[發(fā)明專利]X射線圖像捕獲設(shè)備及控制其的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711372116.8 | 申請日: | 2017-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN108209948B | 公開(公告)日: | 2022-10-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金東昱;樸旻澈 | 申請(專利權(quán))人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 邵亞麗 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 射線 圖像 捕獲 設(shè)備 控制 方法 | ||
一種控制X射線圖像捕獲設(shè)備的方法,包括:使用相機(jī)通過拍攝被配置為接收從X射線發(fā)射表面發(fā)射的X射線的檢測器來獲取第一圖像,通過對所述第一圖像執(zhí)行校正來生成第二圖像,其中,校正包括改變所述第一圖像中的第一檢測器形狀以匹配在與X射線發(fā)射表面垂直的方向上拍攝的第二檢測器形狀,并且所述方法包括顯示第二圖像。
相關(guān)申請的交叉引用
本申請要求于2016年12月21日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的韓國專利申請第10-2016-0175838號的權(quán)益,其公開內(nèi)容通過引用整體并入本文。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及X射線圖像捕獲設(shè)備及其控制方法。
背景技術(shù)
已經(jīng)開發(fā)出X射線圖像捕獲設(shè)備并將其用作用于醫(yī)療診斷的放射線圖像捕獲設(shè)備。在X射線圖像捕獲設(shè)備中,當(dāng)從X射線源發(fā)射的X射線穿過對象時,閃爍體根據(jù)對象的密度將差分透射的X射線轉(zhuǎn)換成可見光,并且然后可見光被光電二極管轉(zhuǎn)換成電信號。X射線圖像捕獲設(shè)備通過使用該電信號來創(chuàng)建X射線已經(jīng)通過的對象的數(shù)字圖像。
通常,為了防止放射線技術(shù)人員暴露于輻射,X射線圖像捕獲設(shè)備的X射線輻射器與用于控制X射線圖像捕獲設(shè)備的工作站分離。因此,放射線技術(shù)人員適當(dāng)?shù)卣{(diào)整X射線輻射器相對于X射線成像的患者的位置,并且通過從工作站所處于的空間控制X射線圖像捕獲設(shè)備來獲得X射線圖像,所述空間例如成像控制室。
然而,如果放射線技術(shù)人員不能相對于待被X射線檢查的身體部位正確地定位X射線輻射器,或者如果患者在從工作站所處于的空間控制X射線圖像捕獲設(shè)備期間移動,則可能無法獲得期望的X射線圖像。
此外,即使當(dāng)放射線技術(shù)人員在可動X射線圖像捕獲設(shè)備中調(diào)整X射線輻射器的位置時,由于X射線輻射器和輸入裝置之間的距離,X射線可能放射到錯誤的位置上。
在這種情況下,必須再次執(zhí)行X射線成像,并且由于額外的X射線成像,患者可能會暴露于更多的輻射。
發(fā)明內(nèi)容
提供了X射線圖像捕獲設(shè)備和控制X射線圖像捕獲設(shè)備的方法,由此通過防止不必要的X射線成像來使患者暴露于輻射的量最小化。
提供了非暫時性計算機(jī)可讀記錄介質(zhì),其上記錄有用于在計算機(jī)上執(zhí)行控制X射線圖像捕獲設(shè)備的方法的程序,由此通過防止不必要的X射線成像來最小化患者暴露于輻射的量。
另外的方面將部分地在下面的描述中闡述,并且將部分地通過描述而顯而易見,或者可以通過對所給出的示例性實施例的實施被得知。
根據(jù)示例性實施例的一方面,一種控制X射線圖像捕獲設(shè)備的方法包括:使用相機(jī)通過拍攝被配置為接收從X射線發(fā)射表面發(fā)射的X射線的檢測器來獲取第一圖像,通過對所述第一圖像執(zhí)行校正來生成第二圖像,其中,校正包括改變所述第一圖像中的第一檢測器形狀以匹配在與X射線發(fā)射表面垂直的方向上拍攝的第二檢測器形狀,并且所述方法包括顯示第二圖像。
生成第二圖像的步驟可以包括基于X射線發(fā)射表面的位置和相機(jī)的位置來校正第一圖像。
第一圖像的校正可以包括基于X射線發(fā)射表面的中心的位置以及相機(jī)的鏡頭的中心的位置來校正第一圖像。
第二圖像的生成可以包括基于X射線發(fā)射表面和檢測器之間的距離來校正第一圖像。
生成第二圖像可以包括基于用于確定檢測器的位置和第一檢測器形狀中的至少一個的預(yù)定參考指示物來校正第一圖像。
第二圖像的顯示可以包括與第二圖像一起顯示預(yù)定參考指示物。
該方法還可以包括基于預(yù)定參考指示物來確定包括X射線發(fā)射表面的X射線輻射裝置是否布置在預(yù)定位置處。
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