[發明專利]一種金屬薄膜退鍍方法及系統

有效

• 申請號: 201711459900.2
• 申請日: 2017-12-28
• 公開（公告）號: CN108103566B
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 桑建新;董耀宗;胡立偉
• 申請（專利權）人: 上海冠眾光學科技有限公司;蘇州印象鐳射科技有限公司
• 主分類號: C25F5/00
• 分類號: C25F5/00;C25F7/00
• 代理公司: 上海碩力知識產權代理事務所(普通合伙) 31251
• 代理人: 郭桂峰

本發明提供了一種金屬薄膜退鍍方法及系統，其中方法包括步驟S00根據壓印有全息圖光柵微結構的金屬薄膜的參數設置電解液的參數；步驟S10將所述壓印有全息圖光柵微結構的金屬薄膜放置于有所述電解液的電解電場中進行退鍍；步驟S20在預設條件下，將所述壓印有全息圖光柵微結構的金屬薄膜的無光柵微結構區域退鍍成透明狀態。系統包括退鍍裝置；所述退鍍裝置包括電解液水槽、電極、直流電源。本發明通過將壓印有全息圖光柵微結構的金屬薄膜放置于有電解液的電解電場中，實現精準選擇性退鍍的目的。

技術領域

本發明涉及真空鍍膜技術領域，尤指一種金屬薄膜退鍍方法及系統。

背景技術

真空鍍膜是指在真空環境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)。在所有被鍍材料中，以塑料薄膜最為常見，在塑料薄膜表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜，即可賦予塑料程亮的金屬外觀，合適的金屬源還可大大增加材料表面耐磨性能，大大拓寬了塑料的裝飾性和應用范圍。但是，隨著人們對美好外觀的追求，單純的金屬色已不能滿足裝飾需求，希望能有特定的圖案來表現金屬光澤，即有圖案的部分有金屬鍍膜，而圖案以外的部分無金屬膜呈現透明效果，這樣使包裝更加豐富多彩更具觀賞性和營銷效果。

現有許多工藝方法可以達到這樣的結果。方法一，通過在金屬鍍鋁膜面上印刷油墨起到保護作用，然后再將鍍膜浸入1％-3％的氫氧化鈉刻蝕溶液中，經過化學反應生成氫氧化鋁后使鍍鋁層退掉膜變透明。方法二，首先在透明的薄膜上以一種水溶性油墨印刷所要圖案的反相圖作為遮蓋掩膜，然后再去真空鍍鋁，這時鍍鋁層有部分直接鍍在薄膜表面，也有鍍在油墨之上的部分，當鍍膜浸入水溶液時，由于水溶性油墨溶于水，而將附著其上的鍍鋁層脫落而形成透明區域，達到局部金屬圖案的效果。另外，在全息防偽行業，為提高防偽標識的安全等級，提出了更加精細的定位脫鋁解決方案，比如，在已經模壓有全息圖的真空鍍鋁薄膜上再按上述兩種工藝方式精準套印，而達到全息圖案與定位脫鋁圖案的完美結合，使防偽等級更高一層。但這種工藝的定位精度取決于全息膜卷的加工精度和印刷設備與工藝的套印精度。以上方法的缺點是全息圖和精細脫鋁圖像不是一次設計制作，會受加工、套印等影響，產生一定的定位誤差，難以達到更為復雜、精細的全息脫鋁圖像的工藝要求。

針對上述情況，本申請提供了一種解決以上技術問題的技術方案。

發明內容

本發明的目的是提供一種金屬薄膜退鍍方法及系統，通過將壓印有全息圖光柵微結構的金屬薄膜放置于有電解液的電解電場中，實現精準選擇性退鍍。

本發明提供的技術方案如下：

一種金屬薄膜退鍍方法，包括：步驟S00根據壓印有全息圖光柵微結構的金屬薄膜的參數設置電解液的參數；步驟S10將所述壓印有全息圖光柵微結構的金屬薄膜放置于有所述電解液的電解電場中進行退鍍；步驟S20在預設條件下，將所述壓印有全息圖光柵微結構的金屬薄膜的無光柵微結構區域退鍍成透明狀態。

優選的，所述壓印有全息圖光柵微結構的金屬薄膜的金屬鍍層的厚度為30納米以下。

優選的，所述電解液的成分包括至少1種鹽，濃度設置為0-38％。

優選的，所述電解液的成分還包括至少1種表面活性劑，濃度設置為0-0.05％。

優選的，所述電解電場包括電流密度設置為0-0.5安培每平方米，電壓設置為2-10伏特。

優選的，步驟S20中在預設條件下包括：預設時間，所述預設時間設置為0-100秒。

優選的，步驟S20中在預設條件下還包括：預設溫度，所述預設溫度設置為20-65攝氏度。

優選的，步驟S20之后還包括：步驟S30將經過退鍍的所述壓印有全息圖光柵微結構的金屬薄膜浸入水中進行清洗。