[發明專利]壓印模具以及壓印模具制造方法在審
| 申請號: | 201711320745.6 | 申請日: | 2017-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN107861335A | 公開(公告)日: | 2018-03-30 |
| 發明(設計)人: | 黃勝銘;林圣凱;陳志強;張暉谷;鍾佳欣;王濰淇;王銘瑞;呂仁貴;羅再昇;沈煌凱 | 申請(專利權)人: | 友達光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司11006 | 代理人: | 梁揮,鮑俊萍 |
| 地址: | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓印 模具 以及 制造 方法 | ||
技術領域
本發明關于一種壓印(imprint)模具以及壓印模具制造方法。
背景技術
在納米壓印光刻技術所需的具有納米結構圖案的模具的制作技術中,常見采用電子束光刻(Electron Beam Lithorgraphy)技術并搭配有機光致抗蝕劑的使用,從而在平面模仁上形成納米結構圖案。然而,使用電子束光刻技術制造納米結構圖案的設備成本高,光刻制作技術費時且僅限于12吋晶圓以下,并不利于制作大面積的具有納米結構圖案的模具。
另一種制備制作大面積的具有納米結構圖案的模具的方法,是通過拼接工藝將多個小模具拼接形成大面積的模具。方式之一,是從一個小母模通過光聚合或類似物制備多個小復制品模具,將所述復制模并排如瓷磚或瓦片的定位處理,以產生一個大面積的模具。但是當小模具緊密排列時,小模具間易有重迭斷差現象發生,造成后續作為壓印模具時,形成納米壓印無效區域,因而影響納米壓印質量,甚至導致后續納米結構蝕刻問題。
方式之二是通過重復施作(Step and Repeat)的方式達到放大面積的目標,但是拼接處的實際結構不容易形成完全連續的理想拼接界面,如何達到拼接的精度要求是問題之一。
綜上,制作大面積的具有納米結構圖案的模具的成本難以降低,有改善的空間。
發明內容
本發明的主要目的在于提供一種壓印模具以及壓印模具制造方法,可降低制造成本。
本發明的壓印模具具有多個約相同或不同的模具圖案,模具圖案間不存在高度段差。
本發明的壓印模具,其表面包含第一區域、第二區域、以及重迭區域。第一區域內設置有第一模具圖案,第一模具圖案具有第一線寬及第一深度。第二區域內設置有第二模具圖案,第二模具圖案具有第二線寬及第二深度。重迭區域位于第一區域及第二區域之間,重迭區域內設置有第三模具圖案,第三模具圖案具有第三線寬及第三深度。其中,第一模具圖案、第二模具圖案的頂面位于同一水平,第三線寬≦第一線寬或第二線寬,第三深度≦第一深度或第二深度。
本發明的壓印模具,其表面包含第一區域、第二區域、以及重迭區域。第一區域內設置有第一模具圖案,第一模具圖案具有第一線寬及第一深度。第二區域內設置有第二模具圖案,第二模具圖案具有第二線寬及第二深度。重迭區域位于第一區域及第二區域之間,重迭區域下凹并具有第三深度。其中,第一模具圖案及第二模具圖案的頂面位于同一水平,第三深度≦第一深度或第二深度。
本發明的壓印模具,其表面包含第一區域以及第二區域。第一區域內設置有第一模具圖案,第一模具圖案具有第一線寬及第一深度。第二區域內設置有第二模具圖案,第二模具圖案具有第二線寬及第二深度,第一區域及第二區域之間具有間距。其中,第一模具圖案及第二模具圖案的頂面位于同一水平,間距與第一線寬及第二線寬均不相等。
本發明的壓印模具制造方法,包含:(步驟S1000)設置模具圖案層于基材上;(步驟S2000)于模具圖案層上設置第一硬掩膜層,其中第一硬掩膜層具有一個或多個第一鏤空區域;(步驟S3000)在模具圖案層形成第一模具圖案,其中第一模具圖案的范圍與第一鏤空區域于模具圖案層的垂直投影范圍完全重迭;(步驟S4000)去除第一硬掩膜層;(步驟S5000)于模具圖案層上設置第二硬掩膜層,其中第二硬掩膜層具有一個或多個第二鏤空區域,其中第二鏤空區域于模具圖案層的垂直投影范圍與第一模具圖案相鄰接;(步驟S6000)在模具圖案層形成第二模具圖案,其中第二模具圖案的范圍與第二鏤空區域于模具圖案層的垂直投影范圍完全重迭;(步驟S7000)去除第二硬掩膜層。
附圖說明
圖1A至5B為本發明壓印模具的實施例示意圖;
圖6為本發明壓印模具制造方法的實施例流程示意圖;
圖7A至7K為使用本發明壓印模具制造方法制造壓印模具的實施例示意圖;
圖8A至8C為本發明中對第一壓印光刻膠層以及模具圖案層進行蝕刻以在模具圖案層形成第一模具圖案的實施例示意圖;
圖9為本發明中使用聚二甲基硅氧烷光罩接觸曝光的實施例示意圖;
圖10為本發明中以UV干涉原理通過光罩曝光的實施例示意圖;
圖11為本發明中使用高分辨率電子束通過光罩掃描曝光的實施例示意圖。
其中,附圖標記:
100、404 第一區域
200、505 第二區域
300 重迭區域
311 第三圖案單元
312 突出部
400 基材
500 模具圖案層
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于友達光電股份有限公司,未經友達光電股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711320745.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種影像科洗片機
- 下一篇:一種采用灰度掩膜版實現三維曲面曝光和刻蝕的方法





