[發明專利]鍍覆裝置、鍍覆方法及可計算機讀取的記錄介質

有效

• 申請號: 201711375258.X
• 申請日: 2017-12-19
• 公開（公告）號: CN108203838B
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發明（設計）人: 增田泰之;下山正;岸貴士
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: C25D7/12
• 分類號: C25D7/12;C25D17/00;C25D19/00;H01L21/67
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 張麗穎

1.一種鍍覆裝置，對基板進行鍍覆處理，所述鍍覆裝置的特征在于，具有：

前處理單元，該前處理單元使前處理液與所述基板的表面接觸；以及

鍍覆槽，該鍍覆槽對使所述前處理液與所述表面接觸后的所述基板進行鍍覆處理，

所述前處理單元具有：

保持臺，該保持臺將所述基板的表面保持為朝向上方；

電機，該電機構成為使所述保持臺旋轉；

親水化處理部，該親水化處理部具備從所述基板的大致中央部向周緣部延伸的紫外線照射裝置，該親水化處理部構成為對所述表面照射紫外線；

前處理液供給部，該前處理液供給部構成為對由所述親水化處理部進行了親水化的所述表面供給所述前處理液；以及

氣體供給部，該氣體供給部構成為對配置于所述保持臺的所述基板的所述表面的周緣部吹送氣體。

2.根據權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，

所述氣體供給部構成為從所述基板的內側朝向外側對所述基板吹送氣體。

3.根據權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，

具有控制部，該控制部對所述前處理液供給部、所述親水化處理部及所述電機進行控制。

4.根據權利要求3所述的鍍覆裝置，其特征在于，

所述控制部對所述電機及所述親水化處理部進行控制，以便在開始所述保持臺的旋轉后，開始對所述表面的紫外線的照射。

5.根據權利要求3所述的鍍覆裝置，其特征在于，

所述控制部對所述前處理液供給部及所述電機進行控制，以便在使所述保持臺的旋轉停止的狀態下，將所述前處理液供給至親水化后的所述表面。

6.根據權利要求3所述的鍍覆裝置，其特征在于，

所述控制部對所述前處理液供給部及所述電機進行控制，以便在使所述保持臺旋轉的狀態下，將所述前處理液供給至親水化后的所述表面。

7.根據權利要求6所述的鍍覆裝置，其特征在于，

所述控制部對所述前處理液供給部及所述電機進行控制，以便在使所述保持臺的轉速相比于照射所述紫外線時的所述保持臺的轉速增加的狀態下，將所述前處理液供給至親水化后的所述表面。

8.根據權利要求1～7中任一項所述的鍍覆裝置，其特征在于，

所述鍍覆槽構成為：在將向所述表面供給了所述前處理液的所述基板保持于基板保持架的狀態下，對所述基板進行鍍覆處理。

9.根據權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，

具備擺動裝置，該擺動裝置使所述紫外線照射裝置沿所述基板的半徑方向擺動。

10.一種鍍覆方法，其特征在于，具有如下工序：

將基板配置于保持臺的工序；

使配置于所述保持臺的所述基板旋轉，對所述基板的表面的半徑部分照射紫外線來進行親水化處理的工序；

對進行了所述親水化處理的所述基板的表面供給前處理液的工序；

使保持有向所述表面供給了所述前處理液的所述基板的所述保持臺旋轉的工序；

對配置于所述保持臺且向所述表面供給了所述前處理液的所述基板的所述表面的周緣部吹送氣體的工序；以及

對向所述表面供給了所述前處理液的所述基板進行鍍覆處理的鍍覆工序。

11.根據權利要求10所述的鍍覆方法，其特征在于，

吹送所述氣體的工序具有從所述基板的內側朝向外側對所述基板吹送氣體的工序。

12.根據權利要求10所述的鍍覆方法，其特征在于，

進行所述親水化處理的工序包含：在開始所述保持臺的旋轉后，開始對所述表面照射紫外線的工序。