[發(fā)明專利]一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣檢測(cè)裝置及其采樣方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711460582.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108254517B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-06-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張俊軒;王立宛;王紫;何燕芳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣州華清環(huán)境監(jiān)測(cè)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N33/18 | 分類號(hào): | G01N33/18;B08B9/093 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 510535 廣東省廣州市高新技*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢測(cè)裝置 檢測(cè) 水質(zhì)采樣 高壓混合 多點(diǎn)位 采樣 水樣 自動(dòng)控制方式 環(huán)境變量 進(jìn)水支管 螺旋凹槽 清潔盤體 清潔裝置 清洗單元 清洗盤體 升降單元 水流清潔 水樣檢測(cè) 準(zhǔn)確度 搬動(dòng) 浮力 內(nèi)壁 粘覆 清洗 清潔 補(bǔ)充 應(yīng)用 | ||
1.一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣檢測(cè)裝置,其特征在于,所述檢測(cè)裝置包括:
檢測(cè)容器,所述檢測(cè)容器內(nèi)周壁具有螺旋上升的螺旋凹槽;
檢測(cè)單元,所述檢測(cè)單元設(shè)置在所述檢測(cè)容器底部;
清洗單元,所述清洗單元將增壓后的清潔水流,沿所述螺旋凹槽的螺旋方向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)噴射;
升降單元,所述升降單元根據(jù)清洗單元上升位置,反饋至檢測(cè)裝置選擇工作模式,進(jìn)行清潔所述檢測(cè)容器;
所述升降單元包括升降管、套筒、及卡位組件;
所述套筒為內(nèi)部貫穿的筒狀體,并豎直設(shè)置在所述檢測(cè)容器頂部的中間位置,并所述套筒一端的開(kāi)口面與所述檢測(cè)容器的頂面平齊,所述套筒內(nèi)套設(shè)所述升降管;
所述套筒內(nèi)壁上設(shè)置第一導(dǎo)電體、第二導(dǎo)電體,所述升降管外壁上水平環(huán)繞設(shè)置接觸電極,所述第一導(dǎo)電體與第二導(dǎo)電體可分別與所述接觸電極相互接觸;
在所述套筒開(kāi)口的周側(cè)位置設(shè)置有卡位組件,所述卡位組件包括第一卡位裝置、及第二卡位裝置,所述第一卡位裝置與第二卡位裝置分別相對(duì)設(shè)置在所述套筒頂部開(kāi)口周側(cè);
所述升降管具有與第一卡位裝置、及第二卡位裝置相互卡位限定的卡位槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣檢測(cè)裝置,其特征在于,所述檢測(cè)裝置還包括進(jìn)水總管、若干個(gè)進(jìn)水支管、排水管、及控制單元;
所述檢測(cè)容器底部連接所述進(jìn)水總管、及排水管;
所有所述進(jìn)水支管共同連接所述進(jìn)水總管。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣檢測(cè)裝置,其特征在于,所述清洗單元包括噴射組件、及清洗盤體,所述噴射組件豎直設(shè)置在所述升降管內(nèi)部;
所述清洗盤體為內(nèi)部具有若干個(gè)導(dǎo)向引流的流道,所有所述流道一端與所述升降管連通,另一端位于所述清洗盤體的周側(cè)壁開(kāi)口處,相鄰的流道之間的相隔的角度一致,形成以所述清洗盤體的圓心為中心均勻向外輻射的流道結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣檢測(cè)裝置,其特征在于,所述流道接近所述清洗盤體的一端具有一個(gè)噴射部;
所述噴射部為開(kāi)設(shè)在所述清洗盤體周壁上的弧形開(kāi)口結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣檢測(cè)裝置,其特征在于,所述螺旋凹槽為槽寬一致,并從檢測(cè)容器底部開(kāi)始螺旋上升的半圓狀凹槽結(jié)構(gòu);
所述檢測(cè)容器內(nèi)周壁與所述清洗盤體外周壁的距離為15mm-45mm。
6.一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣采樣方法,其特征在于,
所述采樣方法包括以下步驟:
S1:采用權(quán)利要求3-5任一項(xiàng)所述的多點(diǎn)位水質(zhì)采樣檢測(cè)裝置,將升降管通過(guò)卡位組件卡接在所述檢測(cè)裝置內(nèi)部上方;
控制進(jìn)水總管、及對(duì)應(yīng)的支管,注入采樣水;
S2:通過(guò)檢測(cè)單元檢測(cè)采樣水,并將檢測(cè)結(jié)果傳輸至外部設(shè)備,完成對(duì)一個(gè)采樣水的檢測(cè);
S3:卡位組件松開(kāi)升降管,清洗盤體沿套筒下降,并浮在采樣水上方,打開(kāi)排水管,釋放采樣水;
S4:所述清洗盤體隨采樣水的排出而下降,落到所述檢測(cè)容器內(nèi)部底部;
S5:所述清洗盤體處于第一工作模式,外部的輸水管對(duì)所述升降管注入穩(wěn)定高壓混合水流,水流經(jīng)過(guò)所述噴射組件,形成高壓混合水流;
S6:高壓混合水流經(jīng)過(guò)清洗盤體內(nèi)的流道,傾斜向下的旋轉(zhuǎn)噴射出清洗盤體;
S7:噴射出的高壓混合水流與檢測(cè)容器的螺紋凹槽相互作用,對(duì)清洗圓盤提供一個(gè)旋轉(zhuǎn)的上升力,在所述清洗圓盤逐步穩(wěn)定上升過(guò)程中,清潔所述檢測(cè)容器的內(nèi)壁;
S8:所述升降管沿套筒逐步穩(wěn)定上升,在接觸電極與第一導(dǎo)電體接觸后,所述清洗盤體處于第二工作模式,控制單元降低外部輸水管的注水速度,注入穩(wěn)定低壓水流,所述清洗圓盤緩慢上升;
S9:在接觸電極與第二導(dǎo)電體接觸后,控制單元控制卡位組件動(dòng)作,通過(guò)卡位組件將升降管卡在檢測(cè)容器的內(nèi)部上方,外部輸水管停止注水;
S10:打開(kāi)排水管,排出清潔用水,等待下一組采樣水檢測(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述一種多點(diǎn)位水質(zhì)采樣采樣方法,其特征在于,在步驟S7中,在清洗盤體的底面設(shè)置浮臺(tái);
所述浮臺(tái)包括中心浮臺(tái)、及若干個(gè)圓環(huán)浮臺(tái),所述中心浮臺(tái)為圓盤狀結(jié)構(gòu),所述圓環(huán)浮臺(tái)為圓環(huán)狀結(jié)構(gòu),所述中心浮臺(tái)與所述清洗盤體同心設(shè)置,所述圓環(huán)浮臺(tái)繞所述中心浮臺(tái)中心環(huán)繞設(shè)置。
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