[發(fā)明專利]顯示面板、像素隔離墻及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711311091.0
• 申請(qǐng)日: 2017-12-11
• 公開（公告）號(hào): CN108091580B
• 公開（公告）日: 2019-12-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王輝鋒;甘靜
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/56
• 分類號(hào): H01L21/56;H01L51/50;H01L27/32
• 代理公司: 11348 北京鼎佳達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 王偉鋒;劉鐵生

本發(fā)明公開了一種顯示面板、像素隔離墻及其制備方法，涉及平板顯示技術(shù)領(lǐng)域，主要目的是用于提高像素隔離墻之間的有機(jī)功能層的成膜質(zhì)量。本發(fā)明的主要技術(shù)方案為：一種像素隔離墻，包括：親液層，用于設(shè)置在電極基板上；第一疏液層，設(shè)置于所述親液層遠(yuǎn)離所述電極基板的一側(cè)，其中，所述第一疏液層的材料為磁性疏液材料；隔離層，設(shè)置于所述第一疏液層遠(yuǎn)離所述親液層的一側(cè)。本發(fā)明主要用于隔離亞像素單元。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及平板顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板、像素隔離墻及其制備方法。

背景技術(shù)

OLED顯示技術(shù)相對(duì)于LCD顯示技術(shù)而言，具有自發(fā)光、反應(yīng)快、視角廣、亮度高、色彩艷等優(yōu)點(diǎn)，是顯示技術(shù)的重要發(fā)展方向之一。

在OLED器件的制備過程中，OLED的成膜方式主要有蒸鍍制程和溶液制程兩種，其中，溶液制程中的噴墨打印技術(shù)由于其利用率較高、可實(shí)現(xiàn)大尺寸化，而被廣泛的應(yīng)用，具體的，噴墨打印技術(shù)主要是將墨滴準(zhǔn)確的滴入到指定的亞像素凹槽內(nèi)，使其在亞像素凹槽內(nèi)形成用于發(fā)光的有機(jī)功能層，而圍成亞像素凹槽的像素隔離墻主要是由親液材質(zhì)制成，在墨液的干燥過程中，墨液形成的有機(jī)功能層會(huì)沿像素隔離墻的側(cè)壁攀爬一定的高度，嚴(yán)重影響成膜質(zhì)量，其中，攀爬的高度越高，其成膜質(zhì)量越差。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示面板、像素隔離墻及其制備方法，主要目的是用于提高像素隔離墻之間的有機(jī)功能層的成膜質(zhì)量。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明主要提供如下技術(shù)方案：

一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種像素隔離墻，包括：

親液層，用于設(shè)置在電極基板上；

第一疏液層，設(shè)置于所述親液層遠(yuǎn)離所述電極基板的一側(cè)，其中，所述第一疏液層的材料為磁性疏液材料；

隔離層，設(shè)置于所述第一疏液層遠(yuǎn)離所述親液層的一側(cè)。

可選地，所述第一疏液層的材料為接枝有四氧化三鐵微球的氟樹脂。

可選地，所述隔離層的材料為親液材料。

可選地，所述的像素隔離墻，還包括：

第二疏液層，所述第二疏液層設(shè)置于所述隔離層遠(yuǎn)離所述第一疏液層的一側(cè)。

另一方面，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示面板，包括：

像素隔離層，所述像素隔離層包括多個(gè)所述的像素隔離墻。

另一方面，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種像素隔離墻的制備方法，用于含有親液材料和磁性疏液材料的光刻膠，包括：

將所述光刻膠在電極基板的一側(cè)形成光刻膠層；

通過磁場(chǎng)將所述光刻膠中的磁性疏液材料調(diào)節(jié)至所述光刻膠層的預(yù)設(shè)厚度位置處；

對(duì)調(diào)節(jié)后的所述光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影工藝，形成像素隔離墻。

可選地，所述通過磁場(chǎng)將所述光刻膠中的磁性疏液材料調(diào)節(jié)至所述光刻膠層的預(yù)設(shè)厚度位置處，還包括：

在所述光刻膠層進(jìn)行前烘的過程中，通過磁場(chǎng)將所述光刻膠中的磁性疏液材料調(diào)節(jié)至所述光刻膠層的預(yù)設(shè)厚度位置處。

可選地，所述通過磁場(chǎng)將所述光刻膠中的磁性疏液材料調(diào)節(jié)至所述光刻膠層的預(yù)設(shè)厚度位置處，還包括：

通過磁場(chǎng)將所述光刻膠層預(yù)設(shè)圖案區(qū)域內(nèi)光刻膠中的磁性疏液材料調(diào)節(jié)至所述光刻膠層的預(yù)設(shè)厚度位置處。

可選地，所述磁場(chǎng)由電磁磁板形成。

可選地，所述光刻膠層的高度為1um-5um。