[發(fā)明專利]顯示裝置、觸控顯示屏及偏光片的接地阻抗的測(cè)試方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711421779.4
• 申請(qǐng)日: 2017-12-25
• 公開（公告）號(hào): CN108196128B
• 公開（公告）日: 2021-01-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉德健;楊小華;鐘志強(qiáng);粟愷;劉志偉;梁憲宇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 華顯光電技術(shù)（惠州）有限公司
• 主分類號(hào): G01R27/20
• 分類號(hào): G01R27/20;G06F3/041
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 鄧云鵬

1.一種偏光片的接地阻抗的測(cè)試方法，其特征在于，包括：

提供一貼附有高阻抗的偏光片的觸控顯示屏；

于所述偏光片的下邊緣上順序噴涂銀漿，以形成第一電極帶、測(cè)試電極帶和第二電極帶，所述第一電極帶和所述第二電極帶均用于釋放靜電，所述第一電極帶、所述測(cè)試電極帶和所述第二電極帶并排設(shè)置；

固化所述第一電極帶、所述測(cè)試電極帶和所述第二電極帶；以及

測(cè)試所述測(cè)試電極帶與所述觸控顯示屏的接地點(diǎn)之間的阻抗，以測(cè)試偏光片的接地阻抗。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片的接地阻抗的測(cè)試方法，其特征在于，于所述偏光片的下邊緣上順序噴涂銀漿的步驟具體為：

通過噴嘴于所述偏光片的下邊緣上順序噴涂所述銀漿，其中所述第一電極帶、所述測(cè)試電極帶和所述第二電極帶的排列方向與所述噴嘴噴涂所述銀漿的方向相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的偏光片的接地阻抗的測(cè)試方法，其特征在于，所述噴嘴噴涂所述銀漿的方向與所述偏光片的下邊緣的延伸方向相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片的接地阻抗的測(cè)試方法，其特征在于，所述第一電極帶與所述測(cè)試電極帶之間的距離等于所述第二電極帶與所述測(cè)試電極帶之間的距離。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的偏光片的接地阻抗的測(cè)試方法，其特征在于，所述第一電極帶的形狀為L型。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的偏光片的接地阻抗的測(cè)試方法，其特征在于，所述第二電極帶的形狀為L型。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的偏光片的接地阻抗的測(cè)試方法，其特征在于，固化所述第一電極帶、所述測(cè)試電極帶和所述第二電極帶的步驟具體為：

通過恒溫加熱爐加熱所述貼附有高阻抗偏光片的觸控顯示屏，以固化所述第一電極帶、所述測(cè)試電極帶和所述第二電極帶。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片的接地阻抗的測(cè)試方法，其特征在于，測(cè)試所述測(cè)試電極帶與所述觸控顯示屏的接地點(diǎn)之間的阻抗的步驟具體為：

通過高阻測(cè)試器測(cè)試所述測(cè)試電極帶與所述觸控顯示屏的接地點(diǎn)之間的阻抗。

9.一種觸控顯示屏，包括接地點(diǎn)，其特征在于，采用權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的偏光片的接地阻抗的測(cè)試方法進(jìn)行測(cè)試，所述觸控顯示屏還包括：

偏光片，所述偏光片包括高阻抗膜；

第一電極帶，成型于所述偏光片的下邊緣上，所述第一電極帶用于釋放靜電；

測(cè)試電極帶，成型于所述偏光片的下邊緣上，所述測(cè)試電極帶用于與所述接地點(diǎn)搭配以測(cè)試偏光片的接地阻抗；

第二電極帶，成型于所述偏光片的下邊緣上，所述第二電極帶用于釋放靜電，所述第一電極帶、所述測(cè)試電極帶和所述第二電極帶并排設(shè)置。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求9所述的觸控顯示屏。