[發明專利]一種用于磁控濺射的以氣體為摻雜源的供氣裝置在審
| 申請號： | 201711456534.5 | 申請日： | 2017-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN108165942A | 公開（公告）日： | 2018-06-15 |
| 發明（設計）人： | 沈洪雪;王天齊;金克武;姚婷婷;楊勇;李剛 | 申請（專利權）人： | 中建材蚌埠玻璃工業設計研究院有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源專利商標事務所 34113 | 代理人： | 尹杰 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 供氣環 磁控濺射 環形腔體 定量分析 供氣裝置 摻雜量 摻雜源 出氣孔 進氣管 摻雜 摻雜氣體 供氣系統 連接吊耳 氣體分布 有效促進 不均勻 多元素 離子化 鍍膜 均布 離化 內壁 連通 開發 研究 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于磁控濺射的以氣體為摻雜源的供氣裝置，其特征在于：包括供氣環（1），在供氣環（1）的內壁（2）上均布一組出氣孔（3），在供氣環（1）內設有環形腔體，在每個出氣孔（3）均與環形腔體連通，在供氣環（1）上還連接進氣管（4），進氣管（4）連接環形腔體，在供氣環（1）上還連接吊耳（5）。
2.根據權利要求1所述的一種用于磁控濺射的以氣體為摻雜源的供氣裝置，其特征在于：在所述供氣環（1）上還連接兩個所述吊耳（5），兩個吊耳（5）設置在供氣環（1）對稱的位置上。
3.根據權利要求1所述的一種用于磁控濺射的以氣體為摻雜源的供氣裝置，其特征在于：所述吊耳（5）包括連接在供氣環（1）上的吊板，在吊板上設有折板。
4.根據權利要求1所述的一種用于磁控濺射的以氣體為摻雜源的供氣裝置，其特征在于：所述出氣孔（3）設置在供氣環（1）同于橫截面上。
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