[發明專利]一種在料舟表面沉積金屬涂層的方法有效
| 申請號: | 201711452203.4 | 申請日: | 2017-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN109972096B | 公開(公告)日: | 2021-04-13 |
| 發明(設計)人: | 但敏;金凡亞;顏復秀;許澤金;高觀金;肖俊虎;韓珍珍 | 申請(專利權)人: | 核工業西南物理研究院;成都同創材料表面科技有限公司;成都虹波實業股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/32 | 分類號: | C23C14/32;C23C14/02;C23C14/16 |
| 代理公司: | 核工業專利中心 11007 | 代理人: | 高安娜 |
| 地址: | 610041 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 表面 沉積 金屬 涂層 方法 | ||
1.一種在料舟表面沉積金屬涂層的方法,其特征在于,該方法包括如下步驟:
步驟1)去除料舟舟體表面毛刺;
步驟2)對料舟及鍍膜工裝進行清洗;
步驟3)涂層沉積,具體步驟為
步驟3.1)將料舟安裝到鍍膜工裝上,露出要沉積涂層的部位;
步驟3.2)將料舟及鍍膜工裝安裝至真空鍍膜設備中,實現公轉自轉;
步驟3.3)抽真空至真空度優于3×10-3Pa后,開啟加熱電源進行烘烤除氣,直至加熱溫度達到200℃后,保溫至真空鍍膜設備真空度優于3×10-3Pa;
步驟3.4)采用自輝光進行氬離子輝光濺射刻蝕清洗,向真空室送入氬氣直到真空室的真空度在1~10Pa,脈沖負偏壓1000V,占空比80%,持續5~20分鐘;
步驟3.5)采用小多弧金屬Mo靶,向真空室通入氬氣直到真空室的壓強為5~10Pa,調節靶電流在100~140A之間,并對工件施加脈沖電壓300V,占空比150%,直流電壓50V,進行離子鍍沉積金屬Mo涂層,涂層厚度1~10微米;
步驟3.6)隨爐真空冷卻至50℃,完成金屬Mo涂層的沉積;
步驟3.7)取件并拆除工裝;
所述的步驟2)對料舟及鍍膜工裝進行清洗,具體為:
步驟2.1)將料舟及鍍膜工裝放入盛有除油劑的水槽中,開啟加熱電源進行加熱,直至加熱溫度達到50℃后,用軟毛刷輕刷去除料舟及鍍膜工裝上的油污及灰塵;
步驟2.2)將料舟及鍍膜工裝用去離子水沖洗,去除料舟及鍍膜工裝上除油劑;
步驟2.3)將料舟及鍍膜工裝放入盛有干凈無水酒精的超聲波設備中清洗,持續10~30min;
步驟2.4)超聲清洗后的料舟及鍍膜工裝用壓縮空氣吹干;
待沉積涂層的為用于高純Mo粉還原爐的料舟,料舟本體材料為高溫合金鋼,由舟體及加強筋組成,需要沉積涂層的部位是在舟體的內壁,此時步驟3)中采用多弧離子鍍進行金屬Mo涂層沉積。
2.如權利要求1所述的一種在料舟表面沉積金屬涂層的方法,其特征在于,所述的步驟3.2)中公轉轉速1~3轉/min,自轉2~6轉/min。
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