[發明專利]噴嘴清潔裝置以及噴嘴清潔方法

有效

• 申請號: 201711445086.9
• 申請日: 2017-12-27
• 公開（公告）號: CN108568372B
• 公開（公告）日: 2021-11-12
• 發明（設計）人: 安陪裕滋
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: B05B15/555
• 分類號: B05B15/555;B05B15/68;B05B15/20;B05B14/00;B08B7/04
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 向勇;崔炳哲

本發明提供一種能夠更適當地降低在狹縫噴嘴的側面上殘留的附著物的量的噴嘴清潔裝置。該噴嘴清潔裝置具有接觸構件、清洗液貯存槽和噴嘴升降單元。接觸構件與噴嘴的外表面的下部區域接觸，并沿該外表面一邊在水平方向上移動一邊刮除在下部區域上附著的附著物。清洗液貯存槽的上部開口，貯存作為貯存清洗液的清洗液。噴嘴升降單元，使移動到清洗液貯存槽的上方的噴嘴在下位置(P11)和上位置(P21)之間往復移動。下位置(P11)是下部區域的上方的上部區域與貯存清洗液進行液體接觸的位置，上位置(P22)是下位置(P11)的上方的位置。

技術領域

本發明涉及噴嘴清潔裝置以及噴嘴清潔方法。

背景技術

以往，已知在從具有長條狀的噴出口的狹縫噴嘴噴出了涂敷液的狀態下，通過使該狹縫噴嘴相對基材、基板等被處理體移動，從而對被處理體涂敷涂敷液的裝置(狹縫式涂布機)。該噴出口在狹縫噴嘴的下端面形成。

在狹縫式涂布機中，若形成遍布該狹縫形狀的噴出口的全長的均一的涂敷液的噴出狀態，則能夠在被處理體形成膜厚均一的涂敷膜。另一方面，若在上述噴出口的一部分存在因涂敷液干燥固化而產生的殘渣等附著物，則不能形成遍布上述噴出口的全長的均一的涂敷液的噴出狀態，對被處理體的涂敷精度降低。更具體地，涂敷在被處理體的涂敷液的膜厚在對應于附著物的附著位置或厚或薄，存在在形成于被處理體的涂敷膜上產生條紋等問題(條紋不均)。

特別地，一旦結束了涂敷處理而再對后續的被處理體開始涂敷處理的情況下，容易在將先前的涂敷處理時噴出的涂敷液作為殘渣附著在噴出口的狀態下就開始后續的涂敷處理，從而容易引起上述的條紋不均。

此外，即使是在噴出口未附著有附著物的情況下，但若在該噴出口的周邊部(例如狹縫噴嘴的側面)附著了附著物，則存在該附著物有可能在涂敷處理中落到被處理體上而使該落下位置產生欠缺的問題。

由于上述的條紋不均的發生和附著物落到被處理體上關系到成品率的降低，因此尋求一種防止這些問題的技術。例如，專利文獻1的涂敷裝置具有去除單元，其中，去除單元具有作為用于在對被處理體開始涂敷處理前，從狹縫噴嘴高效地去除上述附著物的結構的擦拭構件。

擦拭構件在與狹縫噴嘴的側面中的下端面側的區域接觸的狀態下，在狹縫噴嘴的噴出口的長度方向移動。通過該移動，擦拭構件能夠擦拭附著在接觸區域的附著物。

專利文獻1JP特開2014-176812號公報

然而，即使通過擦拭構件的移動，涂敷液也可能殘留在狹縫噴嘴的側面。更具體地，在該擦拭構件移動時，附著在狹縫噴嘴的側面的涂敷液的一部分從擦拭構件的上端溢出，殘留在狹縫噴嘴的側面。該殘留物沿擦拭構件的移動方向直線地延伸。此外，由于該殘留物殘留在不與擦拭構件接觸的位置，因此不能通過擦拭構件的移動適當地去除。而且，若該殘留物落到被處理體上，則還是會使被處理體產生欠缺。

本發明是鑒于上述課題而提出的，其目的在于提供一種能夠更適當地去除殘留在狹縫噴嘴的側面的附著物的噴嘴清潔裝置以及噴嘴清潔方法。

發明內容

為了解決上述課題，噴嘴清潔裝置的第一實施方式是一種噴嘴的清潔裝置，所述噴嘴在下端部形成有沿水平方向延伸的狹縫狀的噴出口，該噴出口用于向基板上噴出處理液，其中，具有：接觸構件，一邊與所述噴嘴的外表面的下部區域接觸，一邊沿所述外表面在水平方向上移動并刮除在所述外表面的所述下部區域上附著的附著物；清洗液貯存槽，上部開口，貯存作為貯存清洗液的清洗液；噴嘴升降單元，使移動到所述清洗液貯存槽的上方的所述噴嘴在下位置與上位置之間往復移動；控制單元，進行所述噴嘴升降單元的移動控制。所述下位置是所述外表面的比所述接觸構件接觸的所述下部區域更靠上方的上部區域與所述貯存清洗液進行接觸的位置，所述上位置是比所述下位置更靠上方的位置。