[發(fā)明專利]一種高純氮氧化硅的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711352598.0 | 申請日: | 2017-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN107986795A | 公開(公告)日: | 2018-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 杜寧;季勇升;楊德仁;張亞光;杜英;陸介平 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇潤弛太陽能材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/597 | 分類號: | C04B35/597;C04B35/626 |
| 代理公司: | 南京天華專利代理有限責(zé)任公司32218 | 代理人: | 徐冬濤,李曉峰 |
| 地址: | 212218 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高純 氧化 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及氮氧化硅陶瓷粉末材料的制備領(lǐng)域,具體涉及一種高純氮氧化硅的制備方法。
背景技術(shù)
氮氧化硅(Si2N2O)是一種性能優(yōu)異的結(jié)構(gòu)陶瓷材料,它具有優(yōu)異的耐高溫強(qiáng)度,并且具有優(yōu)異的耐高溫氧化性。在高溫下,它具有很低的熱膨脹系數(shù),并有良好的抗熱震性。相對于現(xiàn)在性能優(yōu)異而且應(yīng)用廣泛的氮化硅和碳化硅,氮氧化硅具有更加優(yōu)異的高溫抗氧化穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性,并具有可以耐熔融的非鐵金屬侵蝕的特性,它比氮化硅具有更高的分解溫度,能夠在更高的溫度下保持溫度。因此,氮氧化硅作為一種耐高溫陶瓷材料具有很好的應(yīng)用前景。此外,在鑄造多晶硅坩堝涂層領(lǐng)域,氮氧化硅也具有重大的潛在應(yīng)用價值。這是因?yàn)椋菏紫龋趸枳鳛槎趸韬偷璧倪^度中間態(tài)物質(zhì),和二氧化硅以及氮化硅都具有較高的結(jié)合強(qiáng)度,當(dāng)其作為二氧化硅和氮化硅的中間層時,可以有效的增強(qiáng)二氧化硅和氮化硅的結(jié)合強(qiáng)度,這使得目前廣泛應(yīng)用的氮化硅涂層和石英坩堝具有更強(qiáng)的結(jié)合效應(yīng)。然后,氮氧化硅本身具有耐熱沖擊等高溫穩(wěn)定性,而且其與硅液具有更大的潤濕角,相對于氮化硅來講更不容易受到熔化的硅液的浸潤,使得其單獨(dú)作為鑄造多晶硅坩堝涂層具有比氮化硅更大的優(yōu)勢。總之,氮氧化硅不僅在高溫陶瓷,也在鑄造多晶硅坩堝涂層領(lǐng)域具有很大的應(yīng)用前景。
目前,制備氮氧化硅粉末的方法有三種。第一種是利用氧化硅和氮化硅直接反應(yīng)燒結(jié),具體是將氮化硅和氧化硅按一定比例混合,然后在高于1700℃的高溫下反應(yīng)燒結(jié),產(chǎn)生的氮氧化硅一般為陶瓷塊體,而且純度不高。第二種方法是以二氧化硅為原料,在氮?dú)鈿夥障吕锰紵徇€原的方法得到氮氧化硅,這種方法最為常見,工藝最為簡單,原料最為便宜和常見,但是,最終產(chǎn)物中氮氧化硅的含量和二氧化硅原料的性質(zhì)以及反應(yīng)工藝關(guān)系很大,而且產(chǎn)物中仍然會殘留大量的碳黑。第三種方法是以硅和氧化硅為原料,先在較低的溫度下氧化處理數(shù)小時,然后在較高溫下氮化處理更長的時間,該方法制備的氮氧化硅中,常常含有一定量的氮氧化硅。第四種方法是利用含硅的有機(jī)物制備氮氧化硅,該方法比較復(fù)雜,原料危險性大,一般不適合大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化推廣。
上述氮氧化硅的制備方法中,都有難以得到高純的氮氧化硅的問題。這是因?yàn)橹苽涞趸柰诘⒐琛⒀醯捏w系下進(jìn)行高溫處理,在這種情況下,往往容易生成穩(wěn)定的氧化硅或者氮化硅,使得最終氮氧化硅的產(chǎn)物中含有氧化硅或者氮化硅等雜質(zhì)。
為了解決上述問題,本行業(yè)內(nèi)的研究人員提出了許多方案。
專利申請?zhí)枮?01510244620.4的中國專利公開了一種以硅和二氧化硅為原料,在1380℃-1500℃下熱爆合成然后浮選的制備氮氧化硅的方法。該方法反應(yīng)周期短,反應(yīng)過程中沒有稀釋劑和催化劑,成本低廉。但是,熱爆合成反應(yīng)迅速,放出巨大熱量,具有一定危險性,不適合大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。
閆玉華等(閆玉華,王思青.含硅原料對合成氮氧化硅粉末的影響[J].陶瓷學(xué)報,1997(3):154-157.)利用廉潔的二氧化硅原料,通過先對二氧化硅原料進(jìn)行活化處理,然后在碳熱還原的作用下生成氮氧化硅。這種方法巧妙利用了二氧化硅的活化,制備了較高純度的氮氧化硅。但是,這種方法工藝較為復(fù)雜,二氧化硅活化過程使用了酸洗的工藝,其具有環(huán)境污染的風(fēng)險,整體工藝復(fù)雜,成本較高,有污染環(huán)境的風(fēng)險,不適合做大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化推廣。
專利申請?zhí)枮?01510692032.7的中國專利公開了一種利用高純硅粉和納米非晶二氧化硅為原料,在高溫下氮氧化合成反應(yīng)后,再溶液分散,過濾,干燥得到氮氧化硅晶須。該方案使用的納米非晶二氧化硅成本較高,難以有量化生產(chǎn),而且納米的二氧化硅和微米的硅粉難以混合均勻,導(dǎo)致生成的產(chǎn)物成分也不均勻。同樣不適合做大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化的推廣。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種高純氮氧化硅的制備方法,通過先對高純硅粉進(jìn)行加濕,然后在氮氧混合氣的氣氛下進(jìn)而高溫煅燒,進(jìn)而獲得高純氮氧化硅。
本發(fā)明的技術(shù)方案具體為:
一種高純氮氧化硅的制備方法,包括以下步驟:
(1)將硅粉進(jìn)行加濕處理;
(2)在氮氧氣氛下,將步驟(1)得到的硅粉原料進(jìn)行兩步高溫煅燒,待反應(yīng)完全后得到氮氧化硅;所述兩步高溫煅燒的過程為:第一步1000-1300℃,5-15h,第二步1300-1500℃,10-30h;優(yōu)選的,所述兩步高溫煅燒的過程為:第一步1250-1300℃,10-15h,第二步1400-1450℃,20-30h。
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