[發明專利]一種傾斜式連續真空磁控濺射鍍膜裝置及鍍膜生產線

有效

• 申請號: 201711394533.2
• 申請日: 2017-12-21
• 公開（公告）號: CN108085654B
• 公開（公告）日: 2019-11-08
• 發明（設計）人: 李小軍
• 申請（專利權）人: 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/56
• 代理公司: 北京和信華成知識產權代理事務所(普通合伙) 11390
• 代理人: 胡劍輝

本發明公開了一種傾斜式連續真空磁控濺射鍍膜裝置，其包括有基座，所述基座上設有承重架，所述承重架的上方設有鍍膜箱體，所述鍍膜箱體內設有陰極罩，所述陰極罩內固定有鍍膜陰極板，所述鍍膜箱體內設有用于承載工件的載片架和用于驅使載片架進出鍍膜箱體的載片架傳動機構，所述鍍膜箱體的底部與承重架之間通過兩個高度調節機構而固定連接，兩個高度調節機構的高度不同，以令所述鍍膜箱體、鍍膜陰極板、載片架和工件傾斜預設角度。本發明無需夾持工件，可避免工件上產生夾印，進而提高加工質量、提升成品率及提高加工效率。

技術領域

本發明涉及鍍膜生產線，尤其涉及一種傾斜式連續真空磁控濺射鍍膜裝置及鍍膜生產線。

背景技術

磁控濺射鍍膜是指將涂層材料做為靶陰極，利用氬離子轟擊靶材，產生陰極濺射，把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術?，F有的真空磁控濺射鍍膜工藝中，主要有單箱體真空磁控濺射鍍膜機和連續真空磁控濺射鍍膜生產線，而在連續真空磁控濺射鍍膜工藝領域只有傳統的臥式連續真空磁控濺射鍍膜生產線和傳統的立式連續真空磁控濺射鍍膜生產線。傳統的臥式連續真空磁控濺射鍍膜生產線因為其陰極在被濺射產品的上面，在濺射過程中等離子體沒有完全氧化或磁場力衰減產生的微小顆粒及陰極上因靶材表面在濺射過程中產生的氧化物都會因重力作用而跌落在被濺射產品表面，形成缺陷，一般只適宜于對產品表面質量不嚴格的領域如幕墻玻璃，太陽能玻璃等，而傳統的立式連續真空磁控濺射鍍膜生產線雖然避免了臥式連續真空磁控濺射鍍膜生產線的缺陷，但產品的裝載必須夾持，在鍍膜后卻使產品邊緣會產生夾痕，對于一些高端產品，為避免此缺陷，不得不以犧牲成品率、切裁率、裝載率而更改加工流程，即先鍍膜后冷加工，以滿足產品需求。

發明內容

本發明要解決的技術問題在于，針對現有技術的不足，提供一種無需夾持工件，可避免工件上產生夾印，進而提高加工質量、提升成品率、提高加工效率的傾斜式連續真空磁控濺射鍍膜裝置及鍍膜生產線。

為解決上述技術問題，本發明采用如下技術方案。

一種傾斜式連續真空磁控濺射鍍膜裝置，其包括有基座，所述基座上設有承重架，所述承重架的上方設有鍍膜箱體，所述鍍膜箱體內設有陰極罩，所述陰極罩內固定有鍍膜陰極板，所述鍍膜箱體內設有用于承載工件的載片架和用于驅使載片架進出鍍膜箱體的載片架傳動機構，所述鍍膜箱體的底部與承重架之間通過兩個高度調節機構而固定連接，兩個高度調節機構的高度不同，以令所述鍍膜箱體、鍍膜陰極板、載片架和工件傾斜預設角度。

優選地，所述鍍膜箱體的側部固定有箱體支撐機構。

優選地，所述鍍膜箱體內固定有載片架承托機構，所述載片架與所述載片架承托機構滑動連接。

優選地，所述載片架承托機構包括有承托支架，所述承托支架固定于鍍膜箱體內，所述承托支架上安裝有多個承托輪，多個承托輪沿承托支架的長度方向依次設置。

優選地，所述載片架傳動機構包括有傳動安裝架，所述傳動安裝架固定于鍍膜箱體內，所述傳動安裝架上設有載片架傳動輪，所述載片架的邊緣抵接于載片架傳動輪，所述傳動安裝架的外側設有載片架動力輪，所述載片架動力輪與所述載片架傳動輪同軸設置，所述載片架動力輪驅使載片架傳動輪轉動。

優選地，所述載片架包括有上固定板和下固定板，所述上固定板和下固定板之間通過兩個側立板固定連接，兩個側立板之間穿設有多個載片橫桿，所述下固定板的底部設有下導桿，所述下導桿固定有多個下陶瓷絕緣塊，所述上固定板的頂部設有上滑板，所述上滑板固定有多個上陶瓷絕緣塊。

一種連續真空磁控濺射鍍膜生產線，其包括有沿工件的傳送方向依次設置的入口室、入口過渡室、入口協調室、多個鍍膜室、出口協調室、出口過渡室和出口室，所述鍍膜室包括有上述鍍膜裝置。

優選地，所述入口室包括有入口箱門，所述入口室的前端設有第一閥門，所述入口室內設有用于驅使載片架移動的入口室傳動機構。