[發(fā)明專(zhuān)利]一種電容式觸摸屏的制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711442758.0
• 申請(qǐng)日: 2017-12-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108021297A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 白少勇;魏艷彪
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 蘇州柏特瑞新材料有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G06F3/044
• 分類(lèi)號(hào): G06F3/044
• 代理公司: 南京正聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243
• 代理人: 顧伯興

1.一種電容式觸摸屏的制備方法，其特征在于：制備方法具體是按以下步驟進(jìn)行的：一、在透明蓋板上使用印刷工藝制作觸摸屏邊框；二、在蓋板的上表面涂布透明有機(jī)緩沖層；三、在透明有機(jī)緩沖層的上表面采用導(dǎo)電納米線墨水材料涂布納米線透明導(dǎo)電膜層；四、對(duì)納米線透明導(dǎo)電膜層通過(guò)黃光制程進(jìn)行圖案化，形成透明觸控電極；五、在納米線透明導(dǎo)電膜層的上方涂布透明電極絕緣保護(hù)層；六、通過(guò)低溫固化導(dǎo)電銀漿涂布周邊引線；七、在最上側(cè)涂布透明保護(hù)層，即完成電容式觸摸屏的制備。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電容式觸摸屏的制備方法，其特征在于：步驟二中的透明有機(jī)緩沖層的涂布方式為狹縫擠壓式涂布工藝、旋涂工藝、刮涂工藝、輥涂工藝或印刷工藝。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電容式觸摸屏的制備方法，其特征在于：步驟二中的透明有機(jī)緩沖層的具體制作方式為：在透明蓋板上涂布光固化型緩沖層樹(shù)脂溶液，經(jīng)90-130℃、2-10min的前烘工藝后，接著經(jīng)UV曝光，UV固化能量為100-400mJ/cm2，再經(jīng)120-250℃，30-120min后烘工藝，形成厚度為1-6μm的透明緩沖層。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電容式觸摸屏的制備方法，其特征在于：步驟二中的透明有機(jī)緩沖層的具體制作方式為：在透明蓋板上涂布熱固化型緩沖層漿料，經(jīng)90-130℃、2-10min的前烘工藝后，再經(jīng)120-250℃，30-120min后烘工藝，形成厚度為3-25μm的透明緩沖層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電容式觸摸屏的制備方法，其特征在于：步驟三中的導(dǎo)電納米線墨水材料涂布的方式為狹縫擠壓式涂布工藝、旋涂工藝、刮涂工藝、輥涂工藝或印刷工藝；其中，導(dǎo)電納米線墨水材料為金納米線材料、銀納米線材料、銅納米線材料、鋁納米線材料和碳納米管墨水材料中的一種或其中幾種按任意比例的復(fù)合材料。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種電容式觸摸屏的制備方法，其特征在于：步驟三中的納米線透明導(dǎo)電膜層的具體制作方式為：在透明有機(jī)緩沖層的上方涂布導(dǎo)電納米線墨水，墨水濕膜厚度7-30μm，經(jīng)50-150℃、30-240秒的干燥工藝后形成厚度為50-120nm的透明導(dǎo)電膜層；步驟三中的透明導(dǎo)電膜層的方阻值為10-200ohm/sq。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電容式觸摸屏的制備方法，其特征在于：步驟四中，采用激光干刻工藝替代黃光制程；所述激光干刻工藝中，激光能量為1-20W，電極間距為10-70μm；激光干刻速度為0.1-15m/sec。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電容式觸摸屏的制備方法，其特征在于：步驟五中的透明電極絕緣保護(hù)層涂布的方式為印刷工藝或黃光制程；透明電極絕緣保護(hù)層的厚度為2-30μm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電容式觸摸屏的制備方法，其特征在于：步驟六中的周邊引線涂布的方式為印刷工藝或黃光制程。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電容式觸摸屏的制備方法，其特征在于：步驟七中的透明保護(hù)層涂布的方式為印刷工藝或黃光制程。