[發明專利]基因測序儀有效
| 申請號: | 201711464458.2 | 申請日: | 2017-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN109971629B | 公開(公告)日: | 2022-07-22 |
| 發明(設計)人: | 趙磊;孫志遠;曹艷波 | 申請(專利權)人: | 長春長光華大智造測序設備有限公司 |
| 主分類號: | C12M1/34 | 分類號: | C12M1/34 |
| 代理公司: | 深圳鼎合誠知識產權代理有限公司 44281 | 代理人: | 彭家恩;羅瑤 |
| 地址: | 130033 吉林省長春*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基因 測序儀 | ||
本申請所公開的一種基因測序儀,包括:基座,設置于所述基座上方的光學成像裝置;基座中心處設有吸振塊,其可在所述基座表面滑動,工件臺設置于吸振塊上方并可在吸振塊表面移動;吸振塊與所述基座之間設有多組振動補償裝置,振動補償裝置包括沿水平方向設置的第一避振彈簧及第一阻尼件。本發明在工件臺底部設置吸振塊,工件臺運動產生的振動通過吸振塊反向運動抵消,并且吸振塊與基座之間設置的振動補償裝置可將吸振塊復位,降低或避免來自工件臺的振動傳遞至光學成像裝置;固定架與基座之間設置的隔振器能夠阻隔來自外部地基及工件臺溢出的振動,避免振動傳遞給光學成像裝置。
技術領域
本申請涉及生化領域,尤其涉及一種基因測序儀。
背景技術
高通量基因測序儀包括設置在基座內的工件臺,以及設置在工件臺上方的光學成像裝置。由于光學成像裝置對振動環境有較高的要求,為了避免工件臺帶來的振動影響光學成像裝置正常運行,需要對工件臺運動引入的振動進行抑制。尤其是隨著通量指標的日益增加,工件臺的穩定時間越來越短、速度和加速度越來越高,工件臺運動帶來的反作用力會給基礎框架帶來相對高頻、幅值較大的沖擊。因此需要對高通量基因測序儀的振動,尤其內部工件臺的振動進行抑制和隔離。同時為了增加高通量基因測序儀的市場競爭力,在進行振動抑制時,需要關注相關零部件的成本約束。
現有的抑制該振動的方式通常是在地基和基座之間采用主動隔振裝置,主動隔振裝置通過其自帶的傳感器(速度傳感器或者加速度傳感器)實時測量框架上的振動,采用自帶的執行器(洛倫茲電機或者壓電驅動器)產生反作用對振動進行削弱和抑制,能夠對來自地基和內部運動部件的振動進行有效隔離。
雖然這種采用主動隔振能夠對來自地基和內部運動部件一定頻段的振動進行有效隔離,但是主動隔振裝置價格較貴,尤其是針對不同結構形式不同重量的框架、不同的運動狀態的工件臺需要定制專用的主動隔振裝置,嚴重增加了設備的成本。同時,主動隔振裝置結構復雜,故障率高,對運行環境要求苛刻。
發明內容
本發明提供一種用于基因測序儀,旨在解決現有基因測序儀的振動抑制裝置成本高,結構復雜且故障率高的問題。
本申請所公開的一種用于基因測序儀,包括:
基座,所述基座上表面設有向上開口的腔體,所述腔體底部為平面;
光學成像裝置,所述光學成像裝置設置于所述基座上方;
工件臺,所述工件臺設置于所述腔體內;
吸振塊,所述吸振塊設置于所述腔體中心處,并可在所述腔體底部移動,所述工件臺設置于所述吸振塊上方,并可在所述吸振塊表面移動;
振動補償裝置,所述振動補償裝置包括沿水平方向設置的第一避振彈簧及第一阻尼件,所述振動補償裝置于所述吸振塊與所述基座側壁之間設有多組。
所述的基因測序儀,其中,所述工件臺與所述吸振塊之間為氣浮接觸,所述吸振塊與所述基座底部為氣浮接觸。
所述的基因測序儀,其中,所述基座上方設有用于承載所述光學成像裝置的固定架,所述固定架與所述基座側壁之間設有隔振器。
所述的基因測序儀,其中,所述隔振器包括沿豎直方向設置的第二避振彈簧及第二阻尼件。
所述的基因測序儀,其中,所述吸振塊上表面設有可供所述工件臺運動的活動區,所述吸振塊上設有用于驅動所述工件臺運動的直線電機。
所述的基因測序儀,其中,所述基座底部設有用于隔振的橡膠墊。
所述的基因測序儀,其中,所述吸振塊與所述基座之間設置四組振動補償裝置,所述四組振動補償裝置分別設置于所述吸振塊水平橫向及縱向的四個方位。
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