[發明專利]顯影設備及其顯影液供應系統在審
| 申請號: | 201711383928.2 | 申請日: | 2017-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN108121174A | 公開(公告)日: | 2018-06-05 |
| 發明(設計)人: | 李培宏 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/30 | 分類號: | G03F7/30 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰;黃進 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯影液 第二管道 第一管道 供應系統 儲液容器 顯影設備 出液口 動力泵 進液口 噴淋頭 顯影工藝 均勻性 連通 補給 儲存 補充 | ||
1.一種顯影液供應系統,用于向顯影設備的噴淋頭供應顯影液,其特征在于,所述顯影液供應系統包括:
儲液容器,包括進液口和出液口,用于儲存第一顯影液;
第一管道,連接所述噴淋頭和所述出液口,所述第一管道上設置有動力泵,所述動力泵將第一顯影液通過所述第一管道輸送至所述噴淋頭;
第二管道,連接到所述進液口,用于向所述儲液容器補充第二顯影液;
第三管道,連通所述第一管道和所述第二管道,用于將第一顯影液輸送至所述第二管道,以使第二顯影液與第一顯影液在所述第二管道中混合后再輸入到所述儲液容器。
2.根據權利要求1所述的顯影液供應系統,其特征在于,所述第二管道上設置有允許第二顯影液流向所述儲液容器的第一逆止閥,所述第一逆止閥在所述第二管道上位于所述第二管道的輸入端和所述第二管道與所述第三管道的連接節點之間;所述第三管道上設置有允許第一顯影液流向所述第二管道的第二逆止閥。
3.根據權利要求1所述的顯影液供應系統,其特征在于,所述第一管道上設置有第一開關閥,所述第二管道上設置有第二開關閥,所述第三管道上設置有第三開關閥。
4.根據權利要求1所述的顯影液供應系統,其特征在于,所述第二管道上設置有第一調壓閥,所述第三管道上設置有第二調壓閥。
5.根據權利要求2所述的顯影液供應系統,其特征在于,所述第一管道上設置有第一開關閥,所述第一開關閥在所述第一管道上位于所述第一管道的輸出端和所述第三管道與所述第一管道的連接節點之間;所述第二管道上設置有第二開關閥,在第二顯影液的流動方向上,所述第二開關閥位于所述第一逆止閥之前;所述第三管道上設置有第三開關閥,在第一顯影液的流動方向上,所述第三開關閥位于所述第二逆止閥之前。
6.根據權利要求3或5所述的顯影液供應系統,其特征在于,所述第一開關閥、第二開關閥和第三開關閥分別選自氣動開關閥或電動開關閥。
7.根據權利要求5所述的顯影液供應系統,其特征在于,所述第二管道上設置有第一調壓閥,所述第一調壓閥位于所述第二開關閥和所述第一逆止閥之間;所述第三管道上設置有第二調壓閥,所述第二調壓閥位于所述第三開關閥和所述第二逆止閥之間。
8.根據權利要求4或7所述的顯影液供應系統,其特征在于,所述第一調壓閥和第二調壓閥分別選自氣動調壓閥或電動調壓閥。
9.根據權利要求1所述的顯影液供應系統,其特征在于,所述進液口設置于所述儲液容器的頂部,所述第二管道的輸出端從所述進液口伸入到所述儲液容器中并延伸至鄰近于所述儲液容器的底部;所述出液口設置于所述儲液容器的側壁上且位于鄰近于所述儲液容器的底部。
10.一種顯影設備,其特征在于,包括:
顯影平臺,用于承載待顯影的基板;
噴淋頭,設置于所述顯影平臺的相對上方,用于向所述待顯影的基板噴灑顯影液;
如權利要求1-9任一所述的顯影液供應系統,用于向所述噴淋頭供應顯影液。
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