以及硅片運載軌道,每個硅片運載軌道的一端伸入一個升降機構的花籃中取片,另一端設置有硅片緩存機構,且伸入該硅片緩存機構中將硅片運載至硅片緩存機構中,硅片運載軌道的端部外側還設置與之垂直的石墨舟軌道以及石墨舟,在石墨舟軌道的外側還設置有一個六軸機械手,六軸機械手的端部設有吸盤組件,所述硅片運載軌道的數量為四個,互相平行且端部對齊,所述六軸機械手的底座到外側的兩個硅片運載軌道的距離相等,其到內側的兩個硅片運載軌道的距離也相同,硅片緩存機構內設置有個多個硅片槽用于放置硅片,所述吸盤組件上設置與若干個吸盤,吸盤的間距與硅片緩存機構內的硅片槽的間距相同,且吸盤可伸入硅片槽中用于吸附硅片,位于外側的兩個硅片運載軌道上的硅片緩存機構可延硅片運載軌道方向前后移動設置。
2.根據權利要求1所述的硅片輸送系統,其特征在于:所述花籃上下料機構包括載片花籃軌道和空花籃軌道,所述載片花籃軌道位于空花籃軌道正上方,升降機構位于花籃上下料機構的端部,升降機構中設置有花籃固定裝置以及上下滑軌,花籃固定裝置可在上下滑軌上下滑動。
3.根據權利要求1或者2所述的硅片輸送系統,其特征在于:所述石墨舟軌道的兩側設置有可沿垂直石墨舟軌道方向來回移動的用于固定石墨舟的限位機構。
4.根據權利要求3所述的硅片輸送系統,其特征在于:所限機構包括滑軌以及支架,支架在絲桿作用下可沿滑軌滑動,支架上設置有若干個水平的導柱,導柱的另一個端固定設置限位條上,該限位條豎直設置,導柱位于支架與限位條之間的部分套裝有彈簧,且導柱與支架滑動配合。
5.根據權利要求1所述的硅片輸送系統,其特征在于:位于外側兩個硅片運載軌道上的硅片緩存機構包括豎直導軌以及可在豎直導軌上進行上下滑動的底座,在底座上設置有水平滑軌以及收料盒,收料盒可在絲杠作用下沿水平滑軌滑動,收料盒中設置有硅片槽用于緩存硅片。
6.根據權利要求1所述的硅片輸送系統,其特征在于:所述吸盤包括吸盤本體,吸盤本體上設置有若個中空部,中空部從吸盤本體的正面貫穿至反面,每個中空部中設置有一個吸嘴,吸嘴的拐角處通過掛鉤彈簧連接吸盤本體,吸嘴的吸附面與掛鉤彈簧擺動軌跡形成的平面垂直設置,吸盤本體的頂部設置有一個主氣道,主氣道連接若干個氣嘴,氣嘴通過氣管連通吸嘴,所述吸盤本體上設置有若干個凹槽,氣嘴位于凹槽中且與凹槽一一對應,凹槽連通中空部,所述吸盤本體的上頂面還設置有兩個螺孔,用于將吸盤本體固定在外部設備上。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





