[發明專利]噴嘴清潔裝置以及噴嘴清潔方法

有效

• 申請號: 201711445086.9
• 申請日: 2017-12-27
• 公開（公告）號: CN108568372B
• 公開（公告）日: 2021-11-12
• 發明（設計）人: 安陪裕滋
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: B05B15/555
• 分類號: B05B15/555;B05B15/68;B05B15/20;B05B14/00;B08B7/04
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 向勇;崔炳哲

1.一種噴嘴清潔裝置，其是噴嘴的清潔裝置，所述噴嘴在下端部形成有沿水平方向延伸的狹縫狀的噴出口，該噴出口用于向基板上噴出處理液，其中，具有：

接觸構件，一邊與所述噴嘴的外表面的下部區域接觸，一邊沿所述外表面在水平方向上移動并刮除在所述外表面的所述下部區域上附著的附著物；

清洗液貯存槽，上部開口，貯存作為貯存清洗液的清洗液；

噴嘴升降單元，使移動到所述清洗液貯存槽的上方的所述噴嘴在下位置與上位置之間往復移動；

控制單元，進行所述噴嘴升降單元的移動控制，

所述下位置是所述外表面的比所述接觸構件接觸的所述下部區域更靠上方的上部區域與所述貯存清洗液進行接觸的位置，

所述上位置是比所述下位置更靠上方的位置，

在所述接觸構件沿所述噴嘴的所述外表面在所述水平方向上移動后，所述噴嘴升降單元使所述噴嘴下降到所述下位置，使所述清洗液貯存槽的所述清洗液接觸到所述噴嘴的所述上部區域，

所述噴嘴升降單元使所述噴嘴在所述下位置與所述上位置之間往復移動多次，

在多次所述往復移動中的任一次往復移動中，所述上位置都是所述上部區域在所述貯存清洗液的液面的位置的上方露出的位置，

在所述上位置，所述噴出口與所述貯存清洗液進行接觸，

所述控制單元控制所述噴嘴升降單元，

使所述噴嘴在所述下位置與所述上位置之間往復移動至少一次，使在所述噴嘴的所述上部區域殘留的所述處理液的殘留物移動到所述下部區域的所述下端部側，然后，使所述噴嘴在所述噴出口比所述貯存清洗液的液面的位置更靠上方的位置、和所述殘留物與所述貯存清洗液進行接觸的位置之間往復移動。

2.根據權利要求1所述的噴嘴清潔裝置，其中，

所述上位置是高度不同的多個位置。

3.根據權利要求1或2所述的噴嘴清潔裝置，其中，

在所述噴嘴升降單元使所述噴嘴往復移動后，所述接觸構件一邊與所述噴嘴的所述下部區域接觸一邊移動，刮除所述噴嘴上殘留的清洗液。

4.根據權利要求1或2所述的噴嘴清潔裝置，其中，

還具有向所述噴嘴的外表面噴出清洗液的清洗液噴出部。

5.根據權利要求1或2所述的噴嘴清潔裝置，其中，

還具有使在所述清洗液貯存槽中貯存的所述貯存清洗液進行超聲波振動的超聲波振動部。

6.一種噴嘴清潔方法，其是噴嘴的清潔方法，所述噴嘴在下端部形成有沿水平方向延伸的狹縫狀的噴出口，該噴出口用于向基板上噴出處理液，其中，包含：

第一工序，一邊使接觸構件與所述噴嘴的外表面的下部區域接觸，一邊沿所述外表面使所述接觸構件在水平方向上移動并刮除在所述外表面的所述下部區域上附著的附著物；

第二工序，在所述第一工序之后，使所述噴嘴相對于在清洗液貯存槽中貯存的貯存清洗液在下位置和上位置之間往復移動，

所述下位置是所述外表面的比所述接觸構件接觸的所述下部區域更靠上方的上部區域與所述貯存清洗液進行接觸的位置，

所述上位置是比所述下位置更靠上方的位置，

在所述第二工序中，使所述噴嘴在所述下位置與所述上位置之間往復移動多次，

在多次所述往復移動中的任一次往復移動中，所述上位置都是所述上部區域在所述貯存清洗液的液面的位置的上方露出的位置，

在所述上位置，所述噴出口與所述貯存清洗液進行接觸，

在所述第二工序中，使所述噴嘴在所述下位置與所述上位置之間往復移動至少一次，使在所述噴嘴的所述上部區域殘留的所述處理液的殘留物移動到所述下部區域的所述下端部側，然后，使所述噴嘴在所述噴出口比所述貯存清洗液的液面的位置更靠上方的位置、和所述殘留物與所述貯存清洗液進行接觸的位置之間往復移動。