[發明專利]氧化鋅納米材料及其制備方法、發光器件有效
| 申請號： | 201711464371.5 | 申請日： | 2017-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN109970356B | 公開（公告）日： | 2020-09-25 |
| 發明（設計）人： | 何斯納;吳龍佳;吳勁衡 | 申請（專利權）人： | TCL科技集團股份有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/34 | 分類號： | C03C17/34;H01L33/14 |
| 代理公司： | 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414 | 代理人： | 李艷麗 |
| 地址： | 516006 廣東省惠州市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化鋅 納米 材料 及其 制備 方法 發光 器件 | ||
1.一種氧化鋅納米材料的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：
提供溶解有鋅前驅體鹽、鎵源和氮源的混合溶液；
在堿性條件下，混合反應得到Ga、N共摻雜的氧化鋅晶體溶液；
將所述Ga、N共摻雜的氧化鋅晶體溶液沉積在基板上進行退火處理，制備得到所述氧化鋅納米材料；
其中，所述混合溶液中的鎵離子和氮離子摩爾量之和與鋅離子的摩爾量之比為(0.001-0.01)：1，鎵：氮的摩爾比控制在1：(2-3)；
在pH值為12-13條件下，混合反應得到Ga、N共摻雜的氧化鋅晶體溶液；
所述退火處理的溫度為300℃-350℃。
2.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述混合溶液中鋅離子和鎵離子的濃度之和為0.2mol/L-1mol/L。
3.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，通過向所述混合溶液加入有機堿和/或無機堿，調節pH值為12-13，混合反應得到Ga、N共摻雜的p型氧化鋅晶體溶液，其中按有機堿和/或無機堿的摩爾量與鋅離子、鎵離子和氮離子摩爾量之和的比為(1.8-2.5)：1，向所述混合溶液加入有機堿和/或無機堿。
4.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，
所述鋅前驅體鹽選自醋酸鋅、硝酸鋅、氯化鋅、硫酸鋅和二水合乙酸鋅中的至少一種；和/或
所述鎵源選自硝酸鎵和氯化鎵的至少一種；和/或
所述氮源選自尿素、硫酸銨、硝酸銨和氯化銨中的至少一種。
5.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，在60℃-90℃條件下，混合反應得到Ga、N共摻雜的氧化鋅晶體溶液。
6.一種發光器件，包括空穴傳輸層，其特征在于，所述空穴傳輸層的材料包含權利要求1至5任一項所述的制備方法制得的氧化鋅納米材料。
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