[發明專利]具有反應式離子蝕刻功能的連續式鍍膜系統

有效

• 申請號: 201711401154.1
• 申請日: 2017-12-22
• 公開（公告）號: CN108048814B
• 公開（公告）日: 2020-01-31
• 發明（設計）人: 葉承朋;張倧偉;蘇暉家;劉鎰誠;黃一原
• 申請（專利權）人: 凌嘉科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/34;C23C14/02
• 代理公司: 11355 北京泰吉知識產權代理有限公司
• 代理人: 張雅軍;史瞳

1.一種具有反應式離子蝕刻功能的連續式鍍膜系統，是電連接于電源供應器，其特征在于：其包含載盤及輸送機構，且沿生產方向還包含載入裝置、反應式離子蝕刻裝置、濺鍍裝置，及載出裝置；

該載入裝置包括載入腔體；

該反應式離子蝕刻裝置臨接于該載入裝置，并包括與該載入腔體相通且電連接至該電源供應器的蝕刻腔體、位于該蝕刻腔體內的電漿局限單元，及升降單元，該蝕刻腔體于執行反應式離子蝕刻制程時是作為該反應式離子蝕刻裝置的第一極板用，該電漿局限單元具有圍繞該蝕刻腔體的內周緣的金屬遮罩，且該金屬遮罩連接于該蝕刻腔體以與該蝕刻腔體共同定義出接地路徑，該電漿局限單元還具有至少一金屬圍框及定義出多個網孔的金屬紗網，該金屬圍框圍繞該蝕刻腔體的內周緣且連接于該金屬遮罩并背向該金屬遮罩延伸，該金屬紗網是固定于該金屬圍框以圍繞該蝕刻腔體的內周緣并協同該金屬遮罩及該蝕刻腔體共同定義出該接地路徑，該升降單元具有穿設于該蝕刻腔體的軸桿、固定在該軸桿的端緣且承載該載盤并與該載盤電性隔絕的平臺，及連接該軸桿的驅動件，該驅動件能驅動該軸桿帶動該平臺于載送位置及夾持位置間移動，當該平臺位于該載送位置時，承載該載盤的該平臺令該載盤位于該輸送機構的掣動單元上，當該平臺位于該夾持位置時，位于該平臺上的該載盤是相對該平臺位于該載送位置時靠近該金屬圍框，且該平臺電連接該金屬紗網以偕同該金屬圍框、該金屬紗網、該金屬遮罩及該蝕刻腔體共同定義出該接地路徑；

該濺鍍裝置臨接于該反應式離子蝕刻裝置，并包括與該蝕刻腔體相通的濺鍍腔體；

該載出裝置臨接于該濺鍍裝置，并包括與該濺鍍腔體相通的載出腔體，且該載入腔體、該蝕刻腔體、該濺鍍腔體，及該載出腔體共同定義出輸送通道；

該載盤能與該電源供應器電連接，并能于該輸送通道中沿該生產方向移動，當該載盤位于該蝕刻腔體內以執行該反應式離子蝕刻制程時能作為該反應式離子蝕刻裝置的第二極板用；及

該輸送機構包括驅動單元，及設置于該輸送通道中并與該驅動單元連接的掣動單元，該掣動單元受該驅動單元所驅動以帶動位于該掣動單元上的該載盤能沿該生產方向移動。

2.根據權利要求1所述的具有反應式離子蝕刻功能的連續式鍍膜系統，其特征在于：該電漿局限單元還具有至少一連接于該金屬圍框以面向該升降單元的平臺的金屬彈片，當該平臺位于該夾持位置時，該金屬彈片是被夾持于該金屬圍框及該平臺間，且該平臺接觸該金屬彈片以偕同金屬彈片、該金屬圍框、該金屬紗網、該金屬遮罩及該蝕刻腔體共同定義出該接地路徑。

3.根據權利要求2所述的具有反應式離子蝕刻功能的連續式鍍膜系統，其特征在于：該蝕刻腔體具有定義出一空間的金屬圍壁，及連接該金屬圍壁以封閉該空間的金屬蓋板。

4.根據權利要求1所述的具有反應式離子蝕刻功能的連續式鍍膜系統，其特征在于：該蝕刻腔體還具有至少一貫穿該蝕刻腔體的進氣口，及至少一貫穿該蝕刻腔體的抽氣口，該蝕刻腔體的該進氣口是相對其抽氣口靠近該金屬紗網，且該進氣口是位于該金屬紗網的相反兩側的其中一側，該抽氣口是位于該金屬紗網的該相反兩側的其中另一側，該金屬紗網的網孔的孔徑是小于氣體的平均自由路徑。