[發明專利]帶電粒子束裝置和控制方法

在審

• 申請號: 201711391373.6
• 申請日: 2017-12-21
• 公開（公告）號: CN108231512A
• 公開（公告）日: 2018-06-29
• 發明（設計）人: 鈴木秀和
• 申請（專利權）人: 日本株式會社日立高新技術科學
• 主分類號: H01J37/26
• 分類號: H01J37/26
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

提供帶電粒子束裝置和控制方法。本發明的帶電粒子束裝置能夠提高通過向試樣照射帶電粒子束進行的、與試樣對應的作業的效率。該帶電粒子束裝置具有：照射部，其向試樣照射帶電粒子束；像形成部，其檢測通過帶電粒子束的照射而從試樣產生的帶電粒子，并形成基于該帶電粒子的檢測信號的圖像；輸入接受部，其接受觀察條件；導出部，其根據所接受的觀察條件和存儲在存儲部中的第一觀察參數導出適于該觀察條件的第二觀察參數；以及控制部，其根據第二觀察參數控制照射部。

技術領域

本發明涉及帶電粒子束裝置和控制方法。

背景技術

向物體的截面/表面照射帶電粒子束(帶電粒子的射束)從而獲取該截面的截面像/表面像的技術的研究和開發正在進行。

與此相關，在由產生離子束的離子源、使離子束會聚的透鏡系統、限制離子束的電流的電動可變多孔、載置想要利用離子束進行加工的試樣的載臺、對在將離子束照射到試樣上時產生的二次粒子進行檢測的檢測器、對電動可變多孔進行控制的離子光學系統控制部、根據二次粒子對試樣的加工進行控制的計算機系統構成的會聚離子束加工裝置中，公知有如下的加工裝置：與離子束的電流量對應地將透鏡的設定、像散校正值、孔徑和像的偏差量等離子束光學條件、以及多個加工內容事先存儲在計算機中，根據加工內容而選擇、設定光學條件并進行多個加工(參照專利文獻1)。

專利文獻1：日本特開平10-106474號公報

然而，在現有的加工裝置中，每當變更加工的試樣時必須調整光學條件等與試樣的加工/觀察相關的各種條件。其結果是，在加工裝置中，有時很難提高對多個試樣進行加工的作業的效率。

發明內容

因此，本發明就是鑒于上述現有技術的問題而完成的，提供能夠提高通過向試樣照射帶電粒子束來進行的、與試樣對應的作業的效率的帶電粒子束裝置和控制方法。

本發明的一個方式是一種帶電粒子束裝置，該帶電粒子束裝置具有：照射部，其向試樣照射帶電粒子束；像形成部，其檢測通過所述帶電粒子束的照射而從所述試樣產生的帶電粒子，并形成基于該帶電粒子的檢測信號的圖像；輸入接受部，其接受觀察條件；導出部，其根據所接受的所述觀察條件和存儲在存儲部中的第一觀察參數導出適于該觀察條件的第二觀察參數；以及控制部，其根據所述第二觀察參數控制所述照射部。

另外，在本發明的另一方式中，在帶電粒子束裝置中也可以使用如下結構：所述輸入接受部接受使所述帶電粒子束加速的加速電壓、所述帶電粒子束的射束電流、使所述帶電粒子束會聚的物鏡的動作模式即鏡頭模式、保持所述試樣的支架的種類、所述試樣的材質、載置所述試樣的載臺的位置即載臺位置中的一部分或全部的組合作為所述觀察條件，在所述存儲部中存儲有該組合作為所述第一觀察參數。

另外，在本發明的另一方式中，在帶電粒子束裝置中也可以使用如下結構：在所述存儲部中存儲有與所述照射部進行的所述帶電粒子束的照射相關的表示射束照射條件的1個以上的射束照射參數和與所述帶電粒子的檢測相關的表示檢測條件的1個以上的檢測參數中的一部分或全部的組合作為所述第二觀察參數。

另外，在本發明的另一方式中，在帶電粒子束裝置中也可以使用如下結構：所述射束照射參數是使所述照射部照射所述帶電粒子束時對所述照射部設定的準心(aligner)、射束移位、OL值、標記值(stigma value)中的一部分或全部的組合，所述檢測條件是對比度值、亮度值中的任意一方或兩者的組合。

另外，在本發明的另一方式中，在帶電粒子束裝置中也可以使用如下結構：在所述存儲部中存儲有將所述第一觀察參數和所述第二觀察參數對應起來的數據庫，所述導出部根據所接受的所述觀察條件和所述第一觀察參數導出包含于所述數據庫中的所述第二觀察參數中的、貌似與該觀察條件對應的所述第二觀察參數作為適于該觀察條件的所述第二觀察參數。