[發明專利]一種電容式觸摸屏的制備方法

在審

• 申請號: 201711442758.0
• 申請日: 2017-12-28
• 公開（公告）號: CN108021297A
• 公開（公告）日: 2018-05-11
• 發明（設計）人: 白少勇;魏艷彪
• 申請（專利權）人: 蘇州柏特瑞新材料有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 南京正聯知識產權代理有限公司 32243
• 代理人: 顧伯興

本發明涉及了一種電容式觸摸屏的制備方法。一種電容式觸摸屏的制備方法：一、印刷制作觸摸屏邊框；二、涂布透明有機緩沖層；三、涂布納米線透明導電膜層；四、對納米線透明導電膜層圖案化，形成透明觸控電極；五、涂布透明電極絕緣保護層；六、涂布周邊引線；七、涂布透明保護層，即完成電容式觸摸屏的制備。本發明的一種電容式觸摸屏的制備方法，降低生產成本，避免其他工藝生產的缺點，有利于實現觸控產品的輕薄化和高透過率；實現對邊框與玻璃基板的平坦化，有助于克服透明電極引線爬坡時引起的斷線不良；適用且不限于OGS、TOL、OPS等結構的觸摸屏制備。

技術領域

本發明涉及觸摸屏領域，特別是涉及一種電容式觸摸屏的制備方法。

背景技術

隨著現代觸控技術的進步，觸摸屏應用范圍不斷擴大，手機、平板電腦中觸控功能幾近成為標準配置；在筆記本電腦、超極本、一體機中，具備觸控功能的產品占有市場份額也不斷擴大；從觸摸屏產業的角度看，觸摸屏低成本、提高量產性是未來發展的方向；而對于普通消費者，觸摸屏的輕薄性、高透過性則會得到更多關注；隨著觸控技術的發展，傳統的電阻式觸摸屏逐步被更輕薄、觸控性能更佳的電容式觸摸屏技術所取代；在諸多電容式觸摸屏結構中，以OGS及TOL結構的觸摸屏輕薄性、透過率最佳；對于已有OGS及TOL工藝，業界通常使用單層ITO或ITO垮橋結構來形成觸摸電極結構，工藝上需要使用真空濺射設備沉積ITO薄膜，然后使用黃光制程形成圖形，對于垮橋結構還需在垮橋下制作透明絕緣層材料；無論是哪種結構，都需要昂貴的真空濺射工藝沉積ITO透明導電膜層及ITO消隱層；為了降低成本，業界已經開始使用金屬納米線透明導電膜來替代ITO透明導電層，但由于金屬納米線墨水與玻璃的粘附性不佳的問題，導致金屬納米線墨水通常只涂布在PET薄膜上，然后使用OCA貼膜工藝將PET透明導電膜貼合在玻璃蓋板之上，形成GFilm結構的電容式觸摸屏結構，此種制程不僅由于貼合的良率問題增加成本，還因為貼附PET膜而增加了觸摸屏的厚度，不利于產品輕薄化和提升產品透過率。

發明內容

本發明提供了一種電容式觸摸屏的制備方法，避免使用成本高昂的濺射氧化銦錫透明導電層及氧化銦錫圖形消隱層所需要的真空濺射設備，大幅降低成本；同時增加透明緩沖層可以增強金屬納米線透明導電膜與玻璃基板之間的粘附性，可進一步提高生產良率。另外可實現對邊框與玻璃基板的平坦化，有助于克服透明電極引線爬坡時引起的斷線不良。本發明適用于OGS、TOL、OPS等結構且不限于此結構觸摸屏制備。

一種電容式觸摸屏的制備方法，具體是按以下步驟進行的：一、在透明蓋板上使用印刷工藝制作觸摸屏邊框；二、在蓋板的上表面涂布透明有機緩沖層；三、在透明有機緩沖層的上表面采用導電納米線墨水材料涂布納米線透明導電膜層；四、對納米線透明導電膜層通過黃光制程進行圖案化，形成透明觸控電極；五、在納米線透明導電膜層的上方涂布透明電極絕緣保護層；六、通過低溫固化導電銀漿涂布周邊引線；七、在最上側涂布透明保護層，即完成電容式觸摸屏的制備。

步驟二中的透明有機緩沖層的涂布方式為狹縫擠壓式涂布工藝、旋涂工藝、刮涂工藝、輥涂工藝或印刷工藝。

步驟二中的透明有機緩沖層的具體制作方式為：在透明蓋板上涂布光固化型緩沖層樹脂溶液，經90-130℃、2-10min的前烘工藝后，接著經UV曝光，UV固化能量為100-400mJ/cm2，再經120-250℃，30-120min后烘工藝，形成厚度為1-6μm的透明緩沖層。

步驟二中的透明有機緩沖層的具體制作方式為：在透明蓋板上涂布熱固化型緩沖層漿料，經90-130℃、2-10min的前烘工藝后，再經120-250℃，30-120min后烘工藝，形成厚度為3-25μm的透明緩沖層。

步驟三中的導電納米線墨水材料涂布的方式為狹縫擠壓式涂布工藝、旋涂工藝、刮涂工藝、輥涂工藝或印刷工藝；其中，導電納米線墨水材料為金納米線材料、銀納米線材料、銅納米線材料、鋁納米線材料和碳納米管墨水材料中的一種或其中幾種按任意比例的復合材料。