[發明專利]顯示面板、像素隔離墻及其制備方法

有效

• 申請號: 201711311091.0
• 申請日: 2017-12-11
• 公開（公告）號: CN108091580B
• 公開（公告）日: 2019-12-13
• 發明（設計）人: 王輝鋒;甘靜
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L21/56
• 分類號: H01L21/56;H01L51/50;H01L27/32
• 代理公司: 11348 北京鼎佳達知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 王偉鋒;劉鐵生

1.一種像素隔離墻，由光刻膠經過光刻工藝形成在電極基板上， 其特征在于，包括：

親液層，用于設置在電極基板上；

第一疏液層，設置于所述親液層遠離所述電極基板的一側，其中，所述第一疏液層的材料為磁性疏液材料；

隔離層，設置于所述第一疏液層遠離所述親液層的一側。

2.根據權利要求1所述的像素隔離墻，其特征在于，

所述第一疏液層的材料為接枝有四氧化三鐵微球的氟樹脂。

3.根據權利要求2所述的像素隔離墻，其特征在于，

所述隔離層的材料為親液材料。

4.根據權利要求1所述的像素隔離墻，其特征在于，還包括：

第二疏液層，所述第二疏液層設置于所述隔離層遠離所述第一疏液層的一側。

5.一種顯示面板，其特征在于，包括：

像素隔離層，所述像素隔離層包括多個如權利要求1至4中任一項所述的像素隔離墻。

6.一種像素隔離墻的制備方法，用于含有親液材料和磁性疏液材料的光刻膠，其特征在于，包括：

將所述光刻膠在電極基板的一側形成光刻膠層；

通過磁場將所述光刻膠中的磁性疏液材料調節至所述光刻膠層的預設厚度位置處；

對調節后的所述光刻膠層進行曝光、顯影工藝，形成像素隔離墻。

7.根據權利要求6所述的像素隔離墻的制備方法，其特征在于，

所述通過磁場將所述光刻膠中的磁性疏液材料調節至所述光刻膠層的預設厚度位置處，還包括：

在所述光刻膠層進行前烘的過程中，通過磁場將所述光刻膠中的磁性疏液材料調節至所述光刻膠層的預設厚度位置處。

8.根據權利要求6所述的像素隔離墻的制備方法，其特征在于，

所述通過磁場將所述光刻膠中的磁性疏液材料調節至所述光刻膠層的預設厚度位置處，還包括：

通過磁場將所述光刻膠層預設圖案區域內光刻膠中的磁性疏液材料調節至所述光刻膠層的預設厚度位置處。

9.根據權利要求6所述的像素隔離墻的制備方法，其特征在于，

所述磁場由電磁磁板形成。

10.根據權利要求6所述的像素隔離墻的制備方法，其特征在于，

所述光刻膠層的高度為1um-5um。