[發(fā)明專利]光處理裝置、涂敷、顯影裝置、光處理方法和存儲介質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711381750.8
• 申請日: 2017-12-20
• 公開（公告）號: CN108205242B
• 公開（公告）日: 2023-08-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 永原誠司;友野勝;福永信貴;白石豪介
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

本發(fā)明提供一種在利用多個(gè)發(fā)光區(qū)塊形成帶狀的照射區(qū)域來對基片進(jìn)行光處理時(shí)，能夠?qū)⒄丈鋮^(qū)域的長度方向的照度分布模式容易地高精度地調(diào)節(jié)到目標(biāo)照度分布模式的技術(shù)。按每個(gè)發(fā)光區(qū)塊(42)事先取得將照射區(qū)域的長度方向的位置與驅(qū)動電流的變化量引起的照度的變化量相對應(yīng)的照度分布模式分布圖的變化量即照度分布響應(yīng)量，并將其存儲到存儲部中。而且，設(shè)置有運(yùn)算處理部，其為了使照射區(qū)域的當(dāng)前的長度方向的照度分布模式接近目標(biāo)照度分布模式，基于發(fā)光區(qū)塊(42)各自當(dāng)前的電流指令值和存儲于各發(fā)光區(qū)塊的上述照度分布模式的變化量，求取(推算)各發(fā)光區(qū)塊的電流指令值。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及對被處理體的表面照射光來進(jìn)行處理的技術(shù)。

背景技術(shù)

與半導(dǎo)體器件的電路圖案的微細(xì)化相應(yīng)地要求電路圖案有高分辨率。作為應(yīng)對該要求的方法，已知有例如極紫外線(EUV)曝光，但是EUV曝光如果增大曝光光源的光強(qiáng)度則裝置變得很大成本也上升，所以需要將裝置小型化，則光強(qiáng)度變小通過量變低。

因此專利文獻(xiàn)1中公開了一種對涂敷了光敏化學(xué)放大抗蝕劑的半導(dǎo)體晶片(以下稱為“晶片”)使用圖案掩模進(jìn)行了圖案曝光之后，進(jìn)一步對圖案曝光區(qū)域進(jìn)行統(tǒng)一曝光，從而使晶片上的圖案(電路圖案)的線寬的面內(nèi)均勻性變得良好的曝光裝置。該所謂的統(tǒng)一曝光裝置，使用LED(Light?Emitting?Diode：發(fā)光二極管)作為光源，在晶片上形成比晶片的直徑稍長的帶狀的照射區(qū)域，通過使晶片在與照射區(qū)域的延伸方向正交的方向上移動來對晶片的表面整體進(jìn)行曝光。

在使用LED形成帶狀的照射區(qū)域的情況下，圖形被微細(xì)化，所以為了使線寬的面內(nèi)均勻性變得良好，要求照射區(qū)域的長度方向的照度均勻。另外，在實(shí)際的半導(dǎo)體制造工廠中，也需要盡可能抑制統(tǒng)一曝光裝置的個(gè)體間的照度差(設(shè)備間的誤差)。但是，LED的特性由于制造誤差等個(gè)體之間存在微妙的偏差，而且隨時(shí)間變化等因素，僅靠使LED的驅(qū)動電流與設(shè)定值相配合這樣簡單的操作，無法滿足上述的要求。因此，需要建立滿足上述要求的技術(shù)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2015-156472號公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明想要解決的技術(shù)問題

本發(fā)明鑒于這樣的情況，目的在于提供一種在利用包括發(fā)光二極管的多個(gè)發(fā)光區(qū)塊直線狀排列而成的光源部形成帶狀的照射區(qū)域來對被處理體進(jìn)行光處理時(shí)，能夠?qū)⒄丈鋮^(qū)域的長度方向的照度分布模式容易地高精度地調(diào)節(jié)到目標(biāo)照度分布模式(pattern)的技術(shù)。

用于解決技術(shù)問題的技術(shù)方案

本發(fā)明的光處理裝置的特征在于，包括：用于載置要進(jìn)行光處理的被處理體的載置部；用于形成在左右方向延伸的帶狀的照射區(qū)域的光照射單元，其中多個(gè)發(fā)光區(qū)塊在左右方向上直線狀排列，，每個(gè)所述發(fā)光區(qū)塊包括一個(gè)或彼此串聯(lián)連接的多個(gè)發(fā)光二極管；用于使所述載置部和光照射單元在前后方向彼此相對移動的移動機(jī)構(gòu)；存儲部，其對于各個(gè)所述發(fā)光區(qū)塊，存儲使照射區(qū)域的左右方向的位置與各位置的電流的變化量引起的照度的變化量相對應(yīng)的照度分布模式的變化量；和運(yùn)算處理部，其為了使所述照射區(qū)域的當(dāng)前的長度方向的照度分布模式接近目標(biāo)照度分布模式，基于所述發(fā)光區(qū)塊各自當(dāng)前的電流指令值和存儲于所述存儲部中的各發(fā)光區(qū)塊的所述照度分布模式的變化量，求取各發(fā)光區(qū)塊的電流指令值。

另一方面為一種涂敷、顯影裝置，其特征在于，包括：用于在基片上用涂敷液形成抗蝕劑膜的組件；對圖案曝光后的基片進(jìn)行顯影的組件；進(jìn)行組件間的基片的搬運(yùn)的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)；和本發(fā)明的光處理裝置。