[發(fā)明專利]封裝體的反應(yīng)層去除裝置及去除方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711368627.2 | 申請日: | 2017-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN109935533B | 公開(公告)日: | 2021-09-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳莉 | 申請(專利權(quán))人: | 無錫華潤安盛科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京博思佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
| 地址: | 214028 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 封裝 反應(yīng) 去除 裝置 方法 | ||
本發(fā)明提供一種封裝體的反應(yīng)層去除裝置及去除方法,該裝置包括:轉(zhuǎn)動(dòng)件,所述轉(zhuǎn)動(dòng)件具有腔體和轉(zhuǎn)動(dòng)軸,所述轉(zhuǎn)動(dòng)件可繞所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng);所述腔體內(nèi)設(shè)置有多個(gè)第二金屬微粒,且用于容納多個(gè)返工封裝體,所述返工封裝體的引腳表面具有第一金屬反應(yīng)層;所述腔體內(nèi)容納有導(dǎo)電溶液,所述第二金屬微粒在所述腔體的導(dǎo)電溶液中與所述第一金屬反應(yīng)層發(fā)生置換反應(yīng),以去除所述第一金屬反應(yīng)層。該裝置可有效去除各封裝體的引腳表面的第一金屬反應(yīng)層,對較多數(shù)量的封裝體進(jìn)行批量處理。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及封裝技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種封裝體的反應(yīng)層去除裝置及去除方法。
背景技術(shù)
目前,QFN(Quad Flat No-lead Package,方形扁平無引腳封裝)封裝體中,有一種使用銀凸點(diǎn)替代傳統(tǒng)銅框架的封裝形式,但是銀凸點(diǎn)容易發(fā)生硫化,因此降低了封裝產(chǎn)品的良率,影響產(chǎn)品性能。
目前去除銀凸點(diǎn)硫化層的方法不適用于封裝產(chǎn)品的批量處理,因此,需要一種有效去除封裝產(chǎn)品硫化層的方法,且適用于對封裝產(chǎn)品進(jìn)行批量處理。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種封裝體的反應(yīng)層去除裝置及去除方法,以解決相關(guān)技術(shù)中的不足。
根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)方面,提供一種封裝體的反應(yīng)層去除裝置,包括:
轉(zhuǎn)動(dòng)件,所述轉(zhuǎn)動(dòng)件具有腔體和轉(zhuǎn)動(dòng)軸,所述轉(zhuǎn)動(dòng)件可繞所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng);
所述腔體內(nèi)設(shè)置有多個(gè)第二金屬微粒,且用于容納多個(gè)返工封裝體,所述返工封裝體的引腳表面具有第一金屬反應(yīng)層;
所述腔體內(nèi)容納有導(dǎo)電溶液,所述第二金屬微粒在所述腔體的導(dǎo)電溶液中與所述第一金屬反應(yīng)層發(fā)生置換反應(yīng),以去除所述第一金屬反應(yīng)層。
可選的,還包括:
容器,所述容器中設(shè)置有所述導(dǎo)電溶液;
所述轉(zhuǎn)動(dòng)件上還設(shè)置從轉(zhuǎn)動(dòng)件表面貫穿至所述腔體內(nèi)的多個(gè)孔,所述轉(zhuǎn)動(dòng)件的至少部分位于所述導(dǎo)電溶液中,在所述轉(zhuǎn)動(dòng)件轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),所述導(dǎo)電溶液經(jīng)過所述孔可流入所述轉(zhuǎn)動(dòng)件的腔體內(nèi)。
可選的,還包括動(dòng)力源,所述動(dòng)力源與所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸連接,所述動(dòng)力源用于控制所述轉(zhuǎn)動(dòng)件繞所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)。
可選的,所述轉(zhuǎn)動(dòng)件和所述腔體的形狀均為圓柱形。
可選的,各所述孔均勻分布于所述轉(zhuǎn)動(dòng)件上。
可選的,所述第二金屬微粒的直徑為0.5mm至1.5mm。
可選的,所述第一金屬反應(yīng)層為硫化銀層,所述第二金屬微粒為鋁材料微粒。
可選的,所述導(dǎo)電溶液為堿性溶液。
可選的,所述導(dǎo)電溶液為碳酸鈉與所述氯化鈉的混合溶液。
可選的,所述碳酸鈉與所述氯化鈉的質(zhì)量比為400:1-100:1。
可選的,所述導(dǎo)電溶液的溶劑為去離子水。
根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)方面,提供一種封裝體的反應(yīng)層去除方法,包括:
將多個(gè)返工封裝體和第二金屬微粒放置于一轉(zhuǎn)動(dòng)件的腔體中,所述待返工封裝體的引腳表面具有第一金屬反應(yīng)層;
所述第二金屬微粒在所述腔體的導(dǎo)電溶液中與所述第一金屬反應(yīng)層發(fā)生置換反應(yīng),以去除所述第一金屬反應(yīng)層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





