[發明專利]屏蔽組件

有效

• 申請號: 201711399616.0
• 申請日: 2017-12-21
• 公開（公告）號: CN108239765B
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發明（設計）人: 金宰煥
• 申請（專利權）人: TES股份有限公司
• 主分類號: C23C16/04
• 分類號: C23C16/04
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 楊文娟;臧建明

1.一種屏蔽組件，其特征在于，具備：

屏蔽，位于基板的上部，形成有預先確定的圖案；

屏蔽框架，固定所述屏蔽的邊緣，以便支撐所述屏蔽；以及

遮擋框架，安裝到所述屏蔽框架，與所述屏蔽框架的上表面位于同一平面上，或較所述屏蔽框架的上表面位于下方，

其中，所述屏蔽框架具備安裝所述遮擋框架的傾斜部，所述遮擋框架具備與所述傾斜部對應的傾斜面，從而當所述遮擋框架位于所述屏蔽框架上時，所述遮擋框架朝向所述屏蔽框架下降，所述遮擋框架的所述傾斜面與所述傾斜部密接而所述遮擋框架不再向下方下降。

2.根據權利要求1所述的屏蔽組件，其特征在于，

所述屏蔽框架還具備導引部，所述導引部從所述傾斜部向上部延伸形成為預先確定的長度，在所述遮擋框架安裝到所述傾斜部的情況下進行導引。

3.根據權利要求1所述的屏蔽組件，其特征在于，

所述遮擋框架還具備延伸部，所述延伸部沿所述遮擋框架的邊緣向上部延伸形成為預先確定的長度而延長從氣體供給部供給的處理氣體的滯留時間。

4.根據權利要求3所述的屏蔽組件，其特征在于，

所述延伸部較所述氣體供給部位于外圍。