[發(fā)明專利]一種利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711318108.5 | 申請日: | 2017-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN108037105B | 公開(公告)日: | 2020-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 魏益華;張金艷;羅林廣;李瑞麗;賴艷 | 申請(專利權(quán))人: | 江西省農(nóng)業(yè)科學(xué)院農(nóng)產(chǎn)品質(zhì)量安全與標準研究所 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 北京三聚陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250 | 代理人: | 李敏 |
| 地址: | 330200 *** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 cdte 量子 測定 齊帕特羅 方法 | ||
1.一種利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、將表面具有羧基的CdTe量子點與齊帕特羅抗體偶聯(lián),得CdTe-齊帕特羅抗體,備用;
S2、制備包被有齊帕特羅抗原的酶標板;
S3、向步驟S2中的酶標板的各孔加入經(jīng)緩沖液稀釋的系列濃度的齊帕特羅標準溶液和CdTe-齊帕特羅抗體溶液,同時設(shè)置空白對照組,向所述空白對照組中加入緩沖液和CdTe-齊帕特羅抗體溶液,進行溫育,然后洗滌酶標板;
S4、測定步驟S3中洗滌后的酶標板中各孔的熒光強度F,空白對照組的熒光強度為F0,計算抑制率=(F–F0)/(Fmax-F0),以抑制率為縱坐標,以齊帕特羅標準溶液的濃度的對數(shù)為橫坐標,繪制標準曲線;
S5、將待測樣品與CdTe-齊帕特羅抗體溶液加入步驟S2中的所述酶標板中,經(jīng)溫育、洗滌,測定熒光強度,代入所述標準曲線,定量檢測所述待測樣品中齊帕特羅的濃度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,所述標準曲線的方程為I=8.5571lgC+73.733,I為抑制率,C為齊帕特羅的濃度,相關(guān)系數(shù)為R2=0.9943。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,在S1步驟中,所使用的CdTe量子點溶液的濃度為1-1.5×10-4mol/L,所使用的齊帕特羅抗體溶液的濃度為0.3-0.7mg/mL;所述CdTe量子點溶液與齊帕特羅抗體溶液的體積比為0.5-3:1。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,所述CdTe-齊帕特羅抗體的熒光激發(fā)波長λex=350nm,熒光發(fā)射波長λem=550nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,在S2步驟中,所使用的包被介質(zhì)包括CBS緩沖溶液、PBS緩沖溶液、PBST緩沖溶液或Tris-HCl緩沖溶液。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,所述包被介質(zhì)的濃度為0.01-0.05mol/L,pH值為7.4-9.6。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,所述包被介質(zhì)為濃度為0.05mol/L、pH=9.6的CBS緩沖溶液。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,在S2步驟中,齊帕特羅抗原的包被時間為8-12小時。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,包被時間為10小時。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,在S2步驟中,所使用的封閉液為質(zhì)量濃度為0.8-1.2%的OVA。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,為1.0%的OVA。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,在S3步驟中,所述的緩沖液為pH值為6.5-7.8的PBS緩沖液。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的利用CdTe量子點測定齊帕特羅的方法,其特征在于,所述pH值為7.4。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





