[發明專利]一種酸性蝕刻液再生循環方法

在審

• 申請號: 201711453601.8
• 申請日: 2017-12-28
• 公開（公告）號: CN109972139A
• 公開（公告）日: 2019-07-05
• 發明（設計）人: 羅寶奎;陳永江
• 申請（專利權）人: 廣州市吉池環保科技有限公司
• 主分類號: C23F1/46
• 分類號: C23F1/46;C25C1/12;C23F1/18
• 代理公司: 北京君華知識產權代理事務所(普通合伙) 11515
• 代理人: 朱慶華

一種酸性蝕刻液的再生循環方法包括如下步驟：S1：將PCB酸性蝕刻線上產生的酸性蝕刻廢液收集至蝕刻廢液槽中；S2：將蝕刻廢液槽中的廢液輸送至電解槽中，通過電解作用在陰極區將廢液中的銅離子析出形成電解銅片；S3：將電解槽陽極區的廢液輸送至酸霧吸收缸中；S4：向酸霧吸收缸中的廢液輸送氯氣，通過與氯氣的反應制備再生蝕刻液；S5：將酸霧吸收缸中的再生蝕刻液輸送至酸性蝕刻線（DES）中用于蝕刻工藝，實現酸性蝕刻液的再生循環。本發明提供的方法使再生蝕刻液的回用率可以達到100%，減少約80%的鹽酸和氧化劑的添加，大大降低了物料成本。

技術領域

本發明涉及廢液回收技術領域，具體涉及一種酸性蝕刻液再生循環方法。

背景技術

目前的電子設備主要是通過焊接在PCB板（電子印刷電路板）上的部件組裝而成的。這些PCB板的制造過程中使用大量的銅金屬。高級的電子設備，如計算機，需要結構非常復雜的PCB板及其相應的生產工藝。這些PCB板通常為多層式，包括內層和外層，將內層通過蝕刻溶液進行蝕刻。

目前的PCB板通常包括一個塑料或者層壓板制成的基材和沉積在基材上的覆銅薄膜。導電圖案，即布置圖由覆蓋在覆銅薄膜表面的防護性塑料膜（光致抗蝕劑）組成。在蝕刻過程中將所有的不被導電圖案覆蓋的銅層部分的塑料膜移除。

傳統的蝕刻工藝中使用的酸性蝕刻液的pH值為1左右，甚至更低，主要成分為氯化鈉、HCl和氯化銅。在蝕刻中一價的銅離子濃度過高時蝕刻速率減慢，不能滿足蝕刻要求。蝕刻后的溶液中含有大量的銅離子，因此在蝕刻后這些蝕刻液需經過處理才能排放以免給經濟和環境造成影響。而目前國內市場中PCB生產廠家日平均產生的廢蝕刻液的總量非常巨大。如果能將這些廢棄液體回收利用，每年可以產生巨大的經濟效益，同時減少環境的污染。

發明內容

本發明的目的是，提供一種酸性蝕刻液的再生循環裝置及方法，使酸性蝕刻液能夠循環再生使用。

為了達到上述目的，本發明提供的酸性蝕刻液的再生循環裝置通過如下技術方案實現：

一種酸性蝕刻液的再生循環裝置，包括順序連接的酸性蝕刻線（DES）、蝕刻廢液槽、電解槽和酸霧吸收缸。所述蝕刻廢液槽收集酸性蝕刻線（DES）產生的廢液，并將其輸送至電解槽中，所述電解槽將廢液電解，將廢液中的銅離子轉化為電解銅板，同時將廢液中的氯離子氧化為氯氣。所述酸霧吸收缸收集電解槽中的廢液，并與電解槽中產生的氯氣發生反應，得到再生蝕刻液。

優選的，所述再生循環裝置的酸性蝕刻線、蝕刻廢液槽、電解槽及酸霧吸收缸之間通過高壓泵連通。

優選的，所述電解槽包括陽極室和陰極室；所述陽極室將氯離子氧化為氯氣，所述陰極室電解出金屬銅板。

優選的，所述酸性蝕刻液的再生循環裝置還包括與所述酸性蝕刻線（DES）連通的儲存槽，儲存槽內儲存鹽酸和氧化劑，所述鹽酸和氧化劑用于添加至所述酸霧吸收缸的再生蝕刻液中，使再生蝕刻液的溶液參數與無銅蝕刻液的參數保持一致。

優選的，所述儲存槽還設有與所述儲存槽連通的自動添加控制裝置（PLC裝置），所述自動添加控制裝置安裝有各種先進的參數監控裝置，實時對整個系統運行參數進行監控，將蝕刻再生液由自動添加系統送入DES蝕刻線。

優選的，所述酸性蝕刻液的再生循環裝置還包括氯氣報警裝置，用于在線實時監控排放風管和車間氯氣濃度，防止氯氣外泄，保障系統運行安全環保；

優選的，所述酸性蝕刻液的再生循環裝置還包括鐵屑吸收裝置，用于將廢鐵與氯氣吸收系統未充分處理的尾氣反應，消除尾氣中的氯氣和酸度，得到液體三氯化鐵副產品，所述三氯化鐵可作為五金蝕刻或者可排入PCB廢水池作為水處理劑，代替聚合氯化鋁使用。

為了達到上述目的，本發明提供的酸性蝕刻液的再生循環方法包括如下步驟：