[發明專利]一種測量點的配置選擇方法及裝置

有效

• 申請號: 201711439063.7
• 申請日: 2017-12-27
• 公開（公告）號: CN109976099B
• 公開（公告）日: 2021-08-10
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務所 11313
• 代理人: 張臻賢;王珺

1.一種測量點的配置選擇方法，其特征在于，包括以下步驟：

確定多個曝光單元中測量點的數量和在晶圓表面上的分布位置，多個曝光單元在晶圓表面上整齊排列；

根據所述測量點的分布位置將所述測量點劃分為多種測量點群組；以及

為每一所述曝光單元分配多種測量點群組的其中一種，并根據所述測量點群組為每個曝光單元設置對應的測量點，其中，相鄰位置的兩個所述曝光單元的最接近測量點位置不相鄰靠，以使得所述測量點在晶圓表面均勻分布。

2.根據權利要求1所述測量點的配置選擇方法，其特征在于，每種所述測量點群組包括至少三個測量點，并且同一測量點群組內的三個所述測量點不在同一直線。

3.根據權利要求1所述測量點的配置選擇方法，其特征在于，每個所述測量點群組內的測量點數量相同但測量點的分布位置不相同。

4.根據權利要求1所述測量點的配置選擇方法，其特征在于，所述測量點群組的劃分步驟包括：

將所述測量點的總值平均分配至所述測量點群組；以及

當所述測量點的總值不能平均分配于所述測量點群組時，將多余測量點分散地添加至部分 的所述測量點群組中，其中所述多余測量點包括不位于對應曝光單元邊緣位置的測量點。

5.根據權利要求1至4中任一項所述測量點的配置選擇方法，其特征在于，所述測量點群組的劃分步驟中，每一種所述測量點群組內的所述測量點包含位于所述曝光單元邊角的邊角點、位于所述曝光單元側邊的側邊點及有間隔遠離所述曝光單元側邊的非側邊點，每一種所述測量點群組內的所述測量點的圍繞面積區涵蓋所述曝光單元的中心點。

6.一種測量點的配置裝置，其特征在于，包括：

設置單元，用于確定多個曝光單元中測量點的數量和在晶圓表面上的分布位置，多個曝光單元在晶圓表面上整齊排列；

劃分單元，用于根據所述測量點的分布位置將所述測量點劃分為多種測量點群組；以及，

分配單元，用于為每一所述曝光單元分配多種測量點群組的其中一種，并根據所述測量點群組為每個曝光單元設置對應的測量點，其中，相鄰位置的兩個所述曝光單元的最接近測量點位置不相鄰靠，以使得所述測量點在晶圓表面均勻分布。

7.根據權利要求6所述測量點的配置裝置，其特征在于，每種所述測量點群組包括至少三個測量點，并且同一測量點群組內的三個所述測量點不在同一直線。

8.根據權利要求6所述測量點的配置裝置，其特征在于，每種所述測量點群組內的測量點數量相同但測量點的分布位置不相同。

9.根據權利要求6所述測量點的配置裝置，其特征在于，所述劃分單元用于將所述測量點的總值平均分配至所述測量點群組，以及

所述劃分單元用于當所述測量點的總值不能平均分配于一晶圓中的所述曝光單元內的所述測量點群組時，將多余測量點分散地添加至部分 的所述測量點群組中，其中所述多余測量點包括不位于對應曝光單元邊緣位置的測量點。

10.根據權利要求6至9中任一項所述測量點的配置裝置，其特征在于，每一種所述測量點群組內的所述測量點包含位于所述曝光單元邊角的邊角點、位于所述曝光單元側邊的側邊點及有間隔遠離所述曝光單元側邊的非側邊點，每一種所述測量點群組內的所述測量點的圍繞面積區涵蓋所述曝光單元的中心點。