[發(fā)明專利]多頭測量設(shè)備量測點(diǎn)位自動分配方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711450322.6
• 申請日: 2017-12-27
• 公開（公告）號: CN108180880B
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李敏;余智偉;邱敏
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: G01B21/08
• 分類號: G01B21/08;G01B11/06
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.多頭測量設(shè)備量測點(diǎn)位自動分配方法，所述多頭測量設(shè)備用以測量彩膜表面墊料高度，所述多頭測量設(shè)備包括可沿Y軸方向移動的第一支架機(jī)構(gòu)和第二支架機(jī)構(gòu)，以及設(shè)置在所述第一支架機(jī)構(gòu)和所述第二支架機(jī)構(gòu)上、且可沿X軸方向移動的多個量測頭機(jī)構(gòu)；其特征在于，所述方法包括：

S10，獲取所述彩膜表面所有需量測位置的點(diǎn)位坐標(biāo)；

S20，對所述點(diǎn)位坐標(biāo)進(jìn)行分組，其中，將Y軸坐標(biāo)中差異性較小的點(diǎn)位分為一組，以滿足兩相對的所述支架機(jī)構(gòu)的同時量測；

S30，將各分組的所述Y軸坐標(biāo)，匹配至符合測量范圍的所述第一支架機(jī)構(gòu)或是所述第二支架機(jī)構(gòu)：

S301，逐組判斷尚未匹配的分組是否在所述第一支架機(jī)構(gòu)的量測范圍內(nèi)；

若否，則繼續(xù)匹配，直到匹配到符合所述第一支架機(jī)構(gòu)量測范圍的分組的點(diǎn)位坐標(biāo)；

若是，則為所述第一支架機(jī)構(gòu)匹配最大優(yōu)先級的Y軸坐標(biāo)；

S302，逐組判斷尚未匹配的分組是否在所述第二支架機(jī)構(gòu)的量測范圍內(nèi)；

若否，則繼續(xù)匹配，直到匹配到符合所述第二支架機(jī)構(gòu)量測范圍的分組的點(diǎn)位坐標(biāo)；

若是，則為所述第二支架機(jī)構(gòu)匹配最大優(yōu)先級的Y軸坐標(biāo)；

所述S301中，當(dāng)繼續(xù)匹配仍未匹配到符合所述第一支架機(jī)構(gòu)量測范圍的分組的點(diǎn)位坐標(biāo)，則該點(diǎn)位不使用所述第一支架機(jī)構(gòu)量測，所述第一支架機(jī)構(gòu)上的量測頭機(jī)構(gòu)使用預(yù)設(shè)安全坐標(biāo)；

所述S302中，當(dāng)繼續(xù)匹配仍未匹配到符合所述第二支架機(jī)構(gòu)量測范圍的分組的點(diǎn)位坐標(biāo)，則該點(diǎn)位不使用所述第二支架機(jī)構(gòu)量測，所述第二支架機(jī)構(gòu)上的量測頭機(jī)構(gòu)使用預(yù)設(shè)安全坐標(biāo)；

S40，根據(jù)所述分組排列順序，從優(yōu)先級最大的Y軸坐標(biāo)開始匹配至所述支架機(jī)構(gòu)；

S50，根據(jù)所述支架機(jī)構(gòu)的Y軸坐標(biāo)，為所述量測頭機(jī)構(gòu)匹配X軸坐標(biāo)：

S501，根據(jù)所述第一支架機(jī)構(gòu)的Y軸坐標(biāo)，為設(shè)置于所述第一支架機(jī)構(gòu)上的所述量測頭機(jī)構(gòu)匹配X軸坐標(biāo)；

S502，根據(jù)所述第二支架機(jī)構(gòu)的Y軸坐標(biāo)，為設(shè)置于所述第二支架機(jī)構(gòu)上所述量測頭機(jī)構(gòu)匹配X軸坐標(biāo)；

所述S501具體包括：

逐步判斷所述第一支架機(jī)構(gòu)上的所述量測頭機(jī)構(gòu)所匹配的點(diǎn)位，是否在對應(yīng)所述量測頭機(jī)構(gòu)的設(shè)定移動范圍內(nèi)；

若是，則將該點(diǎn)位坐標(biāo)分配至對應(yīng)的所述量測頭機(jī)構(gòu)進(jìn)行量測；

若否，則繼續(xù)匹配，直到匹配到符合對應(yīng)所述量測頭機(jī)構(gòu)的設(shè)定移動范圍的點(diǎn)位坐標(biāo)；

所述S502具體包括：

逐步判斷所述第二支架機(jī)構(gòu)上的所述量測頭機(jī)構(gòu)所匹配的點(diǎn)位，是否在對應(yīng)所述量測頭機(jī)構(gòu)的設(shè)定移動范圍內(nèi)；

若是，則將該點(diǎn)位坐標(biāo)分配至對應(yīng)的所述量測頭機(jī)構(gòu)進(jìn)行量測；

若否，則繼續(xù)匹配，直到匹配到符合對應(yīng)所述量測頭機(jī)構(gòu)的設(shè)定移動范圍的點(diǎn)位坐標(biāo)；

S60，逐一將所有需量測位置的點(diǎn)位坐標(biāo)，匹配至所述第一支架機(jī)構(gòu)、所述第二支架機(jī)構(gòu)以及設(shè)置在所述第一支架機(jī)構(gòu)與所述第二支架機(jī)構(gòu)上對應(yīng)的所述量測頭機(jī)構(gòu)，完成量測點(diǎn)位的分配。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述S10還包括：

將待量測的點(diǎn)位，按照X軸值從大到小進(jìn)行排序，之后，再按照Y軸值從大到小進(jìn)行排序，根據(jù)排列順序?qū)λ鳇c(diǎn)位進(jìn)行編號。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述S60還包括：

判斷X軸坐標(biāo)是否匹配完畢；

若是，則返回S301；

若否，則回到S50繼續(xù)對未匹配的X軸坐標(biāo)進(jìn)行分配。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述S501、S502中，當(dāng)繼續(xù)匹配仍未匹配到符合對應(yīng)所述量測頭機(jī)構(gòu)的設(shè)定移動范圍的點(diǎn)位坐標(biāo)，則該點(diǎn)位不使用該量測頭機(jī)構(gòu)量測，該量測頭機(jī)構(gòu)使用預(yù)設(shè)安全坐標(biāo)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述S20中，點(diǎn)位之間的Y軸坐標(biāo)中的安全距離至少為2mm。

6.一種多頭測量裝置，用以測量彩膜表面墊料高度，其特征在于，采用權(quán)利要求1所述的多頭測量設(shè)備量測點(diǎn)位自動分配方法，所述裝置包括：

點(diǎn)位坐標(biāo)獲取單元，用于獲取所述彩膜表面所有需量測位置的點(diǎn)位坐標(biāo)；

分組單元，用于對所述點(diǎn)位坐標(biāo)進(jìn)行分組，其中，將Y軸坐標(biāo)中差異性較小的點(diǎn)位分為一組，以滿足兩相對的所述支架機(jī)構(gòu)的同時量測；

Y軸坐標(biāo)匹配單元，用于將各分組的所述Y軸坐標(biāo)，匹配至符合測量范圍的所述第一支架機(jī)構(gòu)或是所述第二支架機(jī)構(gòu)；

X軸坐標(biāo)匹配單元，用于根據(jù)所述第一支架機(jī)構(gòu)或是所述第二支架機(jī)構(gòu)的Y軸坐標(biāo)，為所述量測頭機(jī)構(gòu)匹配X軸坐標(biāo)。