[發(fā)明專利]一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣檢測(cè)裝置及其采樣方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711460582.1
• 申請(qǐng)日: 2017-12-28
• 公開（公告）號(hào): CN108254517B
• 公開（公告）日: 2019-06-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張俊軒;王立宛;王紫;何燕芳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州華清環(huán)境監(jiān)測(cè)有限公司
• 主分類號(hào): G01N33/18
• 分類號(hào): G01N33/18;B08B9/093
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明涉及水質(zhì)采樣技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣檢測(cè)裝置及其采樣方法。所述檢測(cè)裝置包括：檢測(cè)容器，檢測(cè)單元，清洗單元，所述升降單元，應(yīng)用本發(fā)明所述檢測(cè)裝置、及方法，在同一檢測(cè)地點(diǎn)檢測(cè)不同位置的水樣，避免檢測(cè)裝置的來回搬動(dòng)，確保檢測(cè)的準(zhǔn)確度；通過控制單元自動(dòng)控制方式，實(shí)現(xiàn)逐個(gè)對(duì)進(jìn)水支管的水樣檢測(cè)；通過清潔盤體的高壓混合水流清潔檢測(cè)容器，確保檢測(cè)前的環(huán)境變量為同等環(huán)境，挺高整個(gè)檢測(cè)裝置的精準(zhǔn)性；通過螺旋凹槽與清洗盤體的高壓混合水流，實(shí)現(xiàn)清洗圓盤從下自上的清潔，避免水樣粘覆在檢測(cè)容器的內(nèi)壁；通過利用浮力的補(bǔ)充作用，實(shí)現(xiàn)整個(gè)清潔裝置穩(wěn)定上升，確保整個(gè)檢測(cè)裝置的穩(wěn)定工作。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及水質(zhì)采樣技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣檢測(cè)裝置及其采樣方法。

背景技術(shù)

在現(xiàn)有技術(shù)中，利用傳感器進(jìn)行檢測(cè)的技術(shù)通常需要檢測(cè)多個(gè)地方的水質(zhì)，例如在水產(chǎn)養(yǎng)殖技術(shù)中，在每一個(gè)養(yǎng)殖區(qū)或海域中設(shè)置一個(gè)水樣檢測(cè)傳感器，由于水樣檢測(cè)傳感器的造價(jià)較高，在大面積的養(yǎng)殖場(chǎng)中勢(shì)必會(huì)增加一大筆額外開支，極大的增加了生產(chǎn)成本。

在傳統(tǒng)方式中，利用抽水泵分別采集各個(gè)養(yǎng)殖區(qū)或海域等一切需較密集檢測(cè)的水樣，然后再在同一個(gè)檢測(cè)裝置中進(jìn)行檢測(cè)；但該方法還是存在檢測(cè)成本費(fèi)用高，需要多個(gè)地點(diǎn)搬運(yùn)檢測(cè)裝置，造成測(cè)量水樣的精度誤差，而目前還沒有出現(xiàn)解決此類問題的產(chǎn)品，或方法。

發(fā)明內(nèi)容

為了有效解決上述問題，本發(fā)明提供一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣檢測(cè)裝置及其采樣方法。

本發(fā)明的具體技術(shù)方案如下：一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣檢測(cè)裝置，所述檢測(cè)裝置包括：

檢測(cè)容器，所述檢測(cè)容器內(nèi)周壁具有螺旋上升的螺旋凹槽；

檢測(cè)單元，所述檢測(cè)單元設(shè)置在所述檢測(cè)容器底部；

清洗單元，所述清洗單元將增壓后的清潔水流，沿所述螺旋凹槽的螺旋方向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)噴射；

所述升降單元，所述升降單元根據(jù)清洗單元上升位置，反饋至檢測(cè)裝置選擇工作模式，進(jìn)行清潔所述檢測(cè)容器。

進(jìn)一步地，所述檢測(cè)裝置還包括進(jìn)水總管、若干個(gè)進(jìn)水支管、排水管、及控制單元；

所述檢測(cè)容器底部連接所述進(jìn)水總管、及排水管；

所有所述進(jìn)水支管共同連接所述進(jìn)水總管。

進(jìn)一步地，所述升降單元包括升降管、套筒、及卡位組件；

所述套筒為內(nèi)部貫穿的筒狀體，并豎直設(shè)置在所述檢測(cè)容器頂部的中間位置，并所述套筒一端的開口面與所述檢測(cè)容器的頂面平齊，所述套筒內(nèi)套設(shè)所述升降管；

所述套筒內(nèi)壁上設(shè)置第一導(dǎo)電體、第二導(dǎo)電體，所述升降管外壁上水平環(huán)繞設(shè)置接觸電極，所述第一導(dǎo)電體與第二導(dǎo)電體可分別與所述接觸電極相互接觸。

進(jìn)一步地，在所述套筒開口的周側(cè)位置設(shè)置有卡位組件，所述卡位組件包括第一卡位裝置、及第二卡位裝置，所述第一卡位裝置與第二卡位裝置分別相對(duì)設(shè)置在所述套筒頂部開口周側(cè)；

所述升降管具有與第一卡位裝置、及第二卡位裝置相互卡位限定的卡位槽。

進(jìn)一步地，所述清洗單元包括噴射組件、及清洗盤體，所述噴射組件豎直設(shè)置在所述升降管內(nèi)部；

所述清洗盤體為內(nèi)部具有若干個(gè)導(dǎo)向引流的流道，所有所述流道一端與所述升降管連通，另一端位于所述清洗盤體的周側(cè)壁開口處，相鄰的流道之間的相隔的角度一致，形成以所述清洗盤體的圓心為中心均勻向外輻射的流道結(jié)構(gòu)。

進(jìn)一步地，所述流道接近所述清洗盤體的一端具有一個(gè)噴射部；

所述噴射部為開設(shè)在所述清洗盤體周壁上的弧形開口結(jié)構(gòu)。