[發(fā)明專利]線路板及其生產(chǎn)方法、圖形轉(zhuǎn)移方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711332335.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108124386A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 彭文才;喬書(shū)曉;陳黎陽(yáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣州興森快捷電路科技有限公司;深圳市興森快捷電路科技股份有限公司;宜興硅谷電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H05K3/06 | 分類號(hào): | H05K3/06;H05K1/11 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 劉靜 |
| 地址: | 510663 廣東省廣州市廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 干膜 金屬化孔 顯影 圖形轉(zhuǎn)移 預(yù)設(shè) 蝕刻 線路板 線路圖形 基板 曝光 貼設(shè) 間距要求 蝕刻工藝 成品率 對(duì)基板 基板貼 蓋設(shè) 孔邊 膜邊 去除 生產(chǎn)成本 破損 鋪設(shè) 加工 生產(chǎn) | ||
本發(fā)明涉及一種圖形轉(zhuǎn)移方法,包括以下步驟:取基板,在基板貼設(shè)第一干膜;對(duì)第一干膜曝光、顯影,顯影后存留的第一干膜蓋設(shè)于金屬化孔、并使第一干膜的膜邊與金屬化孔的孔邊間距達(dá)到預(yù)設(shè)的間距要求;在存留的第一干膜上鋪設(shè)第二干膜、并使第二干膜貼設(shè)于整個(gè)基板;根據(jù)預(yù)設(shè)的線路圖形對(duì)第二干膜進(jìn)行曝光、顯影;根據(jù)預(yù)設(shè)的線路圖形對(duì)基板進(jìn)行蝕刻、并完成蝕刻;去除第一干膜和第二干膜,完成圖形轉(zhuǎn)移。對(duì)第一干膜進(jìn)行曝光和顯影,預(yù)先對(duì)金屬化孔進(jìn)行保護(hù),第二干膜的貼設(shè)形成厚度更大的干膜,起到對(duì)金屬化孔的保護(hù),避免后期的蝕刻工藝造成干膜破損,從而提高了線路板的加工成品率,降低了生產(chǎn)成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及線路板技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種線路板及其生產(chǎn)方法、圖形轉(zhuǎn)移方法。
背景技術(shù)
PCB(Printed Circuit Board),中文名稱為印制電路板,又稱印刷線路板或線路板,是電子元器件的支撐體、電子元器件電氣連接的載體。由于采用電子印刷術(shù)制作,故被稱為“印刷”電路板。
隨著電子行業(yè)的不斷發(fā)展,PCB的功能也高度集成化,布線密度越來(lái)越高,高端電子產(chǎn)品中的線寬大于或等于3mil已成常規(guī)設(shè)計(jì),對(duì)應(yīng)的PCB過(guò)孔用于焊接元器件。而PCB的加工過(guò)程中,需要對(duì)線路板進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移工序,通常采用干膜經(jīng)曝光和顯影并蝕刻,然而,在精細(xì)線路板加工時(shí),對(duì)干膜的厚度有著嚴(yán)格要求,當(dāng)PCB的金屬化孔孔徑大于或等于1mm時(shí),顯影操作很容易導(dǎo)致干膜破損,進(jìn)而導(dǎo)致后續(xù)蝕刻時(shí)將金屬化孔內(nèi)的銅蝕刻掉,造成PCB板報(bào)廢,增加生產(chǎn)成本。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,有必要針對(duì)大孔徑金屬化孔顯影時(shí)干膜易破裂的問(wèn)題,提供一種線路板及其生產(chǎn)方法、圖形轉(zhuǎn)移方法。
其技術(shù)方案如下:
一種圖形轉(zhuǎn)移方法,包括以下步驟:
(1)、取基板,基板設(shè)有金屬化孔,在基板貼設(shè)第一干膜;
(2)、對(duì)第一干膜曝光、顯影,顯影后存留的第一干膜蓋設(shè)于金屬化孔、并使第一干膜的膜邊與金屬化孔的孔邊間距達(dá)到預(yù)設(shè)的間距要求;
(3)、在步驟(2)顯影后存留的第一干膜上鋪設(shè)第二干膜、并使第二干膜貼設(shè)于整個(gè)基板;
(4)、根據(jù)預(yù)設(shè)的線路圖形對(duì)第二干膜進(jìn)行曝光、顯影;
(5)、根據(jù)預(yù)設(shè)的線路圖形對(duì)基板進(jìn)行蝕刻、并完成蝕刻;
(6)、去除第一干膜和第二干膜,完成圖形轉(zhuǎn)移。
上述圖形轉(zhuǎn)移方法,應(yīng)用于線路板的圖形轉(zhuǎn)移工序中,通過(guò)第一干膜和第二干膜的設(shè)置,對(duì)第一干膜進(jìn)行曝光和顯影,預(yù)先對(duì)金屬化孔進(jìn)行保護(hù),第二干膜的貼設(shè)使第一干膜和第二干膜疊加并形成厚度更大的干膜,以起到對(duì)金屬化孔的保護(hù),避免后期的蝕刻工藝造成干膜破損,導(dǎo)致蝕刻時(shí)蝕刻液進(jìn)入到金屬化孔內(nèi),影響產(chǎn)品質(zhì)量,從而提高了線路板的加工成品率,降低了生產(chǎn)成本。
下面進(jìn)一步對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行說(shuō)明:
在其中一個(gè)實(shí)施例中,第一干膜的厚度大于第二干膜的厚度。對(duì)基板的銅層即線路層進(jìn)行蝕刻時(shí),干膜的膜厚會(huì)影響蝕刻精度,為保證蝕刻精度,一般要求干膜的厚度不能太厚,因此,第一干膜的厚度大于第二干膜的厚度,使曝光、顯影后的第一干膜首先起到對(duì)金屬化孔的保護(hù)作用,第二干膜不僅滿足線路層的蝕刻精度要求,還進(jìn)一步與第一干膜疊加起到對(duì)金屬化孔的進(jìn)一步保護(hù)作用,避免后續(xù)的蝕刻工藝影響到金屬化孔。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,第一干膜的厚度不小于40μm,第二干膜的厚度不大于30μm。給出優(yōu)選的第一干膜和第二干膜厚度,供線路板生產(chǎn)時(shí)的參數(shù)選擇。
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