[發(fā)明專利]磁共振成像系統(tǒng)及其低溫保持器結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711295894.1 | 申請日: | 2017-12-08 |
| 公開(公告)號: | CN108037473B | 公開(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 范若云;郭儼 | 申請(專利權(quán))人: | 上海聯(lián)影醫(yī)療科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/38 | 分類號: | G01R33/38 |
| 代理公司: | 北京華進(jìn)京聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606 | 代理人: | 趙永輝 |
| 地址: | 201807 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁共振 成像 系統(tǒng) 及其 低溫 保持 結(jié)構(gòu) | ||
本發(fā)明提供了一種低溫保持器結(jié)構(gòu),包括:罐體,所述罐體的內(nèi)部設(shè)置有空腔,所述空腔用于放置冷卻劑以及浸泡于冷卻劑中的超導(dǎo)線圈,所述超導(dǎo)線圈用于產(chǎn)生磁共振成像所需的主磁場;冷頭部件,位于于所述罐體的側(cè)面,所述冷頭部件用于向所述空腔制冷將所述超導(dǎo)線圈保持在低溫超導(dǎo)狀態(tài);所述冷頭部件相對于豎直方向傾斜設(shè)置。即冷頭部件與豎直方向之間存在夾角,以增加冷頭部件到天花板之間的空間;這樣,傾斜后的冷頭部件能夠使得其拔出的高度降低,進(jìn)而使得上述空間能夠容置冷頭部件,從而降低對醫(yī)院現(xiàn)場的安裝需求。本發(fā)明還提供一種磁共振成像系統(tǒng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及醫(yī)用設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種磁共振成像系統(tǒng)及其低溫保持器結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
磁共振成像系統(tǒng)是一種旨在獲得一維、二維及三維圖像的醫(yī)療方式,非常適合軟組織的圖像化,主要用于診斷疾病病理及內(nèi)傷。典型的磁共振成像系統(tǒng)包括超導(dǎo)線圈,用以在掃描區(qū)域產(chǎn)生一個強(qiáng)大的、均勻的主磁場。超導(dǎo)線圈工作在極低的溫度下,通常使用零液氦揮發(fā)配合制冷機(jī)來維持超導(dǎo)線圈的溫度。
低溫制冷機(jī)通過提供足夠冷量補(bǔ)償,其值大于從外界潛入的漏熱,從而使整個低溫系統(tǒng)達(dá)到一個穩(wěn)定的超低溫度,確保超導(dǎo)線圈正常工作。通常使用G-M制冷機(jī)和脈沖管制冷機(jī)。對目前常用的G-M制冷機(jī)而言,其軸線一般垂直于地面,以確保制冷機(jī)二級提供有足夠的制冷量。
但是,G-M制冷機(jī)的壽命在10000小時作用,這就要求:在現(xiàn)場需要定期對冷頭進(jìn)行一個拆卸安裝的過程。而醫(yī)院現(xiàn)場,冷頭與其上方的頂棚之間的空間較小,由于冷頭拆裝的需求,為了避免冷頭碰觸頂棚,且方便冷頭的拆裝,往往需要被額外加高其頂棚,同時,對拆裝操作的條件也變得相當(dāng)苛刻,影響冷頭的拆裝效率。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,有必要針對目前冷頭與其上方的頂棚之間空間較小導(dǎo)致影響冷頭拆裝的問題,提供一種能夠方便安裝與拆卸以便于降低對醫(yī)院現(xiàn)場的安裝需求的低溫保持器結(jié)構(gòu),同時還提供一種含有上述低溫保持器結(jié)構(gòu)的磁共振成像系統(tǒng)。
上述目的通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
一種低溫保持器結(jié)構(gòu),包括:
罐體,所述罐體的內(nèi)部設(shè)置有空腔,所述空腔用于放置冷卻劑以及浸泡于冷卻劑中的超導(dǎo)線圈,所述超導(dǎo)線圈用于產(chǎn)生磁共振成像所需的主磁場;及
冷頭部件,位于所述罐體的側(cè)面,所述冷頭部件通過向所述空腔制冷將所述超導(dǎo)線圈保持在低溫超導(dǎo)狀態(tài);
所述冷頭部件相對于豎直方向傾斜設(shè)置。
在其中一個實(shí)施例中,所述冷頭部件的頂部朝向所述罐體端部的方向傾斜。
在其中一個實(shí)施例中,所述冷頭部件的頂部朝向靠近或遠(yuǎn)離所述超導(dǎo)線圈軸線的方向傾斜。
在其中一個實(shí)施例中,所述冷頭部件的軸線與所述豎直方向之間的夾角范圍為20°~45°。
在其中一個實(shí)施例中,所述冷頭部件包括第一級冷頭及第二級冷頭,所述第二級冷頭呈圓臺形設(shè)置,所述第二級冷頭在靠近所述第一級冷頭的一端的直徑大于所述第二級冷頭在遠(yuǎn)離所述第一級冷頭一端的直徑。
在其中一個實(shí)施例中,所述第二級冷頭的外表面具有上多個沿所述第二級冷頭徑向方向延伸的凸起,相鄰的兩個所述凸起間形成溝壑。
在其中一個實(shí)施例中,所述凸起為散熱翅片,所述散熱翅片在靠近所述第一級冷頭一端的厚度大于所述散熱翅片在遠(yuǎn)離所述第一級冷頭一端的厚度。
在其中一個實(shí)施例中,所述第二級冷頭的外表面及所述凸起的外表面采用鍍層或拋光處理。
在其中一個實(shí)施例中,所述低溫保持器結(jié)構(gòu)還包括防輻射漏熱屏、真空隔層及導(dǎo)熱帶,所述防輻射漏熱屏與所述真空隔層依次設(shè)置于所述罐體的外側(cè);所述導(dǎo)熱帶設(shè)置于所述真空隔層中,并連接所述防輻射漏熱屏與所述冷頭部件。
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