[發明專利]一種像素界定層及其制備方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201711431426.2
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN109962086B
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發明（設計）人: 張滔;向超宇;李樂;辛征航;王雄志
• 申請（專利權）人: TCL科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 深圳市君勝知識產權代理事務所(普通合伙) 44268
• 代理人: 王永文;劉文求

本發明公開了一種像素界定層及其制備方法、顯示裝置，所述像素界定層具有壩體和壩體側面圍成的界定區，所述壩體的主體材料為疊氮化環氧樹脂，所述壩體側面分為上部側面和下部側面，所述上部側面接枝有疏水基團，所述下部側面接枝有親水基團。本發明解決了現有像素界定層難以實現打印均勻薄膜的問題。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種像素界定層及其制備方法。

背景技術

量子點具有發光顏色易于調節、色彩飽和度高、可溶液加工、高穩定性等諸多優點，使得量子點發光二極管(QLED)被視為下一代顯示技術的有力競爭者。現有技術中，制備量子點電致發光器件的方法主要有噴墨打印、轉印等方式，其中噴墨打印技術能將含發光功能材料的墨水精確地噴到像素區中，形成發光功能層，能有效提高像素分辨率，但是墨水在像素區內難以形成厚度均一的薄膜。

在噴墨打印器件的基板上通常會制作像素界定層，用來限定墨滴精確地滴入指定的像素區域，對像素界定層進行親水/疏水分層處理能夠提高打印薄膜的均勻性，常見的制備親/疏水兩層結構的像素界定層的方法主要有兩種：一種是采用分步沉積法分別制備不同親疏水性的上下部分，這種技術步驟繁瑣，需要用到不同的沉積設備，且沉積兩種不同的材料易存在界面問題，發生分層；另外一種則是先制備單體像素界定層，在上半或下部分用“涂膜”的方式，形成疏水涂層或親水涂層，然而由于涂膜與像素界定層之間吸附力弱，在打印過程中容易被打印墨水沖洗掉，存在穩定性的問題；另外，通常會使用形狀記憶聚合物來制作像素界定層，其同時記錄兩種形狀，以滿足對不同結構像素界定層的制備工藝需要，但是普通的形狀記憶聚合物在制作成像素界定層后，難以對表面進行改性，難以形成上部分疏水性、下部分親水性的結構，也同樣不利于控制打印薄膜的均勻性。

因此，現有技術還有待于改進和發展。

發明內容

鑒于上述現有技術的不足，本發明的目的在于提供一種像素界定層及其制備方法，旨在解決現有像素界定層難以實現打印均勻薄膜的問題。

本發明的另一目的在于提供一種含有上述像素界定層的顯示裝置。

本發明的技術方案如下：

一種像素界定層，其中，所述像素界定層具有壩體和壩體側面圍成的界定區，所述壩體的主體材料為疊氮化環氧樹脂，所述壩體側面分為上部側面和下部側面，所述上部側面接枝有疏水基團，所述下部側面接枝有親水基團。

所述的像素界定層，其中，所述親水基團為含2~7個碳原子的烴基，且所述烴基上含羥基或羧基。

所述的像素界定層，其中，所述疏水基團為含8~18個碳原子的烴基。

一種像素界定層的制備方法，其中，包括步驟：

提供初始像素界定層，所述初始像素界定層具有壩體和壩體側面圍成的界定區，所述壩體的主體材料為疊氮化環氧樹脂，所述壩體側面分為上部側面和下部側面；

將親水性的炔類化合物加入初始像素界定層的界定區，使親水性的炔類化合物與界定區的下部側面發生加成反應，在下部側面接枝親水基團；

將疏水性的炔類化合物加入下部側面接枝親水基團的界定區，使疏水性的炔類化合物與界定區的上部側面發生加成反應，在上部側面接枝疏水基團。

所述的像素界定層的制備方法，其中，所述將親水性的炔類化合物加入初始像素界定層的界定區，使親水性的炔類化合物與界定區的下部側面發生加成反應，在下部側面接枝親水基團的方法，包括步驟：

將親水性的炔類化合物加入初始像素界定層的界定區至高度h1，使親水性的炔類化合物與界定區的下部側面發生加成反應，在下部側面接枝親水基團；其中h1像素界定層的高度。