[發(fā)明專利]一種新型鍍膜設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711403120.6
• 申請日: 2017-12-22
• 公開（公告）號: CN107841721B
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李峰
• 申請（專利權(quán)）人: 江西邦盛光學(xué)儀器有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56;C23C14/50
• 代理公司: 中山市捷凱專利商標(biāo)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 44327
• 代理人: 楊連華

本發(fā)明公開了一種新型鍍膜設(shè)備，包括底板，底板的頂面均勻固定有多個支撐柱體，支撐柱體的頂面固定有真空室，真空室的頂面對稱固定有支撐板，支撐板的頂面固定有頂板，頂板的底面中部有電機，真空室的底面中部有T形盲孔A，T形盲孔A內(nèi)旋轉(zhuǎn)連接有圓形板塊C，電機的驅(qū)動端固定連接有連桿，連桿的底端伸入真空室與圓形板塊C相固定，連桿的外部套有滑動環(huán)形板，頂板的底面有千斤頂。本發(fā)明設(shè)計有相互嚙合的齒輪和齒條，根據(jù)需要調(diào)整基片的鍍膜面，便于濺射鍍膜，并且僅需一次將真空室抽氣為真空即可完成基片的多層鍍膜，降低了成本的同時提高了鍍膜質(zhì)量，而且一次可以加工完成多個基片的鍍膜，速度快，提高了生產(chǎn)效率，非常的實用、可靠。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種新型鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)

鍍膜主要有減少反射的功能，在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上對鏡頭進(jìn)行鍍膜，能夠有效提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量。鍍膜是根據(jù)光學(xué)的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(zhì)，使鏡頭對這一波長的色光的反射降至最低。并且一層膜只對一種色光起作用，而多層鍍膜則可對多種色光起作用。多層鍍膜通常采用不同的材料重復(fù)地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層，因此多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率，而磁控濺射技術(shù)在鍍膜工藝中經(jīng)常使用，磁控濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術(shù)；但是現(xiàn)有的鍍膜設(shè)備通常僅能實現(xiàn)單個基片的鍍膜工作，想要加工基片的另一面時還需重新調(diào)整設(shè)備的參數(shù)，并且根據(jù)需要向基片進(jìn)行多層鍍膜時，還要進(jìn)行多次更換靶座上的靶材，多次對真空室進(jìn)行抽氣放氣，加工工時長，工作效率低，非常的不實用、不可靠。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述存在的問題，本發(fā)明提供一種新型鍍膜設(shè)備。

本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)：

一種新型鍍膜設(shè)備，包括底板，所述底板的頂面均勻固定有多個支撐柱體，所述支撐柱體的頂面固定有真空室，所述真空室的頂面對稱固定有支撐板，所述支撐板的頂面固定有頂板，所述頂板的底面中部固定有電機，所述真空室的底面中部設(shè)有T形盲孔A，所述T形盲孔A內(nèi)旋轉(zhuǎn)連接有圓形板塊C，所述電機的驅(qū)動端固定連接有連桿，連桿的底端伸入真空室與圓形板塊C相固定，所述連桿的外部套有滑動環(huán)形板，所述頂板的底面固定有千斤頂，所述千斤頂?shù)幕钊麠U底面設(shè)有弧形凹槽，弧形凹槽內(nèi)旋轉(zhuǎn)連接有滾珠，滾珠的底端伸出弧形凹槽與滑動環(huán)形板的頂面接觸，所述真空室的頂面中部設(shè)有通孔A，所述通孔A的內(nèi)壁設(shè)有環(huán)形凹槽，環(huán)形凹槽的截面為T形，所述通孔A內(nèi)貼合設(shè)有固定在連桿上的圓形板塊A，所述圓形板塊A的外環(huán)面固定有與環(huán)形凹槽相匹配的環(huán)形滑塊，環(huán)形滑塊與環(huán)形凹槽旋轉(zhuǎn)連接，所述圓形板塊A與滑動環(huán)形板之間均勻固定有多個彈簧A，所述真空室內(nèi)部設(shè)有環(huán)形固定塊，環(huán)形固定塊套在連桿外部，所述環(huán)形固定塊與連桿之間均勻固定有多個支撐肋板，所述環(huán)形固定塊的頂面均勻設(shè)有多個方形通孔A，所述方形通孔A的側(cè)壁中部旋轉(zhuǎn)連接有橫桿B，橫桿B的端部穿過環(huán)形固定塊的內(nèi)環(huán)面指向環(huán)形固定塊的圓心，所述方形通孔A的另一側(cè)壁設(shè)有T形盲孔B，所述T形盲孔B內(nèi)旋轉(zhuǎn)連接有圓形板塊B，所述圓形板塊B的側(cè)面固定有橫桿A，橫桿A與橫桿B的中心線相同，所述橫桿A和橫桿B的端部均設(shè)有夾板，所述夾板的側(cè)面固定有下夾塊，所述夾板的側(cè)面上部設(shè)有滑槽A，所述滑槽A內(nèi)滑動設(shè)有方形滑桿，所述夾板的側(cè)面上部固定有固定板，所述固定板與方形滑桿之間固定有彈簧B，所述固定板的頂面螺紋連接有螺栓(25)，所述方形滑桿的底面固定有上夾塊，所述上夾塊與下夾塊之間夾放設(shè)有基片，所述橫桿B的端部固定連接有齒輪，所述環(huán)形固定塊的上方設(shè)有固定在連桿上的環(huán)形固定板，所述環(huán)形固定板的頂面均勻設(shè)有多個方形通孔B，所述方形通孔B內(nèi)滑動設(shè)有齒條，齒條與齒輪相互嚙合，所述齒條的側(cè)面設(shè)有滑槽B，滑槽B的截面為T形，所述滑槽B內(nèi)滑動連接有與其相匹配的T形滑塊，T形滑塊固定在方形通孔B的側(cè)壁上，齒條的頂面固定有與圓形板塊A滑動連接的固定桿，固定桿的頂端穿過圓形板塊A與滑動環(huán)形板相固定，所述真空室的兩側(cè)面均設(shè)有通孔B，所述真空室的兩側(cè)面均固定有套筒，套筒通過通孔B與真空室連通，所述套筒的外壁螺紋連接有密封箱蓋，所述密封箱蓋的內(nèi)壁貼附有密封片，所述密封箱蓋側(cè)面中部固定有U形把手，所述真空室的內(nèi)部底面均勻固定有靶座，每個方形通孔A的正下方的相對位置均設(shè)有至少一個靶座，所述底板的頂面固定有前級泵、油擴(kuò)散泵和真空泵，前級泵、油擴(kuò)散泵和真空泵對應(yīng)連接配合用于抽離真空室內(nèi)的氣體，所述真空室的底面固定有真空度檢測儀。