[發(fā)明專利]一種涂布設(shè)備的熱處理腔室有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711349779.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108109943B | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 沈升好 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 安徽省繁昌縣皖南閥門鑄造有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 安徽合肥華信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
| 地址: | 241200 *** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 布設(shè) 熱處理 | ||
1.一種涂布設(shè)備的熱處理腔室,包括底座(1),其特征在于,所述底座(1)的上端設(shè)有第一殼體(9),所述第一殼體(9)的內(nèi)部設(shè)有中空腔,所述中空腔的內(nèi)底部對(duì)稱設(shè)有兩個(gè)支撐板(6),兩個(gè)所述支撐板(6)的上端通過加熱板(2)連接,所述中空腔的內(nèi)底部設(shè)有兩個(gè)懸掛裝置,所述懸掛裝置的底部通過懸掛板(12)連接,所述懸掛板(12)的底部對(duì)稱設(shè)有兩個(gè)固定板(7),兩個(gè)所述固定板(7)的側(cè)壁均貫穿設(shè)有第一伺服電機(jī)(11),兩個(gè)所述第一伺服電機(jī)(11)的輸出軸末端均固定連接有第一從動(dòng)輪(8),兩個(gè)所述固定板(7)相對(duì)的側(cè)壁均轉(zhuǎn)動(dòng)連接有轉(zhuǎn)動(dòng)桿(5),兩個(gè)所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿(5)相對(duì)的一端側(cè)壁通過第二殼體(4)固定連接,所述第二殼體(4)的內(nèi)部設(shè)有放置腔,兩個(gè)所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿(5)的外側(cè)壁均固定連接有第一主動(dòng)輪(3),兩個(gè)所述第一主動(dòng)輪(3)分別與相對(duì)的第一從動(dòng)輪(8)相互嚙合;
所述懸掛裝置包括對(duì)稱設(shè)置在中空腔內(nèi)頂部的兩個(gè)中空桿(15),兩個(gè)所述中空桿(15)的內(nèi)部均設(shè)有升降腔, 兩個(gè)所述升降腔內(nèi)均設(shè)有螺紋桿(17),兩個(gè)所述螺紋桿(17)的下端分別貫穿相對(duì)的中空桿(15)的底部側(cè)壁并與其螺紋連接,兩個(gè)所述螺紋桿(17)的底部側(cè)壁均轉(zhuǎn)動(dòng)連接有第一轉(zhuǎn)動(dòng) 塊,兩個(gè)所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)塊的底部通過懸掛板(12)連接,兩個(gè)所述中空桿(15)的兩端側(cè)壁均 貫穿設(shè)有與升降腔相互連通的滑動(dòng)槽,兩個(gè)所述螺紋桿(17)的上端側(cè)壁通過橫板(13)轉(zhuǎn)動(dòng)連接,且所述橫板(13)分別貫穿四個(gè)滑動(dòng)槽并與其滑動(dòng)連接,兩個(gè)所述螺紋桿(17)的外側(cè) 壁均螺紋連接有第二從動(dòng)輪(16),兩個(gè)所述第二從動(dòng)輪(16)的側(cè)壁均轉(zhuǎn)動(dòng)連接有第二轉(zhuǎn)動(dòng)塊(18),兩個(gè)所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)塊(18)的底部分別與相對(duì)的升降腔內(nèi)底部轉(zhuǎn)動(dòng)連接,兩個(gè)相對(duì) 的所述滑動(dòng)槽的內(nèi)側(cè)壁均固定連接有延伸板(21),兩個(gè)所述延伸板(21)的底部側(cè)壁均固定 連接有第二伺服電機(jī)(20),兩個(gè)所述第二伺服電機(jī)(20)的輸出軸末端均固定連接有與第二從動(dòng)輪(16)相互嚙合的第二主動(dòng)輪(19)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種涂布設(shè)備的熱處理腔室,其特征在于,兩個(gè)所述螺紋桿(17)的內(nèi)部均設(shè)有限位腔,兩個(gè)所述中空腔的內(nèi)頂部均設(shè)有第一限位桿(14),兩個(gè)所述第一限位桿(14)的下端均依次貫穿橫板(13)的側(cè)壁、螺紋桿(17)的上端側(cè)壁并與限位腔滑動(dòng)連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種涂布設(shè)備的熱處理腔室,其特征在于,所述中空腔的內(nèi)頂部對(duì)稱設(shè)有兩個(gè)第二限位桿(10),兩個(gè)所述第二限位桿(10)的底部分別貫穿懸掛板(12)的底部側(cè)壁并與其滑動(dòng)連接。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種涂布設(shè)備的熱處理腔室,其特征在于,所述底座(1)的底部設(shè)有行走機(jī)構(gòu),所述行走機(jī)構(gòu)為萬(wàn)向輪。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種涂布設(shè)備的熱處理腔室,其特征在于,所述中空腔的內(nèi)頂部設(shè)有多個(gè)懸掛彈簧,多個(gè)所述懸掛彈簧的底部均與橫板(13)的上端連接。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





