[發明專利]金屬結構及其制作方法與應用的顯示面板

有效

• 申請號: 201711373560.1
• 申請日: 2017-12-19
• 公開（公告）號: CN108121098B
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: 王碩宏;林俊男;吳佳聰;郭吉庭;李格睿;李家宏;張家銘
• 申請（專利權）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 梁揮;鮑俊萍

金屬結構包括圖案化鉬鉭氧化物層以及圖案化金屬層。圖案化鉬鉭氧化物層設置于一第一基板上，其中該圖案化鉬鉭氧化物層中鉭的原子百分比含量約介于2％至12％之間，鉬的原子百分比含量與氧的原子百分比含量都大于鉭的原子百分比含量。圖案化金屬層設置于該圖案化鉬鉭氧化物層上。

技術領域

本發明是關于一種金屬結構及其制作方法與應用的顯示面板。

背景技術

液晶顯示面板由于具有外型輕薄、耗電量少以及應用范圍廣等特性，故已成為目前顯示器的主流商品。一方面，為了達到更寬廣的視覺效果，窄邊框逐漸成為液晶顯示面板的發展目標。另一方面，由于液晶顯示面板內的導線會反射外界的光線而影響視覺效果，現今常在液晶顯示面板內設置黑色矩陣層，在防止導線反射外界光線的同時，卻也造成開口率下降、顯示亮度降低的問題。

因此，如何發展出窄邊框或全平面無邊框、能有效降低光線反射、且不降低顯示亮度的顯示面板，是當前的目標。

發明內容

于本發明的多個實施方式中，借由設置圖案化鉬鉭氧化物層以及圖案化金屬層，能將主動元件陣列基板鄰近用戶(亦即主動元件陣列基板提供顯示面)。根據本發明的部分實施方式，金屬結構包括圖案化鉬鉭氧化物層以及圖案化金屬層。圖案化鉬鉭氧化物層，設置于第一基板上，但本發明不以此為限。其中該圖案化鉬鉭氧化物層中鉭的原子百分比含量約介于2％至12％之間，鉬的原子百分比含量與氧的原子百分比含量都大于鉭的原子百分比含量。圖案化金屬層設置于該圖案化鉬鉭氧化物層上。

于本發明的部分實施方式中，圖案化鉬鉭氧化物層中氧的原子百分比含量系約介于5％至60％之間。

于本發明的部分實施方式中，圖案化鉬鉭氧化物層的厚度系介于約50埃～約600埃之間。

于本發明的部分實施方式中，圖案化金屬層的厚度系介于約50埃～約10000埃之間。

于本發明的部分實施方式中，圖案化鉬鉭氧化物層于可見光范圍內的反射率介于約2％至約20％之間。

于本發明的部分實施方式中，金屬結構的側表面與底表面之間具有一夾角，且該夾角約介于10度至80度之間。

根據本發明的部分實施方式，顯示面板包含第一基板、第二基板、顯示介質層、圖案化鉬鉭氧化物層以及圖案化金屬層。第一基板具有外表面、內表面、以及連接外表面與內表面的第一側邊，且外表面作為顯示面板的顯示面。第二基板具有外表面、內表面、以及連接外表面與內表面的第二側邊，且第二基板的內表面對于第一基板的內表面，其中，第一側邊與第二側邊位于顯示面板的同一側，且第一側邊實質上對齊或超出第二側邊。顯示介質層設置于第一基板與第二基板之間。圖案化鉬鉭氧化物層設置于第一基板的內表面。圖案化金屬層設置于圖案化鉬鉭氧化物層與第二基板的內表面之間。

于本發明的部分實施方式中，顯示面板包含背光元件，用以向第二基板提供一光線，其中第二基板位于第一基板與背光元件之間，且光線依序經過第二基板、顯示介質層與第一基板。

于本發明的部分實施方式中，圖案化金屬層包括柵極線、柵極、共通線、數據線、源極或漏極的其中至少一者。

于本發明的部分實施方式中，圖案化鉬鉭氧化物層中鉭的原子百分比含量約介于2％至12％之間，且鉬的原子百分比含量與氧的原子百分比含量都大于鉭的原子百分比含量。

于本發明的部分實施方式中，圖案化鉬鉭氧化物層中氧的原子百分比含量約介于5％至60％之間。

于本發明的部分實施方式中，圖案化鉬鉭氧化物層的厚度介于約50埃～約600埃之間。