[發(fā)明專利]一種計(jì)算單目圖像的深度次序的方法和裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711423455.4
• 申請(qǐng)日: 2017-12-25
• 公開（公告）號(hào): CN107993239B
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 康學(xué)凈;于璦瑋;明安龍;周瑜;張雪松;宋桂嶺;姚超
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京郵電大學(xué)
• 主分類號(hào): G06T7/12
• 分類號(hào): G06T7/12;G06K9/62;G06T7/181;G06V10/764
• 代理公司: 北京柏杉松知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11413
• 代理人: 馬敬;項(xiàng)京

1.一種計(jì)算單目圖像的深度次序的方法，其特征在于，所述方法包括：

使用預(yù)設(shè)的過分割算法和預(yù)設(shè)的分類器依次對(duì)單目圖像進(jìn)行處理，生成所述單目圖像的遮擋輪廓圖；

使用預(yù)設(shè)的卷積核遍歷所述遮擋輪廓圖中的各像素點(diǎn)，生成各像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的卷積值；

在所述各像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的卷積值中，將卷積值為預(yù)設(shè)值的像素點(diǎn)確定為間斷點(diǎn)，所述間斷點(diǎn)為所述遮擋輪廓圖中位于缺失的像素點(diǎn)兩端的像素點(diǎn)；

將相鄰的間斷點(diǎn)之間的最短路徑，確定為所述相鄰的間斷點(diǎn)之間的待填充輪廓；

沿著所述待填充輪廓，填充相鄰的間斷點(diǎn)之間缺失的像素點(diǎn)，生成填充后的遮擋輪廓圖；

根據(jù)所述填充后的遮擋輪廓圖，計(jì)算所述單目圖像的深度次序；

所述根據(jù)所述填充后的遮擋輪廓圖，計(jì)算所述單目圖像的深度次序的步驟，包括：

從所述填充后的遮擋輪廓圖中提取局部SLC邊界特征、T型角點(diǎn)特征和區(qū)域顯著性特征，所述局部邊界特征包括凸性C邊界特征；

判斷所述C邊界特征表征的遮擋輪廓圖中各區(qū)域之間的第一前后關(guān)系，與所述T型角點(diǎn)特征表征的遮擋輪廓圖中各區(qū)域之間的第二前后關(guān)系是否一致；

當(dāng)目標(biāo)第一前后關(guān)系與目標(biāo)第二前后關(guān)系不一致時(shí)，將所述目標(biāo)第二前后關(guān)系對(duì)應(yīng)的T型角點(diǎn)特征確定為錯(cuò)誤T型角點(diǎn)特征，并根據(jù)所述目標(biāo)第一前后關(guān)系，對(duì)所述錯(cuò)誤T型角點(diǎn)特征進(jìn)行修正；

根據(jù)所述SLC邊界特征、修正后的T型角點(diǎn)特征以及所述區(qū)域顯著性特征，生成初始的混合能量函數(shù)，所述初始的混合能量函數(shù)包括所述填充后的遮擋輪廓圖中各區(qū)域的前后順序標(biāo)簽，所述初始的混合能量函數(shù)中的前后順序標(biāo)簽是隨機(jī)產(chǎn)生的；

使用模擬退火算法，對(duì)所述混合能量函數(shù)進(jìn)行最小化訓(xùn)練，得到訓(xùn)練后的混合能量函數(shù)；

根據(jù)所述訓(xùn)練后的混合能量函數(shù)中的前后順序標(biāo)簽，確定所述單目圖像的深度次序。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述將卷積值為預(yù)設(shè)值的像素點(diǎn)確定為間斷點(diǎn)的步驟之后，所述方法還包括：

計(jì)算兩個(gè)相鄰的間斷點(diǎn)之間的距離；

當(dāng)兩個(gè)相鄰的間斷點(diǎn)之間的距離小于預(yù)設(shè)的第一距離閾值且大于預(yù)設(shè)的第二距離閾值時(shí)，執(zhí)行所述將相鄰的間斷點(diǎn)之間的最短路徑，確定為所述相鄰的間斷點(diǎn)之間的待填充輪廓的步驟。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述將相鄰的間斷點(diǎn)之間的最短路徑，確定為所述相鄰的間斷點(diǎn)之間的待填充輪廓的步驟，包括：

使用迪杰斯特拉算法確定兩個(gè)相鄰的間斷點(diǎn)之間的最短路徑，并將所述最短路徑確定為所述兩個(gè)間斷點(diǎn)之間的待填充輪廓。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，在所述計(jì)算兩個(gè)相鄰的間斷點(diǎn)之間的距離的步驟之后，所述方法還包括：

當(dāng)兩個(gè)相鄰的間斷點(diǎn)之間的距離等于所述第二距離閾值時(shí)，使用預(yù)設(shè)的膨脹腐蝕方法，填充相鄰的間斷點(diǎn)之間缺失的像素點(diǎn)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述使用預(yù)設(shè)的膨脹腐蝕方法，填充相鄰的間斷點(diǎn)之間缺失的像素點(diǎn)的步驟，包括：

根據(jù)預(yù)設(shè)的膨脹矩陣，分別以兩個(gè)相鄰的間斷點(diǎn)以及與兩個(gè)相鄰的間斷點(diǎn)鄰近的像素點(diǎn)的位置為中心進(jìn)行膨脹處理，以填充膨脹區(qū)域內(nèi)的像素點(diǎn)；

根據(jù)預(yù)設(shè)的腐蝕矩陣，分別以兩個(gè)相鄰的間斷點(diǎn)以及與兩個(gè)相鄰的間斷點(diǎn)鄰近的像素點(diǎn)的位置為中心進(jìn)行腐蝕處理，以去除腐蝕區(qū)域內(nèi)的像素點(diǎn)。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，

所述兩個(gè)相鄰的間斷點(diǎn)之間的距離包括兩個(gè)相鄰的間斷點(diǎn)之間的二范式距離。