[發明專利]基因測序儀有效
| 申請號： | 201711464458.2 | 申請日： | 2017-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN109971629B | 公開（公告）日： | 2022-07-22 |
| 發明（設計）人： | 趙磊;孫志遠;曹艷波 | 申請（專利權）人： | 長春長光華大智造測序設備有限公司 |
| 主分類號： | C12M1/34 | 分類號： | C12M1/34 |
| 代理公司： | 深圳鼎合誠知識產權代理有限公司 44281 | 代理人： | 彭家恩;羅瑤 |
| 地址： | 130033 吉林省長春*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基因 測序儀 | ||
1.一種基因測序儀，其特征在于，包括：
基座；
光學成像裝置，所述光學成像裝置設置于所述基座上方；
工件臺；
吸振塊，所述吸振塊設置于所述基座上表面中心處，并可在所述基座表面移動，所述工件臺設置于所述吸振塊上表面，并可在所述吸振塊表面移動；
振動補償裝置，所述振動補償裝置包括沿水平方向設置的第一避振彈簧及第一阻尼件，所述振動補償裝置于所述吸振塊與所述基座之間設有多組；
所述基座上方設有用于承載所述光學成像裝置的固定架，所述固定架與所述基座之間設有隔振器；
所述吸振塊上表面設有可供所述工件臺運動的活動區，所述吸振塊上設有用于驅動所述工件臺運動的直線電機，當直線電機驅動工件臺在吸振塊表面運動時，由于動量守恒定律，吸振塊會反向運動，從而將工件臺產生的振動抵消；
所述活動區呈半包圍結構，其頂部開口且正對所述光學成像裝置。
2.如權利要求1所述的基因測序儀，其特征在于，所述工件臺與所述吸振塊表面之間為氣浮接觸，所述吸振塊與所述基座表面為氣浮接觸。
3.如權利要求1所述的基因測序儀，其特征在于，所述隔振器包括沿豎直方向設置的第二避振彈簧及第二阻尼件。
4.如權利要求1所述的基因測序儀，其特征在于，所述基座底部設有用于隔振的橡膠墊。
5.如權利要求1所述的基因測序儀，其特征在于，所述吸振塊與所述基座之間設置四組振動補償裝置，所述四組振動補償裝置分別設置于所述吸振塊水平橫向及縱向的四個方位。
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