[發(fā)明專利]一種堿性蝕刻液的循環(huán)再生方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711453605.6
• 申請(qǐng)日: 2017-12-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109972140A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-07-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅寶奎;陳永江
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州市吉池環(huán)保科技有限公司
• 主分類號(hào): C23F1/46
• 分類號(hào): C23F1/46;C23F1/08;C22B7/00;C22B15/00;C25C1/12
• 代理公司: 北京君華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11515
• 代理人: 朱慶華

1.一種堿性蝕刻液的循環(huán)再生方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1：將再生液槽中的再生蝕刻液輸送至堿性蝕刻線（SES）進(jìn)行蝕刻，而后將產(chǎn)生的廢蝕液收集到蝕刻廢液槽中；

S2：將廢蝕液從蝕刻廢液槽輸送至銅萃取分離器中，用銅萃取劑分離捕集銅離子；

S3：萃取后將廢蝕液與萃取劑分液，將廢蝕液收集至再生液調(diào)配罐中，調(diào)配廢蝕液的濃度，重新輸送至再生液槽中；

S4：將銅萃取劑輸送至反萃取分離器中，用硫酸溶液反萃取銅離子并分液，制備含銅子液以便于處理廢棄的銅離子。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的堿性蝕刻液的循環(huán)再生方法，其特征在于，所述步驟S1中還包括：所述的再生液槽內(nèi)的比重超出閾值時(shí)，由比重控制儀自動(dòng)控制再生液調(diào)配罐中溶液的添加。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的堿性蝕刻液的循環(huán)再生方法，其特征在于，步驟S3中所述的調(diào)配方式為：向再生液調(diào)配罐中加入蝕板鹽、液氨和堿性蝕刻添加劑，用于調(diào)節(jié)溶液的pH和各組分含量。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的堿性蝕刻液的循環(huán)再生方法，其特征在于，步驟S3中所述的再生液的調(diào)配參數(shù)為：1000L廢蝕液需添加氯化銨35kg、液氨（10%）160L和堿性蝕刻添加劑3L。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的堿性蝕刻液的循環(huán)再生方法，其特征在于，步驟S1中還包括，對(duì)再生液槽中的溶液進(jìn)行攪拌，保持溶液均勻。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的堿性蝕刻液的循環(huán)再生方法，其特征在于，步驟S3中還包括：將萃取后的含銅有機(jī)溶液輸送至反萃分離器中用硫酸進(jìn)行反萃取，并分液，分別得到萃取劑和硫酸鹽溶液。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的堿性蝕刻液的循環(huán)再生方法，其特征在于，步驟S4中還包括：將含銅子液溶液輸送至電解槽中作為電解液，通過(guò)電解制備銅板。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的堿性蝕刻液的循環(huán)再生方法，其特征在于，步驟S4中的電解過(guò)程中，采用直流電通電作用，控制液溫度為35-45℃，電解時(shí)電解液保持銅離子20-30g/L，電解液的總體積保持不變。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的堿性蝕刻液的循環(huán)再生方法，其特征在于，步驟S4中還包括：將反萃分離器中剩余的萃取劑輸送至萃取劑儲(chǔ)槽中暫時(shí)儲(chǔ)存，洗滌后再次輸送至銅萃取分離器中。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的堿性蝕刻液的循環(huán)再生方法，其特征在于，所述生產(chǎn)方法還包括S5：將電解后的溶液輸送至PCB廢液綜合處理塔中進(jìn)行處理。