[發明專利]一種酸性蝕刻液再生循環方法在審
| 申請號： | 201711453601.8 | 申請日： | 2017-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN109972139A | 公開（公告）日： | 2019-07-05 |
| 發明（設計）人： | 羅寶奎;陳永江 | 申請（專利權）人： | 廣州市吉池環保科技有限公司 |
| 主分類號： | C23F1/46 | 分類號： | C23F1/46;C25C1/12;C23F1/18 |
| 代理公司： | 北京君華知識產權代理事務所(普通合伙) 11515 | 代理人： | 朱慶華 |
| 地址： | 510700 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 酸性蝕刻液 再生蝕刻液 廢液輸送 酸霧吸收 再生循環 氯氣 蝕刻廢液 酸性蝕刻 電解銅 酸性蝕刻廢液 氧化劑 電解槽陽極 析出 電解作用 蝕刻工藝 物料成本 電解槽 銅離子 陰極區 廢液 鹽酸 制備 | ||
1.一種酸性蝕刻液的再生循環方法,包括如下步驟：
S1：將PCB酸性蝕刻線上產生的酸性蝕刻廢液收集至蝕刻廢液槽中；
S2：將蝕刻廢液槽中的廢液輸送至電解槽中，通過電解作用在陰極區將廢液中的銅離子析出形成電解銅片 ；
S3：將電解槽陽極區的廢液輸送至酸霧吸收缸中；
S4：向酸霧吸收缸中的廢液輸送氯氣，通過與氯氣的反應制備再生蝕刻液；
S5：將酸霧吸收缸中的再生蝕刻液輸送至酸性蝕刻線（DES）中用于蝕刻工藝，實現酸性蝕刻液的再生循環。
2.根據權利要求1所述的酸性蝕刻液的再生循環方法，其特征在于，所述步驟S3中，將陽極區的電解液通過比重控制加入到所述酸霧吸收缸中，用于調配再生蝕刻液。
3.根據權利要求1所述的酸性蝕刻液的再生循環方法，其特征在于，所述步驟S3還包括將陰極產生的低銅酸液排放到PCB廢水處理中心進行處理。
4.根據權利要求1所述的酸性蝕刻液的再生循環方法，其特征在于，所述步驟S4中所述的氯氣為，電解槽陽極室產生的氯氣，用于制備再生蝕刻液。
5.根據權利要求3所述的酸性蝕刻液的再生循環方法，其特征在于，所述步驟S4還包括：將鹽酸和氧化劑自動添加至酸霧吸收缸中，用于調配再生液的參數。
6.根據權利要求1所述的酸性蝕刻液的再生循環方法，其特征在于，所述步驟S4還包括：將再生蝕刻液通過自動添加控制系統對參數的控制監測，自動加入到DES蝕刻線中。
7.根據權利要求1所述的酸性蝕刻液的再生循環方法，其特征在于，還包括步驟S6：將酸霧吸收缸中未被充分吸收的氯氣及酸霧與廢鐵在鐵屑還原缸中反應，制備得到三氯化鐵。
8.根據權利要求1所述的酸性蝕刻液的再生循環方法，其特征在于，所述酸性蝕刻液的再生循環方法還包括步驟S7：實時監控排放風管和車間氯氣濃度。
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