[發(fā)明專利]無氰堿性鍍銅電鍍液

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711340361.0
• 申請日: 2017-12-14
• 公開（公告）號: CN107829116B
• 公開（公告）日: 2019-08-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 田志斌;謝麗虹;詹益騰;鄧正平
• 申請（專利權(quán)）人: 廣州三孚新材料科技股份有限公司
• 主分類號: C25D3/38
• 分類號: C25D3/38
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 萬志香

一種無氰堿性鍍銅電鍍液，主要由以下濃度的組分混合而成：N，N，N'?三(2?羥丙基)?N'?羥乙基乙二胺1g/L～60g/L；四羥丙基乙二胺0～8g/L；1，3?二溴?5，5?二甲基海因0g/L～0.6g/L；檸檬酸鹽和/或酒石酸鹽25g/L～45g/L；銅鹽20g/L～50g/L；無機(jī)堿50g/L～70g/L；導(dǎo)電鹽20g/L～120g/L；水余量；至少從所述1,3?二溴?5,5?二甲基海因和四羥丙基乙二胺中選擇一種。上述無氰堿性鍍銅電鍍液具有較強(qiáng)的分散能力。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及電鍍技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及無氰堿性鍍銅電鍍液。

背景技術(shù)

在電鍍行業(yè)中，堿性鍍銅主要應(yīng)用于鐵件、鋅合金件、鋁合金件、黃銅件等基體的打底鍍層。傳統(tǒng)的堿性鍍銅溶液的絡(luò)合劑都采用氰化物，且在第一次世界大戰(zhàn)后被廣泛應(yīng)用至今。氰化物鍍銅性能優(yōu)越，孔隙率低、分散能力好、深鍍能力好、鍍液穩(wěn)定，然而氰化物是劇毒物質(zhì)，其致死量僅僅為5mg，其不僅在使用過程中存在安全隱患，而且廢水后處理也極其復(fù)雜，給企業(yè)也帶來了巨大的經(jīng)濟(jì)壓力。因此需要研發(fā)無氰鍍銅工藝。

傳統(tǒng)上，無氰堿銅主要有：焦磷酸鹽鍍銅、HEDP體系無氰堿銅等。但是這些無氰堿銅的分散能力較差，嚴(yán)重影響鍍層的均勻性。特別是具有深腔形狀的器件，例如：具有長方形或正方形深腔形狀的濾波器，其深度達(dá)3-5cm，且整個工件最高區(qū)和最低區(qū)的厚度差不能大于3倍，有的工件甚至不能大于2倍。可見，傳統(tǒng)的無氰堿銅鍍液由于在器件上的高區(qū)與低區(qū)的厚度差太大，無法滿足需求。需要研發(fā)一種具有較高分散能力的無氰堿性鍍銅電鍍液。

發(fā)明內(nèi)容

針對如何增加無氰堿性鍍銅電鍍液的分散能力的問題，本發(fā)明提供一種無氰堿性鍍銅電鍍液。

一種無氰堿性鍍銅電鍍液，由以下濃度的組分混合而成：

至少從所述1,3-二溴-5,5-二甲基海因和四羥丙基乙二胺中選擇一種。

上述無氰堿性鍍銅電鍍液，采用N，N，N'-三(2-羥丙基)-N'-羥乙基乙二胺作為主配位劑與銅離子配位，另外加入1,3-二溴-5,5-二甲基海因和/或四羥丙基乙二胺、檸檬酸鹽和/或酒石酸鹽來增強(qiáng)各配位劑與銅離子的配位，并合理地選擇銅鹽的濃度，使銅離子與各配位劑的濃度比維持在一定范圍內(nèi)，從而使得鍍層結(jié)晶細(xì)致，大大增強(qiáng)了鍍液的分散能力。另外，加入無機(jī)堿，使鍍液的pH維持在一定的范圍內(nèi)，保證配位劑與銅離子的配位形態(tài)，增加陰極的極化作用，進(jìn)而增強(qiáng)鍍液的分散能力。此外，還加入一定濃度的導(dǎo)電鹽，以增加導(dǎo)電率，使陰極表面電流密度分布更加均勻，有利于獲得厚度均勻的鍍層，另外，該導(dǎo)電鹽的加入還可以使槽電壓下降，使鍍液的深鍍能力得到改善，從而再進(jìn)一步提高鍍液的分散能力。因此，上述無氰堿性鍍銅電鍍液具有較強(qiáng)的分散能力。

且該電鍍液采用具有強(qiáng)配位能力的N，N，N'-三(2-羥丙基)-N’-羥乙基乙二胺作為主配位劑，另外還加入四羥丙基乙二胺和/或1，3-二溴-5，5-二甲基海因、檸檬酸鹽和/或酒石酸鹽來增強(qiáng)其配位能力，使配位劑與銅離子形成非常穩(wěn)定的配位離子，以有效地降低銅的析出電位，使之接近或超過基體金屬的析出電位，有效地抑制了銅電鍍液與基體之間的反應(yīng)，因此可以保證鍍層與基體具有很好的結(jié)合力。

可見上述無氰堿性鍍銅電鍍液在保證鍍層與基體具有很好的結(jié)合力的同時，還可以保證鍍層具有較高的均勻性。因此采用該電鍍液可以對具有不規(guī)則形狀的基體進(jìn)行電鍍，同樣可以得到厚度均勻的電鍍層，滿足需求。

在其中一實(shí)施例中，所述無氰堿性鍍銅電鍍液由以下濃度的組分混合而成：

在其中一實(shí)施例中，所述無氰堿性鍍銅電鍍液由以下濃度的組分混合而成：