[發明專利]光處理裝置、涂敷、顯影裝置、光處理方法和存儲介質

有效

• 申請號: 201711381750.8
• 申請日: 2017-12-20
• 公開（公告）號: CN108205242B
• 公開（公告）日: 2023-08-18
• 發明（設計）人: 永原誠司;友野勝;福永信貴;白石豪介
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種光處理裝置，其特征在于，包括：

用于載置要進行光處理的被處理體的載置部；

用于形成在左右方向延伸的帶狀的照射區域的光照射單元，其中多個發光區塊在左右方向上直線狀排列，每個所述發光區塊包括一個或彼此串聯連接的多個發光二極管；

用于使所述載置部和光照射單元在前后方向彼此相對移動的移動機構；

存儲部，其對于各個所述發光區塊，存儲使照射區域的左右方向的位置與各位置的電流的變化量引起的照度的變化量相對應的照度分布模式的變化量；和

運算處理部，其為了使所述照射區域的當前的長度方向的照度分布模式接近目標照度分布模式，基于所述發光區塊各自當前的電流指令值和存儲于所述存儲部中的各發光區塊的所述照度分布模式的變化量，求取各發光區塊的電流指令值，

其中，在改變各個所述發光區塊的電流時，用所述照度分布模式的變化量求取各個所述發光區塊的照度分布模式，通過求取各個所述發光區塊的照度分布模式之和來推算所述照射區域整體的當前的長度方向的照度分布模式，用所述照度分布模式的變化量使照度分布模式接近目標照度分布模式。

2.如權利要求1所述的光處理裝置，其特征在于：

電流的變化量引起的照度的變化量是基于各位置的面照度求得的左右方向的線照度的變化量。

3.如權利要求1或2所述的光處理裝置，其特征在于：

包括用于測量所述照射區域的照度的照度測量部。

4.如權利要求3所述的光處理裝置，其特征在于：

所述照度測量部能夠沿所述發光區塊的排列方向移動。

5.如權利要求3所述的光處理裝置，其特征在于：

所述照度測量部包括：在前后方向延伸的帶狀的受光口；配置成從所述受光口受光的帶狀的光入射到兩個端面以外的一個面，且光從所述兩個端面的一個出射的方柱部；和接受從所述方柱部的端面出射的光的照度傳感器。

6.如權利要求1或2所述的光處理裝置，其特征在于，包括：

監視發光區塊的動作狀態的LED監視部；和

執行處理部，其執行：

在所述LED監視部檢測出包括發光量異常降低或不發光的發光二極管的異常發光區塊時，利用照度測量部檢測由所述光照射單元形成的照射區域的照度來取得長度方向的照度分布模式的步驟；和

為了使通過該步驟得到的照度分布模式接近目標照度分布模式，利用所述運算處理部基于所述發光區塊各自當前的電流指令值和存儲于所述存儲部中的各發光區塊的所述照度分布模式的變化量求取各發光區塊的電流指令值的步驟。

7.如權利要求1或2所述的光處理裝置，其特征在于：

所述光處理裝置是在對形成有抗蝕劑膜的基片用圖案掩模進行了圖案曝光之后將圖案曝光區域曝光的裝置。

8.一種涂敷、顯影裝置，其特征在于，包括：

用于在基片上用涂敷液形成抗蝕劑膜的組件；

對圖案曝光后的基片進行顯影的組件；

進行組件間的基片的搬運的搬運機構；和

權利要求1～7中任一項所述的光處理裝置。