[發明專利]磁共振成像系統及其低溫保持器結構

有效

• 申請號: 201711295894.1
• 申請日: 2017-12-08
• 公開（公告）號: CN108037473B
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發明（設計）人: 范若云;郭儼
• 申請（專利權）人: 上海聯影醫療科技股份有限公司
• 主分類號: G01R33/38
• 分類號: G01R33/38
• 代理公司: 北京華進京聯知識產權代理有限公司 11606
• 代理人: 趙永輝

1.一種低溫保持器結構，其特征在于，包括：

罐體，所述罐體的內部設置有空腔，所述空腔用于放置冷卻劑以及浸泡于冷卻劑中的超導線圈，所述超導線圈與所述罐體同軸設置，且所述超導線圈用于產生磁共振成像所需的主磁場；及

冷頭部件，位于所述罐體的側面，所述冷頭部件用于向所述空腔制冷將所述超導線圈保持在低溫超導狀態，所述冷頭部件的底部位置不低于所述空腔的上端面；所述冷頭部件包括第一級冷頭及第二級冷頭，所述第一級冷頭位于所述第二級冷頭的下方，所述第二級冷頭的外表面具有上多個沿所述第二級冷頭徑向方向延伸的凸起，所述凸起為散熱翅片，所述散熱翅片在靠近所述第一級冷頭一端的厚度大于所述散熱翅片在遠離所述第一級冷頭一端的厚度；

所述冷頭部件的頂部朝向所述罐體端部的方向傾斜，且所述冷頭部件在與所述超導線圈軸線平行的豎直面內傾斜。

2.根據權利要求1所述的低溫保持器結構，其特征在于，所述冷頭部件的頂部朝向靠近或遠離所述超導線圈軸線的方向傾斜。

3.根據權利要求1所述的低溫保持器結構，其特征在于，所述冷頭部件的軸線與所述豎直方向之間的夾角范圍為20°～45°。

4.根據權利要求3所述的低溫保持器結構，其特征在于，所述第二級冷頭呈圓臺形設置。

5.根據權利要求4所述的低溫保持器結構，其特征在于，所述第二級冷頭在靠近所述第一級冷頭的一端的直徑大于所述第二級冷頭在遠離所述第一級冷頭一端的直徑。

6.根據權利要求1至5任一項所述的低溫保持器結構，其特征在于，相鄰的兩個所述凸起間形成溝壑。

7.根據權利要求1至5任一項所述的低溫保持器結構，其特征在于，所述散熱翅片由高熱導率材料制成。

8.根據權利要求1至5任一項所述的低溫保持器結構，其特征在于，所述第二級冷頭的外表面及所述凸起的外表面采用鍍層或拋光處理。

9.根據權利要求1所述的低溫保持器結構，其特征在于，所述低溫保持器結構還包括防輻射漏熱屏、真空隔層及導熱帶，所述防輻射漏熱屏與所述真空隔層依次設置于所述罐體的外側；所述導熱帶設置于所述真空隔層中，并連接所述防輻射漏熱屏與所述冷頭部件。

10.一種磁共振成像系統，其特征在于，包括超導線圈及如權利要求1至9任一項所述的低溫保持器結構，所述超導線圈安裝于所述低溫保持器 結構的罐體的空腔中。