[發(fā)明專利]金屬結構及其制作方法與應用的顯示面板

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711373560.1
• 申請日: 2017-12-19
• 公開（公告）號: CN108121098B
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發(fā)明（設計）人: 王碩宏;林俊男;吳佳聰;郭吉庭;李格睿;李家宏;張家銘
• 申請（專利權）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權代理有限公司 11006
• 代理人: 梁揮;鮑俊萍

1.一種金屬結構，其特征在于，包括：

一圖案化鉬鉭氧化物層，設置于一第一基板上，其中該圖案化鉬鉭氧化物層中鉭的原子百分比含量系介于2％至12％之間，鉬的原子百分比含量與氧的原子百分比含量都大于鉭的原子百分比含量；以及

一圖案化金屬層，設置于該圖案化鉬鉭氧化物層上。

2.根據(jù)權利要求1所述的金屬結構，其特征在于，該圖案化鉬鉭氧化物層中氧的原子百分比含量系介于5％至60％之間。

3.根據(jù)權利要求1所述的金屬結構，其特征在于，該圖案化鉬鉭氧化物層的厚度系介于之間。

4.根據(jù)權利要求1所述的金屬結構，其特征在于，該圖案化金屬層的厚度系介于之間。

5.根據(jù)權利要求1所述的金屬結構，其特征在于，該金屬結構于可見光范圍內(nèi)的反射率介于2％至20％之間。

6.根據(jù)權利要求1所述的金屬結構，其特征在于，該金屬結構的側表面與底表面之間具有一夾角，且該夾角介于10度至80度之間。

7.一種顯示面板，其特征在于，包含：

一第一基板，具有一外表面、一內(nèi)表面、以及一連接該第一基板的該外表面與該內(nèi)表面的第一側邊，且該外表面作為該顯示面板的顯示面；

一第二基板，具有一外表面、一內(nèi)表面、以及一連接該第二基板的該外表面與該內(nèi)表面的第二側邊，且該第二基板的該內(nèi)表面對應于該第一基板的該內(nèi)表面，其中，該第一側邊與該第二側邊位于該顯示面板的同一側，且該第一側邊實質上對齊或超出該第二側邊；

一顯示介質層，設置于該第一基板與該第二基板之間；

一圖案化鉬鉭氧化物層，設置于該第一基板的內(nèi)表面；以及

一圖案化金屬層，設置于該圖案化鉬鉭氧化物層與該第二基板的內(nèi)表面之間；

其中該圖案化鉬鉭氧化物層中鉭的原子百分比含量介于2％至12％之間，且鉬的原子百分比含量與氧的原子百分比含量都大于鉭的原子百分比含量。

8.根據(jù)權利要求7所述的顯示面板，其特征在于，更包含：

一背光元件，用以向該第二基板提供一光線，其中該第二基板位于該第一基板與該背光元件之間，且該光線依序經(jīng)過該第二基板、該顯示介質層與該第一基板。

9.根據(jù)權利要求7所述的顯示面板，其特征在于，該圖案化金屬層包括一柵極線、一柵極、一共通線、一數(shù)據(jù)線、一源極或一漏極的其中至少一者。

10.根據(jù)權利要求7所述的顯示面板，其特征在于，該圖案化鉬鉭氧化物層中氧的原子百分比含量介于5％至60％之間。

11.根據(jù)權利要求7所述的顯示面板，其特征在于，該圖案化鉬鉭氧化物層的厚度介于之間。

12.一種制作金屬結構的方法，其特征在于，包含：

提供一第一基板；

于該第一基板的內(nèi)表面上形成一鉬鉭氧化物層，其中該鉬鉭氧化物層包括一鉬鉭氧化物，其中該鉬鉭氧化物中鉭的原子百分比含量介于2％至12％之間，且鉬的原子百分比含量與氧的原子百分比含量皆大于鉭的原子百分比含量；

于該鉬鉭氧化物層上形成一金屬層；以及

對該鉬鉭氧化物層與該金屬層進行一圖案化工藝，以形成一圖案化鉬鉭氧化物層以及一圖案化金屬層。

13.根據(jù)權利要求12所述的制作金屬結構的方法，其特征在于，對該鉬鉭氧化物層與該金屬層進行一圖案化工藝的步驟包含：

于該金屬層上形成一圖案化光刻膠層：以及

采用一酸性蝕刻液，以該圖案化光刻膠層為屏蔽對該鉬鉭氧化物層與該金屬層進行蝕刻。

14.根據(jù)權利要求13所述的制作金屬結構的方法，其特征在于，對該鉬鉭氧化物層與該金屬層進行一圖案化工藝的步驟包含：

采用一堿性去光刻膠液，去除該圖案化光刻膠層。