[發明專利]一種基于紫外固化的新型光柵復制方法

在審

• 申請號: 201711460938.1
• 申請日: 2017-12-28
• 公開（公告）號: CN107884856A
• 公開（公告）日: 2018-04-06
• 發明（設計）人: 盧禹先;王玉清;劉暢;姚玉潔;潘明忠;尹祿
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海技術物理研究所杭州大江東空間信息技術研究院
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18
• 代理公司: 成都頂峰專利事務所(普通合伙)51224
• 代理人: 何紅信

技術領域

本發明涉及光柵制作相關技術領域，具體地說是涉及一種基于紫外固化的新型光柵復制方法。

背景技術

目前，母版光柵的制作具有難度大、周期長等特點，該特點大大增加了光柵的制作成本。

復制光柵是一種通過柔性材料熱固化將母版光柵表面圖形轉移至基底表面的光柵。此種光柵可以利用母版光柵大量制作，所以能夠大大降低了光柵制作成本。

但現階段，復制光柵主要利用環氧樹脂熱固化這一性質來實現光柵的制作，因其對固化溫度的特殊要求導致復制光柵制作周期較長，制作速率較慢等現實問題。

所以，尋求一種實現快速制作復制光柵的方法意義重大。

發明內容

針對現有技術之不足，本發明提供了一種基于紫外固化的新型光柵復制方法。

本發明的基于紫外固化的新型光柵復制方法的具體技術方案如下：

一種基于紫外固化的新型光柵復制方法，其包括如下步驟：

步驟S1：提供一母版光柵和基底；

步驟S2：對所述步驟S1所提供的母版光柵和基底進行超聲波清洗；

步驟S3：在完成所述步驟S2后的母版光柵上均勻涂覆潤滑油；

步驟S4：在完成所述步驟S3后的母版光柵上均勻涂覆紫外固化膠；

步驟S5：將所述步驟S1中所提供的所述基底置于經過所述步驟S4處理后的所述母版光柵上；并采用紫外光對其進行照射，使得所述紫外固化膠固化；

步驟S6：完成所述步驟S5后，將所述母版光柵和所述基底分離，使得在所述基底上形成復制光柵；

步驟S7：在所述復制光柵表面形成反射膜。

本發明的基于紫外固化的新型光柵復制方法，由于復制過程中用到的紫外固化膠對環境溫度沒有特殊要求，只需要用紫外光進行適當照射即可實現復制光柵的制作；所以本發明提出的方法可以有效提高復制光柵生產速率，解決現有復制光柵制作工藝中存在的制作周期較長，生產速率較慢這一問題；其是一種易于實現的能夠顯著提高生產速率的方法，對增加復制光柵產量具有直接的重要價值。

進一步的，還包括步驟S8：對完成所述步驟S7后的復制光柵進行超聲波清洗。

通過對完成鍍膜后的復制光柵進行超聲波清洗，可以去除其表面的殘留物。

根據一個優選的實施方式，在所述步驟S2中，對所述母版光柵和所述基底進行超聲波清洗的步驟包括：

S201：將體積比為1:1:5的NH₄OH、H₂O₂和H₂O組成的混合液作為清洗液，用其對母版光柵和基底進行超聲波清洗；

S202：將體積比為1:1:6的HCl、H₂O₂和H₂O組成的混合液作為清洗液，用其對完成所述步驟S201后的母版光柵和基底進行超聲波清洗；

S203：將甲苯作為清洗液，用其對完成所述步驟S202后的母版光柵和基底進行超聲波清洗；

S204：將丙酮作為清洗液，用其對完成所述步驟S203后的母版光柵和基底進行超聲波清洗；

S205：將酒精作為清洗液，用其對完成所述步驟S204后的母版光柵和基底進行超聲波清洗；

S206：將蒸餾水作為清洗液，用其對完成所述步驟S205后的母版光柵和基底進行超聲波清洗。

通過采用體積比為1:1:5的NH₄OH、H₂O₂和H₂O組成的混合液以及體積比為1:1:6的HCl、H₂O₂和H₂O組成的混合液作為清洗液對母版光柵和基底進行超聲波清洗可以去除母版光柵以及基底表面的顆粒沾污(粒子)、部分金屬離子沾污；利用甲苯、丙酮、酒精和水作為清洗液并按照甲苯→丙酮→酒精→水的順序對母版光柵及基底表面進行超聲波清洗可以對母版光柵及基底表面附著的有機雜質進行清洗；通過對母版光柵以及基底表面的超聲波清洗可以保證清洗后母版光柵與基底表面具有良好的清潔度。

根據一個優選的實施方式，在所述步驟S3中，在所述母版光柵上均勻涂覆潤滑油的步驟包括：

S301：利用真空鍍膜機將所用潤滑油中所包含氣泡抽出；

S302：通過旋涂法將經過所述步驟S301處理后的潤滑油均勻涂覆于母版光柵的表面。