[發(fā)明專利]一種真空鍍膜生產(chǎn)線用傳動機構(gòu)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711353380.7 | 申請日: | 2013-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN108265264A | 公開(公告)日: | 2018-07-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 黃國興;孫桂紅;祝海生;黃樂;梁紅;吳永光 | 申請(專利權(quán))人: | 湘潭宏大真空技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/22 | 分類號: | C23C14/22;C23C14/56;F16H49/00;F16H57/029 |
| 代理公司: | 上海精晟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31253 | 代理人: | 馮子玲 |
| 地址: | 411100 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁力耦合器 主動組件 從動組件 真空鍍膜生產(chǎn)線 從動軸 主動軸 使用壽命延長 鍍膜生產(chǎn)線 機械傳動 節(jié)約資源 漏氣現(xiàn)象 能耗減少 運動傳遞 動密封 靜密封 氣密性 腔室 受電 磨損 驅(qū)動 轉(zhuǎn)換 應用 | ||
1.一種真空鍍膜生產(chǎn)線用傳動機構(gòu),其特征在于,包括:一主動組件、一從動組件和一磁力耦合器,所述主動組件和所述從動組件分別設置在所述磁力耦合器的兩側(cè),所述主動組件受電驅(qū)動,通過所述磁力耦合器使所述主動組件驅(qū)動所述從動組件運動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用傳動機構(gòu),其特征在于:所述主動組件包括一主動軸,所述從動組件包括一從動軸和一傳動輪,所述從動軸帶動所述傳動輪轉(zhuǎn)動,所述主動軸和所述從動軸設置在所述磁力耦合器的兩側(cè),所述磁力耦合器連接所述主動軸和所述從動軸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用傳動機構(gòu),其特征在于:所述主動組件進一步包括一帶輪和一皮帶,所述帶輪設置在所述主動軸上,所述皮帶連接所述真空鍍膜生產(chǎn)線中的電機和所述主動軸上的帶輪,所述主動軸受所述真空鍍膜生產(chǎn)線中電機驅(qū)動。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用傳動機構(gòu),其特征在于:所述主動軸包括一主動軸第一端部、一主動軸第二端部和一主動軸體,所述從主動軸第一端部向所述主動軸第二端部延伸形成主動軸體,所述主動軸第二端部與所述磁力耦合器連接,所述帶輪設置在所述主動軸第一端部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用傳動機構(gòu),其特征在于:所述主動組件進一步包括至少一個主動軸鍵,所述主動軸鍵設置在所述帶輪和所述主動軸第一端部之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求2或5所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用傳動機構(gòu),其特征在于:所述從動軸進一步包括一從動軸第一端部、一從動軸第二端部和一從動軸體,所述從動軸第一端部向所述從動軸第二端部延伸形成從動軸體,所述從動軸第一端部與所述磁力耦合器連接,所述傳動輪設置在所述從動軸第二端部。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用傳動機構(gòu),其特征在于:所述從動組件進一步包括一傳動輪固定座,所述傳動輪固定座設置在所述從動軸上,所述傳動輪與所述傳動輪固定座通過螺栓連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用傳動機構(gòu),其特征在于:所述真空鍍膜生產(chǎn)線用傳動機構(gòu)進一步包括一密封法蘭,所述密封法蘭設置在所述磁力耦合器上。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用傳動機構(gòu),其特征在于:所述主動軸第一端部設有至少一個主動軸鍵槽,所述主動軸鍵槽的寬度與所述主動軸鍵的寬度一致。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的真空鍍膜生產(chǎn)線用傳動機構(gòu),其特征在于:所述帶輪上進一步包括一帶輪內(nèi)孔和至少一個帶輪鍵槽,所述帶輪內(nèi)孔的內(nèi)徑與所述主動軸第一端部的直徑一致,所述帶輪鍵槽自所述帶輪內(nèi)孔上去除材料形成,所述帶輪鍵槽的寬度與所述主動軸鍵的寬度一致。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





