[發明專利]一種傾斜式連續真空磁控濺射鍍膜裝置及鍍膜生產線

有效

• 申請號: 201711394533.2
• 申請日: 2017-12-21
• 公開（公告）號: CN108085654B
• 公開（公告）日: 2019-11-08
• 發明（設計）人: 李小軍
• 申請（專利權）人: 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/56
• 代理公司: 北京和信華成知識產權代理事務所(普通合伙) 11390
• 代理人: 胡劍輝

1.一種傾斜式連續真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，包括有基座(400)，所述基座(400)上設有承重架(401)，所述承重架(401)的上方設有鍍膜箱體(402)，所述鍍膜箱體(402)內設有陰極罩(404)，所述陰極罩(404)內固定有鍍膜陰極板(405)，所述鍍膜箱體(402)內設有用于承載工件(100)的載片架(406)和用于驅使載片架(406)進出鍍膜箱體(402)的載片架傳動機構(407)，所述鍍膜箱體(402)的底部與承重架(401)之間通過兩個高度調節機構(403)而固定連接，兩個高度調節機構(403)的高度不同，以令所述鍍膜箱體(402)、鍍膜陰極板(405)、載片架(406)和工件(100)傾斜預設角度；

所述載片架傳動機構(407)包括有傳動安裝架(412)，所述傳動安裝架(412)固定于鍍膜箱體(402)內，所述傳動安裝架(412)上設有載片架傳動輪(413)，所述載片架(406)的邊緣抵接于載片架傳動輪(413)，所述傳動安裝架(412)的外側設有載片架動力輪(414)，所述載片架動力輪(414)與所述載片架傳動輪(413)同軸設置，所述載片架動力輪(414)驅使載片架傳動輪(413)轉動；

所述載片架(406)包括有上固定板(420)和下固定板(421)，所述上固定板(420)和下固定板(421)之間通過兩個側立板(422)固定連接，兩個側立板(422)之間穿設有多個載片橫桿(423)，所述下固定板(421)的底部設有下導桿(424)，所述下導桿(424)固定有多個下陶瓷絕緣塊(425)，所述上固定板(420)的頂部設有上滑板(426)，所述上滑板(426)固定有多個上陶瓷絕緣塊(427)。

2.如權利要求1所述的傾斜式連續真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜箱體(402)的側部固定有箱體支撐機構(408)。

3.如權利要求1所述的傾斜式連續真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜箱體(402)內固定有載片架承托機構(409)，所述載片架(406)與所述載片架承托機構(409)滑動連接。

4.如權利要求3所述的傾斜式連續真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述載片架承托機構(409)包括有承托支架(410)，所述承托支架(410)固定于鍍膜箱體(402)內，所述承托支架(410)上安裝有多個承托輪(411)，多個承托輪(411)沿承托支架(410)的長度方向依次設置。

5.一種連續真空磁控濺射鍍膜生產線，其特征在于，包括有沿工件(100)的傳送方向依次設置的入口室(1)、入口過渡室(2)、入口協調室(3)、多個鍍膜室(4)、出口協調室(5)、出口過渡室(6)和出口室(7)，所述鍍膜室(4)包括有權利要求1-4任一項所述的鍍膜裝置。

6.如權利要求5所述的連續真空磁控濺射鍍膜生產線，其特征在于，所述入口室(1)包括有入口箱門(10)，所述入口室(1)的前端設有第一閥門(11)，所述入口室(1)內設有用于驅使載片架(406)移動的入口室傳動機構(12)。

7.如權利要求5所述的連續真空磁控濺射鍍膜生產線，其特征在于，所述入口過渡室(2)包括有過渡箱門(20)，所述入口過渡室(2)的前后兩端分別設有第二閥門(21)和第三閥門(22)，所述入口過渡室(2)內設有用于驅使載片架(406)移動的過渡室傳動機構(23)。

8.如權利要求5所述的連續真空磁控濺射鍍膜生產線，其特征在于，所述入口協調室(3)的側部和鍍膜室(4)的側部分別設有分子泵(30)。